间歇式热处理炉制造技术

本发明专利技术提供一种间歇式热处理炉，能够避免被处理物与炉体接触。间歇式热处理炉具备：炉体，其具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，其配置成能够相对于升降床进行旋转，且能够供被处理物载放；驱动装置，其设置于升降床，对处理台进行旋转驱动；以及传感器，其对载放于处理台的被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测。升降床能够在将侧壁的下端敞开的第一位置与将侧壁的下端封闭的第二位置之间移动。当升降床位于第二位置时，成为在炉体内处理台的上表面露出的状态。传感器配置成：在升降床位于第一位置时，对载放于处理台的被处理物的偏离进行检测。传感器在升降床位于第一位置且驱动装置使处理台旋转的状态下对被处理物的偏离进行检测。行检测。行检测。

【技术实现步骤摘要】
间歇式热处理炉


[0001]本说明书中公开的技术涉及用于对被处理物(例如：陶瓷电容器、陶瓷压电元件、陶瓷电阻器等层叠陶瓷元器件等)进行热处理的间歇式热处理炉。

技术介绍

[0002]例如，专利文献1中公开一种对被处理物进行热处理的间歇式热处理炉。专利文献1的间歇式热处理炉具备：炉体，其具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，其设置于升降床；以及驱动装置，其对处理台进行旋转驱动。被处理物载放于处理台。升降床能够在将侧壁的下端敞开的第一位置与将侧壁的下端封闭的第二位置之间移动。在间歇式热处理炉内配置被处理物时，首先，使升降床移动到第一位置，并在处理台上载放被处理物。然后，载放有被处理物的处理台(即、升降床)从第一位置向第二位置移动。据此，被处理物被配置于炉体内。
[0003]现有技术文献
[0004]专利文献
[0005]专利文献1：日本特开2005
‑
77001号公报

技术实现思路

[0006]专利文献1的间歇式热处理炉中，在处理台载放有被处理物的状态下，升降床从第一位置向第二位置移动。此时，如果被处理物以相对于预先确定的基准载放状态有所偏离的状态载放于处理台，则将升降床从第一位置向第二位置移动时，被处理物会与炉体接触。因此，这样的被处理物的偏离通过作业者目视确认来修正。然而，在将升降床从第一位置向第二位置移动时，有时被处理物以不与炉体接触的程度稍微偏离。这样的稍微偏离在将被处理物配置于炉体内时不会带来影响，但是，在热处理中会因处理台旋转而导致偏离增大，有时在热处理中引起与炉体的接触。对于这样的稍微偏离，作业者很难目视确认。
[0007]本说明书公开避免被处理物与炉体接触的技术。
[0008]本说明书中公开的间歇式热处理炉具备：炉体，该炉体具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，该处理台配置成能够相对于升降床进行旋转，且能够供被处理物载放；驱动装置，该驱动装置设置于升降床，对处理台进行旋转驱动；以及传感器，该传感器对载放于处理台的被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测。升降床能够在将侧壁的下端敞开的第一位置与将侧壁的下端封闭的第二位置之间移动。在升降床位于第二位置时，成为在炉体内处理台的上表面露出的状态。传感器配置成：在升降床位于第一位置时，对载放于处理台的被处理物的偏离进行检测。传感器在升降床位于第一位置且驱动装置使处理台旋转的状态下对被处理物的偏离进行检测。
[0009]上述的间歇式热处理炉中，在升降床位于第一位置时，使处理台旋转，传感器对被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测。因此，能够事先对因热处理中使处理台旋转而导致被处理物与炉体接触进行检测。另外，在使处理台旋转的状态下对位置偏离进行检测。因此，例如即便将检测传感器固定配置，也能够在处理台的整周对偏离进行检测。
附图说明
[0010]图1是表示实施例所涉及的热处理炉的概要结构的剖视图(升降床已下降的状态)。
[0011]图2是表示实施例所涉及的热处理炉的概要结构的剖视图(升降床已上升的状态)。
[0012]图3是设置有处理台的热处理炉的横向剖视图(图2的III－III剖视图)。
[0013]图4是表示在升降床设置有处理台的状态的侧视图(其中，省略驱动装置(20、22)的图示)。
[0014]图5是表示在升降床设置有处理台的状态的俯视图(图4中从上方观察处理台及升降床的图)。
[0015]图6是表示将处理台和驱动机构连结起来的连结部的概要结构的概要图(表示处理台和驱动机构未连结的状态的图)。
[0016]图7是表示将处理台和驱动机构连结起来的连结部的概要结构的概要图(表示处理台和驱动机构已连结的状态的图)。
[0017]图8是表示设置有处理台的升降床处于地板面附近的位置的状态的俯视图(图1的VIII－VIII剖视图)。
[0018]图9是表示设置有处理台的升降床处于地板面附近的位置时的架台的剖视图。
[0019]图10是表示实施例所涉及的热处理炉的控制系统的结构的框图。
[0020]图11是表示对被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测的处理的一例的流程图。
具体实施方式
[0021]以下列出待说明的实施例的主要特征。应予说明，以下记载的技术要素为分别独立的技术要素，单独或者通过各种组合而发挥出技术有用性，并不限定于申请时权利要求中记载的组合。
[0022]本说明书中公开的间歇式热处理炉中，处理台可以具备：第一旋转台，该第一旋转台俯视时具有圆形，并构成为：能够围绕从其中心通过并沿着上下方向延伸的第一轴线进行旋转；以及至少1个第二旋转台，该至少1个第二旋转台在俯视时配置于第一旋转台的内侧，并构成为：能够围绕从其中心通过并沿着上下方向延伸的第二轴线进行旋转。在俯视时，第二旋转台的中心的位置可以处于与第一旋转台的中心的位置不同的位置。驱动装置可以具备：对第一旋转台进行旋转驱动的第一驱动部、以及对第二旋转台进行旋转驱动的第二驱动部。传感器可以在升降床位于第一位置、且第一驱动部使第一旋转台旋转、第二驱动部使第二旋转台旋转的状态下对载放于第二旋转台上的被处理物的偏离进行检测。根据这样的构成，通过处理台具备第一旋转台和第二旋转台，使得被处理物在热处理中进行公转(随着第一旋转台的旋转而围绕第一轴线进行旋转)及自转(随着第二旋转台的旋转而围绕第二轴线进行旋转)，能够对载放于第二旋转台的被处理物均匀地进行热处理。另外，传感器在升降床位于第一位置且使第一旋转台和第二旋转台旋转的状态下对载放于第二旋转台上的被处理物的偏离进行检测。因此，能够事先对热处理中是否因使第一旋转台和第二旋转台旋转而导致被处理物与炉体接触进行检测。
[0023]本说明书中公开的间歇式热处理炉中，可以是被处理物以能够沿着上下方向重叠多个的方式载放于处理台。根据这样的构成，能够一次对多个被处理物进行热处理。另一方面，如果将多个被处理物沿着上下方向重叠，则被处理物偏离的可能性升高。由于通过传感器对被处理物的偏离进行检测，所以，即便在因将被处理物重叠而容易相对于基准载放状态发生偏离的情况下，也能够事先对被处理物的偏离进行检测。
[0024]本说明书中公开的间歇式热处理炉中，传感器可以对俯视处理台时被处理物与规定位置相比向处理台的外周侧偏离进行检测。根据这样的构成，能够事先避免因处理台的旋转而导致被处理物在处理台的外周侧发生倒塌。
[0025]本说明书中公开的间歇式热处理炉中，传感器可以配置成：对高度方向上的规定范围中的被处理物的偏离进行检测。根据这样的构成，能够在高度方向上的规定范围内对被处理物的偏离进行检测。因此，能够更可靠地检测被处理物的偏离。
[0026]实施例
[0027]参照附图，对本实施例所涉及的热处理炉10进行说明。热处理炉10为间歇式的热处理炉，用于对被处理物W进行热处理。如图1～图2所示，热处理炉10具备：架台16、炉体11以及处理台30。
[0028]架台16位于炉体11的下方，对炉体11进行支撑本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种间歇式热处理炉，其中，具备：炉体，该炉体具备顶壁、侧壁及升降床；处理台，该处理台配置成能够相对于所述升降床进行旋转，且能够供被处理物载放；驱动装置，该驱动装置设置于所述升降床，对所述处理台进行旋转驱动；以及传感器，该传感器对载放于所述处理台的所述被处理物相对于基准载放状态的偏离进行检测，所述升降床能够在将所述侧壁的下端敞开的第一位置与将所述侧壁的下端封闭的第二位置之间移动，在所述升降床位于所述第二位置时，成为在所述炉体内所述处理台的上表面露出的状态，所述传感器配置成：在所述升降床位于所述第一位置时，对载放于所述处理台的所述被处理物的偏离进行检测，所述传感器在所述升降床位于所述第一位置且所述驱动装置使所述处理台旋转的状态下对所述被处理物的偏离进行检测。2.根据权利要求1所述的间歇式热处理炉，其中，所述处理台具备：第一旋转台，该第一旋转台俯视时具有圆形，并构成为：能够围绕从其中心通过并沿着上下方向延伸的第一轴线进行旋转；以及至少1个第二旋转台，该至少1个第二旋转台...

【专利技术属性】
技术研发人员：丹羽浩平，有马和彦，中村纪久，
申请(专利权)人：NGK凯伦泰克株式会社，
类型：发明
国别省市：