一种4N高纯碳酸钙高纯度提纯工艺制造技术

本发明专利技术公开了一种4N高纯碳酸钙高纯度提纯工艺，具体步骤如下：以含碳酸钙较多矿石为原料经过高温煅烧、水解反应，获得混合少量锶离子及其他杂质的高纯氢氧化钙,然后向高纯氢氧化钙溶液中通入酸液获得钙盐，再加双氧水、氨水、氢氧化钙糊剂进一步除杂，形成高纯钙盐溶液，再加入氨水和二氧化碳气体，沉淀、浸泡、离心甩干、干燥，获得高纯碳酸钙。本发明专利技术整个工艺流程中通过对生产原料的层层净化，有效提高了碳酸钙产品的纯度，达到制备99.99％高纯光学氟化钙单晶材料使用要求，避免进口，防止卡脖子事件发生。脖子事件发生。

【技术实现步骤摘要】
一种4N高纯碳酸钙高纯度提纯工艺


[0001]本专利技术涉及高纯碳酸钙制备领域，具体涉及一种4N高纯碳酸钙高纯度提纯工艺。

技术介绍

[0002]碳酸钙作为填料广泛应用于橡胶、电子、航空、航天、光学镜头(光刻机)、发光材料及高纯钙盐的基础材料等领域。而细粒径、高纯度的碳酸钙能有效提高产品的填充性能和外观，是高品质碳酸钙的发展趋势。现在一种4N高纯碳酸钙广泛应用于高纯光学氟化钙单晶材料、荧光材料、电子填充材料、高纯钙盐等基础材料。高纯光学氟化钙单晶材料是以高纯碳酸钙为原料合成，高纯碳酸钙纯度决定了高纯氟化钙纯度，现国内市场碳酸钙含量≤99.9％，主要是杂质铁、镁、锶含量300
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1500PPm之间，不能满足高纯氟化钙(≥99.99％)光学材料需求。
[0003]申请号为CN200510024326.9的中国专利公开了一种高纯碳酸钙的制备方法，该方法是采用化学合成法制造高纯度碳酸钙，将含碳酸根离子CO
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的原料及含钙离子Ca
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的原料分别溶解后，经除杂质处理，过滤掉杂质的本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种4N高纯碳酸钙高纯度提纯工艺，其特征在于，包括以下步骤：(1)高温煅烧，将碳酸钙矿石原料破碎成块，放入高温煅烧炉中煅烧2
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4小时，自然冷却400
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500度，得到氧化钙及杂质；(2)水解反应，将得到的氧化钙及杂质分批次倒入定量纯水中发生剧烈水解反应，倒水稀释搅拌均匀放置沉淀，溶液保持50
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60度，清洗沉淀物数次后将沉淀物低温110
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130度干燥；(3)将得到的沉淀物再进行步骤(1)高温煅烧、(2)水解反应数次，得到氢氧化钙及杂质；(4)酸碱中和，将得到的氢氧化钙及杂质与酸液溶解，溶液PH保持1
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4，得到钙盐溶液，调节钙盐溶液浓度为1
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1.3g/L，然后稀释，加入双氧水，加热煮沸倒入氨水调节PH值8
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10，放置1
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4小时，保持溶液温度50
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60度；(5)所得溶液过滤，滤液与氨水、二氧化碳反应，溶液保持PH≥8，反应完成后放置一段时间，碳酸钙颗粒度大沉淀快，去除母液加入纯水浸泡数次，将沉淀物干燥数小时，得到高纯度碳酸钙。2.根据权利要求1所述的一种4N高纯碳酸...

【专利技术属性】
技术研发人员：甄西合，吴为民，徐超，赵丽媛，徐悟生，朱逢锐，熊加丽，李琛，姜美燕，
申请(专利权)人：秦皇岛微晶科技有限公司，
类型：发明
国别省市：