微电光的射束引导构件、用于制造所述引导构件的方法和包括所述引导构件的系统技术方案

本发明专利技术涉及一种微电光的射束引导构件、尤其是分束器或者射束合并器，所述微电光的射束引导构件具有至少一个第一主表面、具有至少一个第二主表面、具有主延伸平面、具有多个布置在所述第一主表面上的梁结构、具有多个布置在所述第二主表面上的梁结构并且具有多个膜片，所述膜片分别从所述第一主表面上的梁结构中的一个梁结构延伸至所述第二主表面上的梁结构中的一个梁结构，其中，所述梁结构基本上彼此平行地定向，其中，所述膜片与所述主延伸平面分别张开基本上为45

【技术实现步骤摘要】
微电光的射束引导构件、用于制造所述引导构件的方法和包括所述引导构件的系统


[0001]本专利技术涉及一种微电光的射束引导构件、一种用于制造微电光的射束引导构件的方法和一种包括微电光的射束引导构件的系统。

技术介绍

[0002]已经提出微电光的射束引导构件。

技术实现思路

[0003]提出一种微电光的射束引导构件、尤其是分束器或者射束合并器，该微电光的射束引导构件具有至少一个第一主表面、具有至少一个第二主表面、具有主延伸平面、具有多个布置在第一主表面上的梁结构、具有多个布置在第二主表面上的梁结构并且具有多个膜片，所述膜片分别从第一主表面上的梁结构中的一个梁结构延伸至第二主表面上的梁结构中的一个梁结构，其中，梁结构基本上彼此平行地定向，其中，膜片与主延伸平面分别张开基本上为45
°
的角度。
[0004]在下文中，微电光的射束引导构件也被称为射束引导构件，其中，然而，射束引导构件分别构造为微电光的射束引导构件。优选地，“微电光的射束引导构件”尤其应理解为如下构件：该构件设置用于从电磁辐射中引导射束并且用于在电子光学系统中使用，并且构造为微电构件，该微电构件尤其具有在100μm至几毫米的范围中的尺寸。“设置”尤其应理解为专门设计和/或专门配备。对象设置用于确定的功能，尤其应理解为：该对象在至少一个应用状态和/或运行状态中满足和/或实施这个确定的功能。优选地，射束引导构件的最大厚度最高为3mm、优选最高为2mm、优选最高为1mm并且特别优选最高为0.5mm。尤其是，最大厚度基本上垂直于主延伸平面延伸。“基本上垂直于”尤其应理解为一直线、一平面或者一方向(尤其是包括最大厚度的直线)相对于另一直线、另一平面或者一参考方向(尤其是主延伸平面)的定向，其中，尤其是在投影平面中观察，该直线、该平面或者该方向和另一直线、另一平面或者该参考方向围成90
°
的角度并且该角度具有尤其小于8
°
、有利地小于5
°
并且特别有利地小于2
°
的偏差。优选地，射束引导构件具有基本上均匀的最大厚度，其中，该射束引导构件的最大厚度在沿着主延伸平面的每个点上相比于射束引导构件的最大厚度的平均值具有最大偏差，该最大偏差最高为5％、优选最高为3％、优选最高为2％并且特别优选最高为1％。“主表面”尤其应理解为射束引导构件的如下表面：该表面构造为外表面，并且该表面面向或者包括恰好包围该射束引导构件的最小假想长方体的最大侧面。优选地，第一主表面和/或第二主表面尤其分别基本上平坦地构造。“基本上平坦”尤其应理解为面(尤其是第一主表面和/或第二主表面)的特性，其中，该面的至少95％、优选至少98％并且优选至少99％被假想平面包括。优选地，第一主表面和第二主表面，尤其是第一主表面的和第二主表面的沿着主延伸平面观察的轮廓，构造为彼此全等(kongruent)。优选地，第一主表面和/或第二主表面基本上平行于主延伸平面布置。结构单元(尤其是射束引导构件)
的“主延伸平面”尤其应理解为如下平面：该平面平行于恰好完全包围该结构单元的最小假想长方体的最大侧面并且尤其延伸穿过该长方体的中心。“基本上平行”尤其应理解为一直线、一平面或者一方向(尤其是基本上完全包围主表面中的一个主表面的平面)相对于另一直线、另一平面或者一参考方向(尤其是基本上完全包围主表面中的另一个主表面的平面)的定向，其中，尤其是在投影平面中观察，该直线、该平面或者该方向相对于另一直线、另一平面或者该参考方向具有尤其小于8
°
、有利地小于5
°
并且特别有利地小于2
°
的偏差。优选地，第一主表面和第二主表面基本上彼此平行地布置。优选地，射束引导构件具有长方体形状的基本形状。优选地，膜片和梁结构布置在通过长方体形状的基本形状预给定的假想长方体内。
[0005]优选地，膜片分别由两个膜片层、膜片层之间的至少一个粘接层和布置在膜片层中的一个膜片层上的至少一个反射层构造。优选地，膜片层和/或膜片构造为薄膜膜片或者由薄膜膜片(Pellikel
‑
Membranen)构成。尤其是，膜片层、尤其是薄膜膜片具有最高为5μm、优选最高为3μm并且优选最高为1μm的厚度。能够考虑，所述膜片分别包括多个不同的反射层。膜片层和/或粘接层构造为光学透明且弹性的。尤其是，梁结构之间的膜片层和/或粘接层分别处于已张紧的状态。“基本上为45
°”
尤其在考虑生产公差和材料特性的情况下应理解为40
°
至50
°
的、优选42
°
至48
°
的、并且优选44
°
至46
°
的角度。优选地，射束引导构件包括基体，该基体由梁结构和框架形成。射束引导构件优选包括多个凹槽。凹槽尤其分别从第一主表面延伸朝向第二主表面或者由第二主表面延伸朝向第一主表面。凹槽分别部分地被基体、尤其被梁结构中的至少一个梁结构和框架限界。梁结构优选分别具有外表面。优选地，梁结构的外表面分别与第一主表面或者第二主表面齐平地布置或布置在共同的平面中。尤其是，梁结构的外表面分别构造为第一主表面的或者第二主表面的一部分。优选地，沿着主延伸平面观察，梁结构分别从相应的梁结构的外表面朝向主延伸平面延伸。优选地，梁结构分别具有纵轴线，该纵轴线至少基本上平行于主延伸平面延伸。优选地，梁结构分别沿着相应的梁结构的纵轴线具有不变的横截面。尤其是，梁结构和框架一件式地(einteilig)构造。“一件式”尤其应理解为成形为一个件。优选地，该件由单个的坯件、质量块和/或铸件制造。替代地能够考虑，沿着主延伸平面观察，梁结构至少部分地伸出超过第一主表面或者第二主表面。优选地，基体由硅构造。优选地，膜片、尤其是在梁结构中的张开各个膜片的两个梁结构之间构造的区域中分别基本上平坦平面地构造。尤其是，膜片尤其在构造在梁结构中的张开各个膜片的两个梁结构之间的区域中基本上完全在如下假想平面内延伸：该假想平面尤其与张开相应的膜片的两个梁结构相交和/或与主延伸平面张开基本上为45
°
的角度。
[0006]优选地，基本上平行于主延伸平面定向的、共同张开膜片中的一个膜片的两个梁结构的最小间距基本上是射束引导构件的最大厚度，该最大厚度尤其至少基本上垂直于主延伸平面定向。优选地，膜片分别与第一主表面上的梁结构中的一个梁结构并且与第二主表面上的梁结构中的一个梁结构粘接。尤其是，膜片分别至少部分地限界凹槽中的至少一个凹槽。优选地，膜片分别在每一侧上限界凹槽中的恰好一个凹槽。能够考虑，射束引导构件包括至少一个或者多个另外的膜片，所述膜片在梁结构中的两个梁结构之间延伸。尤其能够考虑，另外的膜片相对于主延伸平面具有与基本上45
°
不同的角度。尤其是，另外的膜片构造为透明的。
[0007]梁结构优选分别具有基本上垂直于主延伸平面定向的最大高度，该最大高度小于射束引导构件的最大厚度的和/或两个主表面的最小间距的50％、优选小于4本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种微电光的射束引导构件、尤其是分束器或射束合并器，所述微电光的射束引导构件具有至少一个第一主表面(16a；16b；16c；16d)、具有至少一个第二主表面(18a；18b；18c；18d)、具有主延伸平面(12a；12b；12c；12d)、具有多个布置在所述第一主表面上的梁结构(20a；20b；20c；20d)、具有多个布置在所述第二主表面上的梁结构(22a；22b；22c；22d)并且具有多个膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)，所述多个膜片分别从所述第一主表面(16a；16b；16c；16d)上的梁结构(20a；20b；20c；20d)中的一个梁结构延伸至所述第二主表面(18a；18b；18c；18d)上的梁结构(22a；22b；22c；22d)中的一个梁结构，其中，所述梁结构(20a、22a；20b、22b；20c、22c；20d、22d)基本上彼此平行地定向，其中，所述膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)与所述主延伸平面(12a；12b；12c；12d)分别张开基本上为45
°
的角度(32a；32b；32c；32d)。2.根据权利要求1所述的微电光的射束引导构件，其特征在于，所述膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)中的至少大部分基本上彼此平行地布置。3.根据权利要求1或2所述的微电光的射束引导构件，其特征在于，所述膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)和所述梁结构(20a、22a；20b、22b；20c、22c；20d、22d)基本上完全布置在所述第一主表面(16a；16b；16c；16d)与所述第二主表面(18a；18b；18c；18d)之间。4.根据上述权利要求中任一项所述的微电光的射束引导构件，其特征在于，所述膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)中的至少两个膜片限界至少一个贯穿引导部(42a；42b；42c；42d)，所述贯穿引导部在两个膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)之间从所述第一主表面(16a；16b；16c；16d)延伸至所述第二主表面(18a；18b；18c；18d)。5.根据权利要求4所述的微电光的射束引导构件，其特征在于，所述至少一个贯穿引导部(42a；42b；42c；42d)在至少一个区域中完全从所述第一主表面(16a；16b；16c；16d)与所述主延伸平面(12a；12b；12c；12d)垂直地延伸至所述第二主表面(18a；18b；18c；18d)。6.根据上述权利要求中任一项所述的微电光的射束引导构件，其特征在于，所述多个膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)包括至少两个膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)，其中，所述膜片(24a、26a、28a、30a；24b、26b、28b；24c、26c、28c、30c；24d、26d、28d)中的每个膜片构造为对于至少一个、尤其是恰好一个波长范围是至少部分反射的。7.一种用于制造尤其根据上述权利要求中任一项所述的微电光的射束引导构件、尤其是分束器或者射束合并器的方法，其中，在至少一个方法步骤(102a)中，尤其通过蚀刻在衬底层(14a)的、尤其是晶片的第一主表面(16a；16b；16c；16d)上和第二主表面(18a；18b；18c；18d)上分别在所述衬底层(14a)中开设多个梁结构(20a、22a；20b、22b；20c、22c；20d、22d)，其中，在所述衬底层(14a)的所述第一主表面(16a；16b；16c；16d)与所述第二主表面(18a；18b；18c；18d)之间形成凹槽(42a...

【专利技术属性】
技术研发人员：S，
申请(专利权)人：罗伯特，
类型：发明
国别省市：