冷却结构及分析仪器制造技术

本发明专利技术涉及一种冷却结构及分析仪器，分析仪器包括机身和冷却结构。冷却结构包括输入组件、壳体和冷却件，输入组件上形成有进气通道，进气通道用于激发样品气体，以生成激发态样品气体；壳体内形成有容置腔，输入组件穿设在容置腔内，壳体上开设有排气口，进气通道通过容置腔与排气口相连通，排气口用于排出样品气体；冷却件设置在容置腔内，并套设在输入组件上，冷却件能够对进气通道内的激发态样品气体冷却。样品气体在进气通道内，生成激发态样品气体并产生大量热量通过进气通道进入到容置腔。冷却件对输入组件进行冷却。避免高温将输入组件融毁。进而降低冷却结构的整体使用成本，保证冷却效果，进一步保证分析仪器的正常使用和工作寿命。使用和工作寿命。使用和工作寿命。

【技术实现步骤摘要】
冷却结构及分析仪器


[0001]本专利技术涉及检测分析设备
，特别是涉及冷却结构及分析仪器。

技术介绍

[0002]电感耦合等离子体是由高频电流经感应线圈产生高频电磁场，使工作气体形成等离子体，并呈现火焰状放电，火焰温度范围为6000K至10000K，是一种电荷放电，而不是化学火焰。样品由载气带入等离子体炬后会发生蒸发、分解、原子化和电离。是一种优越的激发光源和离子源。
[0003]电感耦合等离子体是一种优越的激发光源和离子源，样品由载气带入等离子体炬后会发生蒸发、分解、原子化和电离。电感耦合等离子体电离源一般配有光谱检测器或者质谱检测器。这两者都可以同时分析多个样品、精度高、准确度好、应用范围广。但目前现有的电感耦合等离子体冷却结构整体使用成本较高，冷却过程存在二次放电干扰，导致冷却效果较差。

技术实现思路

[0004]基于此，有必要针对上述问题，提供一种冷却效果更好的冷却结构及分析仪器。
[0005]一种冷却结构，包括输入组件、壳体和冷却件，所述输入组件上形成有进气通道，所述进气通道用于激发样品气体，以生成激发态样品气体；所述壳体内形成有容置腔，所述输入组件穿设在所述容置腔内，所述壳体上开设有排气口，所述进气通道通过所述容置腔与所述排气口相连通，所述排气口用于排出所述样品气体；所述冷却件设置在所述容置腔内，并套设在所述输入组件上，所述冷却件能够对所述进气通道内的激发态样品气体冷却。
[0006]在一个实施例中，所述冷却件呈螺旋状套设在所述输入组件的外壁上。
[0007]在一个实施例中，所述壳体上还开设有第一进气孔，所述第一进气孔和所述排气口间隔开设，并和所述容置腔相连通，所述第一进气孔用于向所述容置腔内输入冷却气体。
[0008]在一个实施例中，所述壳体上还开设有进液口和出液口，所述进液口用于输入冷却液，所述出液口用于流出冷却液，所述进液口和所述出液口间隔开设，所述冷却件内形成有冷却通道，所述冷却通道的两端分别与所述进液口和所述出液口相连通。
[0009]在一个实施例中，所述进液口处和所述出液口处为金属结构时，所述出液口处用于连接接地线。
[0010]在一个实施例中，所述冷却件为金属结构件。
[0011]在一个实施例中，所述输入组件包括辅助件和输入件，所述辅助件内形成有辅助腔，所述输入件穿设在所述辅助腔内，所述输入件内形成有所述进气通道，所述进气通道通过所述辅助腔与所述容置腔相连通，所述冷却件套设在所述辅助件上。
[0012]在一个实施例中，所述辅助件上开设有第二进气孔，所述第二进气孔与所述辅助腔相连通，所述第二进气孔用于向所述辅助腔内输入冷却气体。
[0013]在一个实施例中，所述辅助件的一端部穿设在所述容置腔内，所述辅助件的另一
端部位于所述容置腔外，所述第二进气孔开设在所述辅助件的另一端上。
[0014]在一个实施例中，所述辅助件为管状结构，管状的所述辅助件靠近所述排气口的一端的直径朝所述排气口的方向趋于增大。
[0015]一种分析仪器，包括机身和如上所述的冷却结构，所述机身内形成有安装腔；所述冷却结构安装在所述安装腔内。
[0016]上述冷却结构及分析仪器，将样品气体输入至进气通道内，生成激发态样品气体。在生成大量激发态样品气体的过程中，会产生大量热量并通过进气通道进入到容置腔内。容置腔内的冷却件对输入组件和进气通道内的激发态样品气体进行冷却，避免高温将输入组件融毁。进而降低冷却结构的整体使用成本，保证冷却效果，进一步保证分析仪器的正常使用和工作寿命。
附图说明
[0017]构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。
[0018]为了更清楚地说明本专利技术实施例中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为一实施例中的冷却结构的结构示意图。
[0020]图中各元件标记如下：
[0021]10、冷却结构；100、输入组件；110、输入件；111、输入通道；120、辅助件；121、辅助腔；122、第二进气孔；200、壳体；210、容置腔；220、排气口；230、第一进气孔；240、进液口；250、出液口；300、冷却件；310、冷却通道。
具体实施方式
[0022]为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术。但是本专利技术能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似改进，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0023]参阅图1，一实施例中的分析仪器，包括机身和冷却结构10，所述机身内形成有安装腔；所述冷却结构10安装在所述安装腔内。冷却结构10包括输入组件100、壳体200和冷却件300，所述输入组件100上形成有进气通道，所述进气通道用于激发样品气体，以生成激发态样品气体；所述壳体200内形成有容置腔210，所述输入组件100穿设在所述容置腔210内，所述壳体200上开设有排气口220，所述进气通道通过所述容置腔210与所述排气口220相连通，所述排气口220用于排出所述样品气体；所述冷却件300设置在所述容置腔210内，并套设在所述输入组件100上，所述冷却件300能够对所述进气通道内的激发态样品气体冷却。
[0024]将样品气体输入至进气通道内，生成激发态样品气体。在生成大量激发态样品气体的过程中，会产生大量热量并通过进气通道进入到容置腔210内。容置腔210内的冷却件300对输入组件100和进气通道内的激发态样品气体进行冷却，避免高温将输入组件100融
毁。进而降低冷却结构10的整体使用成本，保证冷却效果，进一步保证分析仪器的正常使用和工作寿命。
[0025]具体，在进气通道内有等离子体矩焰，能够使样品气体蒸发、分解、原子化和电离，以实现样品气体的激发态。
[0026]在一个实施例中，所述冷却件300呈螺旋状套设在所述输入组件100的外壁上。冷却件300的形状为螺旋状，螺旋状的冷却件300套设在输入组件100的外壁上，或者输入组件100能够穿设在螺旋状的冷却件300中。螺旋状的冷却件300能够增大和输入组件100的外壁的接触面积，同时保证对输入组件100能够全面环绕进行冷却，保证冷却均匀。进一步提高冷却件300对输入组件100的冷却效果。从而提高分析仪器的正常使用和工作寿命。
[0027]在一个实施例中，所述壳体200上还开设有第一进气孔230，所述第一进气孔230和所述排气口220间隔开设，并和所述容置腔210相连通，所述第一进气孔230用于向所述容置腔210内输入冷却气体。由此本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种冷却结构，其特征在于，所述冷却结构包括：输入组件，所述输入组件上形成有进气通道，所述进气通道用于激发样品气体，以生成激发态样品气体；壳体，所述壳体内形成有容置腔，所述输入组件穿设在所述容置腔内，所述壳体上开设有排气口，所述进气通道通过所述容置腔与所述排气口相连通，所述排气口用于排出所述样品气体；及冷却件，所述冷却件设置在所述容置腔内，并套设在所述输入组件上，所述冷却件能够对所述进气通道内的激发态样品气体冷却。2.根据权利要求1所述的冷却结构，其特征在于，所述冷却件呈螺旋状套设在所述输入组件的外壁上。3.根据权利要求1所述的冷却结构，其特征在于，所述壳体上还开设有第一进气孔，所述第一进气孔和所述排气口间隔开设，并和所述容置腔相连通，所述第一进气孔用于向所述容置腔内输入冷却气体。4.根据权利要求1
‑
3中任一项所述的冷却结构，其特征在于，所述壳体上还开设有进液口和出液口，所述进液口用于输入冷却液，所述出液口用于流出冷却液，所述进液口和所述出液口间隔开设，所述冷却件内形成有冷却通道，所述冷却通道的两端分别与所述进液口和所述出液口相连通。5.根据权利要求4所述的冷却结构，其特征在于，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：宗涛，魏君，许春华，谭国斌，
申请(专利权)人：广州禾信仪器股份有限公司，
类型：发明
国别省市：