光学膜和超短焦正投影系统技术方案

技术编号:34998988 阅读:51 留言:0更新日期:2022-09-21 14:47
本实用新型专利技术提出了一种光学膜,包括:基底层;反射层,所述反射层设在所述基底层的一个表面上,所述反射层远离所述基底层的表面包括多个连续的微结构单元,所述微结构单元沿厚度方向的横截面呈偏态分布图形形状,所述微结构单元远离所述基底层的表面包括第一曲面和第二曲面,所述第一曲面沿长度方向的弧长小于所述第二曲面沿长度方向的弧长;吸光层,所述吸光层覆盖在所述第二曲面靠近所述基底层的至少部分区域上,所述吸光层覆盖在所述第一曲面上。该超短焦正投影用光学膜结构简单,易于脱模加工,良品率高,成本低;同时抗环境光能力强,成像画面更清晰、对比度更高。对比度更高。对比度更高。

【技术实现步骤摘要】
光学膜和超短焦正投影系统


[0001]本申请涉及投影
,具体地,涉及一种光学膜和超短焦正投影系统。

技术介绍

[0002]超短焦投影机作为近几年推出的新型投影仪,因其投影距离短(一般在20厘米

50厘米)、无需布线、安装方便等优势而备受消费者青睐。目前与超短焦投影机配套使用的幕布大多是采用光学锯齿结构构成,锯齿结构的上侧面为黑色的光线吸收层,锯齿结构的下侧面为涂有特定功能涂料结构的光反射层。通过此特殊棱镜结构,可以将上方的干扰光源进行吸收并将下方超短焦投影机投射的光源反射到观看者的眼中,使观看者在明亮的环境中依旧能看到清晰的投影画面。相关技术中的超短焦正投的抗光投影幕,抗光投影幕包括基材层、线性光栅层、金属反光层和表面硬化层,线性光栅层为呈条形纹理状结构间隔分布在基材层表面,每条条形纹理状结构之间的横断面呈接近90
°
的连续三角形锯齿纹理结构。这种结构具有尖锐的棱角,在加工过程中尤其是脱模时容易造成棱角缺失、棱角高度不一致等表观弊病,特别是宽幅产品此现象更加凸出。光学锯齿结构存在的问题还会进一步影响其他功能层(如反射层、吸收层等对光学结构要求较高的涂层)的涂覆效果,造成涂层厚度不均一、拉丝较多、明暗条纹明显等问题,极大的降低了产品的良品率,增加其生产成本。
[0003]因此,目前作为抗光投影幕用的光学膜还需进一步改进。

技术实现思路

[0004]本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此,本技术的一个目的在于提出一种光学膜,该光学膜结构简单,易于脱模加工,良品率高,成本低;而且抗环境光能力强,从而使成像画面对比度更高,画面细节更加清晰。
[0005]在本技术的一个方面,提出了一种光学膜,包括:基底层;反射层,所述反射层设在所述基底层的一个表面上,所述反射层远离所述基底层的表面包括多个连续的微结构单元,所述微结构单元沿厚度方向的横截面呈偏态分布图形形状,所述微结构单元远离所述基底层的表面包括第一曲面和第二曲面,所述第一曲面沿长度方向的弧长小于所述第二曲面沿长度方向的弧长;吸光层,所述吸光层覆盖在所述第二曲面靠近所述基底层的至少部分区域上,所述吸光层覆盖在所述第一曲面上。由此,反射层本身具有微结构单元,既可以控制光路方向又可以进行光线反射,整个产品结构层数少;同时微结构单元不具有尖锐的棱角,都是曲面连接,因此其更易于脱模加工,良品率更高,生产成本更低。
[0006]另外,根据本技术上述实施例的光学膜还可以具有如下附加的技术特征:
[0007]在本技术的一些实施例中,所述吸光层远离所述反射层的表面为直面和/或曲面。
[0008]在本技术的一些实施例中,所述吸光层远离所述反射层的表面为凹凸不平结构。
[0009]在本技术的一些实施例中,所述微结构单元沿厚度方向的横截面形成有最高
点和最低点,所述最低点靠近所述基底层,所述最高点和所述最低点沿垂直于所述基底层方向的距离为160μm~240μm。
[0010]在本技术的一些实施例中,所述最低点与所述基底层上表面之间的距离为100μm~400μm。
[0011]在本技术的一些实施例中,相邻两个所述最低点之间的距离为270μm~330μm。
[0012]在本技术的一些实施例中,所述第二曲面沿长度方向的弧长与所述第一曲面沿长度方向的弧长的比值为(1~2):1。
[0013]在本技术的一些实施例中,所述基底层的厚度不大于150μm。
[0014]在本技术的另一个方面,提出了一种超短焦正投影系统,包括超短焦投影机和前述的光学膜。由此,该超短焦正投影系统具有前述的光学膜的全部特征以及优点,在此不再赘述。总的来说,至少具有成像画面对比度更高,画面细节更加清晰的优点。
[0015]在本技术的一些实施例中,所述吸光层覆盖所述第二曲面的面积小于所述超短焦投影机入射光线在所述第二曲面上形成的阴影的面积。
附图说明
[0016]本技术的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解,其中:
[0017]图1显示了本技术一个实施例的光学膜的结构示意图;
[0018]图2显示了本技术一个实施例的超短焦正投影系统的原理示意图;
[0019]图3显示了本技术另一个实施例的光学膜的结构示意图;
[0020]图4显示了本技术另一个实施例的光学膜的结构示意图;
[0021]图5显示了本技术另一个实施例的反射层的结构示意图。
[0022]附图标记:
[0023]1000:光学膜;1100:基底层;1200:反射层;1210:微结构单元;1211:第一曲面;1212:第二曲面;1300:吸光层。
具体实施方式
[0024]下面详细描述本技术的实施例。下面描述的实施例是示例性的,仅用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。实施例中未注明具体技术或条件的,按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者,均为可以通过市购获得的常规产品。
[0025]在本技术的一个方面,参考图1,提出了一种光学膜1000,该光学膜1000包括基底层1100、反射层1200和吸光层1300;其中,反射层1200设在基底层1100的一个表面上,反射层1200远离基底层1100的表面包括多个连续的微结构单元1210,微结构单元1210沿厚度方向的横截面呈偏态分布图形形状,微结构单元1210远离基底层1100的表面包括第一曲面1211和第二曲面1212,第一曲面1211沿长度方向的弧长小于第二曲面1212沿长度方向的弧长;吸光层1300覆盖在第二曲面1212靠近基底层1100的至少部分区域上,吸光层1300覆盖在第一曲面1211上。由此,该光学膜1000结构简单,易于脱模加工,良品率高,成本低;而
且抗环境光能力强,从而使成像画面对比度更高,画面细节更加清晰。
[0026]下面对本申请能够实现上述有益效果的原理进行详细说明:
[0027]如前所述,目前的光学膜1000的线性光栅层的每条条形纹理状结构之间的横断面呈接近90
°
,加工过程中尤其是脱模时容易造成棱角的缺失、棱角高度不一致等表观弊病,进而影响其他功能层的涂覆效果,降低产品的良品率,增加生产成本。本申请提出的光学膜1000,光学膜1000包括多个微结构单元1210,微结构单元1210在厚度方向的横截面呈偏态分布图形形状,相应的,多个微结构单元1210形成的反射层1200远离基底层1100的表面呈波浪形,波浪形的凸起和凹陷处均为圆滑的曲面,加工过程中更容易脱模,进而提高产品良率,降低生产成本;光学膜1000在使用过程中,参考图2,投影装置A产生的投影光束先投射至第二曲面1212没有被吸光层1300覆盖的区域,经第二曲面1212反射后进入观看者R的本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学膜,其特征在于,包括:基底层;反射层,所述反射层设在所述基底层的一个表面上,所述反射层远离所述基底层的表面包括多个连续的微结构单元,所述微结构单元沿厚度方向的横截面呈偏态分布图形形状,所述微结构单元远离所述基底层的表面包括第一曲面和第二曲面,所述第一曲面沿长度方向的弧长小于所述第二曲面沿长度方向的弧长;吸光层,所述吸光层覆盖在所述第二曲面靠近所述基底层的至少部分区域上,所述吸光层覆盖在所述第一曲面上。2.根据权利要求1所述的光学膜,其特征在于,所述吸光层远离所述反射层的表面为直面和/或曲面。3.根据权利要求2所述的光学膜,其特征在于,所述吸光层远离所述反射层的表面为凹凸不平结构。4.根据权利要求1~3任一项所述的光学膜,其特征在于,所述微结构单元沿厚度方向的横截面形成有最高点和最低点,所述最低点靠近所述基底层,所述最高点和所述...

【专利技术属性】
技术研发人员:安曼成志秀许剑常瑞雪李永杰赵义丽
申请(专利权)人:中国乐凯集团有限公司
类型:新型
国别省市:

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