用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体制造技术

本实用新型专利技术公开了一种用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体，所述金属体的一面开设有若干孔。与现有技术相比，本实用新型专利技术的有益效果是：通过在金属体的一面开设有若干孔。等离子体透过孔，实现多孔的等离子体轰击，然后检测整个金属体截面上的元素分布。之后，对每个孔位的元素含量进行比对分析。可测出各个细分部位的元素含量值，各个孔之间的元素含量是否有差别，以及差别多大。如果将整块金属体分割取样，则检测次数较多，花费较多时间，本实用新型专利技术与之相比，能够减少检测次数，提高检测效率。效率。效率。

【技术实现步骤摘要】
用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体


[0001]本技术涉及一种用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体，属于元素检测


技术介绍

[0002]等离子体检测仪是一种分析仪器，对元素含量进行分析，广泛地应用于ROHS、石油、化工、冶金、矿业、制药、食品、环保、地质、建材、废物处理以及再加工等行业。由于各个行业提供的待检测的样品千差万别，有必要对待检测的样品进行改造，使之适应于等离子体检测仪，并提高检测效率。部分金属制品中各个部位中某种特定元素的分布不均匀，为了检测该特定元素，常常需要将该金属制品切割，分别检测，工作量大，效率低。

技术实现思路

[0003]为克服上述缺点，本技术的目的在于提供一种用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体。能够减少检测次数，提高检测效率。
[0004]为了达到以上目的，本技术采用的技术方案是：一种用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体，所述金属体的一面开设有若干孔。
[0005]本技术进一步的设置为：所述金属体是圆柱体形状，所述孔设在圆柱体形状的金属体的上顶面。
[0006]本技术进一步的设置为：所述若干孔呈环形阵列分布。
[0007]本技术进一步的设置为：所述若干孔的深度依次递增。
[0008]本技术进一步的设置为：所述若干孔的深度相同，孔的深度小于金属体高度的四分之三。
[0009]本技术进一步的设置为：所述孔的深度等于金属体高度的二分之一。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：通过在金属体的一面开设有若干孔。等离子体透过孔，实现多孔的等离子体轰击，然后检测整个金属体截面上的元素分布。之后，对每个孔位的元素含量进行比对分析。可测出各个细分部位的元素含量值，各个孔之间的元素含量是否有差别，以及差别多大。如果将整块金属体分割取样，则检测次数较多，花费较多时间，本技术与之相比，能够减少检测次数，提高检测效率。
[0011]上述说明仅是本技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本技术的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
附图说明
[0012]图1为本技术一较佳实施例所示的用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体的结构示意图。
[0013]图中：1、金属板；2、孔。
具体实施方式
[0014]下面结合附图对本技术的较佳实施例进行详细阐述，以使本技术的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本技术的保护范围做出更为清楚明确的界定。
[0015]参见附图1所示，本实施例中的一种用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体，所述金属体的一面开设有若干孔。
[0016]通过在金属体的一面开设有若干孔。等离子体透过孔，实现多孔的等离子体轰击，然后检测整个金属体截面上的元素分布。之后，对每个孔位的元素含量进行比对分析。可测出各个细分部位的元素含量值，各个孔之间的元素含量是否有差别，以及差别多大。如果将整块金属体分割取样，则检测次数较多，花费较多时间，本技术与之相比，能够减少检测次数，提高检测效率。
[0017]本技术进一步的设置为：所述金属体是圆柱体形状，所述孔设在圆柱体形状的金属体的上顶面。
[0018]为了均匀取样，获得更准确的检测结果，本技术进一步的设置为：所述若干孔呈环形阵列分布。
[0019]为了分析金属体的不同部位的元素含量，本技术进一步的设置为：所述若干孔的深度依次递增。便于观察对比。
[0020]经过试验发现，孔的深度小于金属体高度的四分之三时，孔位的元素含量与其他部位的元素含量形成明显差别，适于分析检测。
[0021]经过试验发现，孔的深度等于金属体高度的二分之一，孔位的元素含量与其他部位的元素含量形成最清晰的差别，最适于分析检测。
[0022]以上实施方式只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人了解本技术的内容并加以实施，并不能以此限制本技术的保护范围，凡根据本技术精神实质所做的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围内。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体，其特征在于，所述金属体的一面开设有若干孔；所述金属体是圆柱体形状，所述孔设在圆柱体形状的金属体的上顶面。2.根据权利要求1所述的用于等离子体检测杂质的多孔分布的金属体，其特征在于，所述若干孔呈环形阵列分布。3.根据权利要求2所述的用于等离子体检测杂质的多孔分布...

【专利技术属性】
技术研发人员：何永强，刘焱，苏耿贤，
申请(专利权)人：苏州博飞克分析技术服务有限公司，
类型：新型
国别省市：