阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，该阵列基板包括基底以及阵列排布在基底上的多个像素电极，多个像素电极位于像素区，遮光层设置在基底上，且在对应像素区的位置设置有开口，开口暴露出像素电极，配向膜设置在开口内，且位于像素电极上，配向膜远离像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，第一弧形凸起的曲率半径自开口的两侧向开口的中心逐渐减小，以在像素区形成更高厚度的配向膜，以增大配向膜的厚度，进而在摩擦配向形成沟槽时，能够在像素区形成良好的摩擦效果，提高像素区配向膜的锚定力，避免像素区液晶紊乱导致的漏光问题和显示异常，以缓解现有采用BPS技术的显示面板存在的像素区漏光的问题。显示面板存在的像素区漏光的问题。显示面板存在的像素区漏光的问题。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示面板


[0001]本申请涉及显示
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

技术介绍

[0002]BPS(B1ack photo spacer，黑色光阻垫片材料)技术是LCD(Liquid Crystal Display，液晶显示器)技术中一种把BM(黑色矩阵)和PS(间隙控制)两道制程合成一道制程的技术。该技术可以在彩膜基板侧或者阵列基板侧执行BPS制程，比如在阵列基板侧执行BPS制程可以大幅度提高显示面板的开口率。但同时也存在显示面板在暗态下像素区密布点状漏光的问题，而漏光会严重影响显示面板的对比度和正常显示。

技术实现思路

[0003]本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，以缓解现有采用BPS技术的显示面板存在的像素区漏光的技术问题。
[0004]为解决上述问题，本申请提供的技术方案如下：
[0005]本申请实施例提供一种阵列基板，其包括阵列排布的多个像素区，所述阵列基板还包括：
[0006]基底；
[0007]多个像素电极，阵列排布在所述基底上，且位于所述像素区；
[0008]遮光层，设置在所述基底上，且在对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及
[0009]配向膜，设置在所述开口内，且位于所述像素电极上；
[0010]其中，所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小。
[0011]在本申请实施例提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括疏水膜层，所述疏水膜层覆于所述遮光层的部分表面，且所述配向膜靠近所述遮光层的两侧与所述疏水膜层接触。
[0012]在本申请实施例提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括设置在所述开口内的辅助层，所述辅助层位于所述配向膜与所述像素电极之间，所述辅助层与所述配向膜接触的表面呈第二弧形凸起。
[0013]在本申请实施例提供的阵列基板中，所述第二弧形凸起的曲率半径大于所述第一弧形凸起的曲率半径。
[0014]在本申请实施例提供的阵列基板中，所述阵列基板还包括亲水膜层，所述亲水膜层覆于所述遮光层的部分表面，所述辅助层靠近所述遮光层的两侧与所述亲水膜层接触。
[0015]在本申请实施例提供的阵列基板中，所述辅助层的材料包括疏水材料。
[0016]在本申请实施例提供的阵列基板中，所述开口在远离所述像素电极侧的开口大小小于所述开口在靠近所述像素电极侧的开口大小。
[0017]本申请实施例还提供一种阵列基板制备方法，其包括：
[0018]提供基底，所述基底上划分有阵列排布的多个像素区；
[0019]在所述基底上制备多个像素电极，多个所述像素电极位于所述像素区；
[0020]在所述基底上制备遮光层，所述遮光层对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及
[0021]在所述开口内制备配向膜，所述配向膜位于所述像素电极上，且所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小。
[0022]在本申请实施例提供的阵列基板制备方法中，所述在所述基底上制备遮光层的步骤，包括：
[0023]在所述基底上制备BPS材料层；
[0024]图案化所述BPS材料层以形成所述遮光层，所述遮光层在对应所述像素区的位置形成有开口，所述开口暴露出所述像素电极，且所述开口在远离所述像素电极侧的开口大小小于所述开口在靠近所述像素电极侧的开口大小。
[0025]本申请实施例还提供一种显示面板，其包括相对设置的第一基板和第二基板，所述第一基板包括前述实施例其中之一的阵列基板。
[0026]本申请的有益效果为：本申请提供的阵列基板及其制备方法以及显示面板中，所述阵列基板包括基底以及阵列排布在所述基底上的多个像素电极，多个所述像素电极位于所述像素区，遮光层设置在所述基底上，且在对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极，配向膜设置在所述开口内，且位于所述像素电极上，所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小，以在像素区形成更高厚度的配向膜，以增大配向膜的厚度，进而在摩擦配向形成沟槽时，能够在像素区形成良好的摩擦效果，提高像素区配向膜的锚定力，避免像素区液晶紊乱导致的漏光问题和显示异常，解决了现有采用BPS技术的显示面板存在的像素区漏光的问题。
附图说明
[0027]为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是专利技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0028]图1为本申请实施例提供的阵列基板的一种俯视结构示意图。
[0029]图2为本申请实施例提供的阵列基板的部分剖面结构示意图。
[0030]图3为图2中配向膜和辅助层的细节结构示意图。
[0031]图4为图2中遮光层的细节结构示意图。
[0032]图5为本申请实施例提供的阵列基板制备方法的流程示意图。
[0033]图6为本申请实施例提供的基底的剖面结构示意图。
[0034]图7为在图6上制备像素电极的剖面结构示意图。
[0035]图8为在图7上制备遮光层的剖面结构示意图。
[0036]图9为在图8上制备辅助层的剖面结构示意图。
具体实施方式
[0037]以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本申请可用以实施的特定实施例。本申请所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本申请，而非用以限制本申请。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。在附图中，为了清晰理解和便于描述，夸大了一些层和区域的厚度。即附图中示出的每个组件的尺寸和厚度是任意示出的，但是本申请不限于此。
[0038]针对现有采用BPS技术的显示面板存在的像素区漏光的问题，专利技术人在研究中发现主要是由于像素区的配向膜的厚度较薄，摩擦配向后对液晶分子的锚定力不足导致像素区的液晶分子絮乱，进而使显示面板的像素区漏光。为此，本申请的提出了一种阵列基板及其制备方法以及显示面板以解决显示面板的像素区漏光的问题。
[0039]请结合参照图1至图4，图1为本申请实施例提供的阵列基板的一种俯视结构示意图，图2为本申请实施例提供的阵列基板的部分剖面结构示意图，图3为图2中配向膜和辅助层的细节结构示意图，图4为图2中遮光层的细节结构示意图。所述阵列基板100包括阵列排布的多个像素区PD，所述像素区PD内设置有像素。所述阵列基板100还包括基底10以及设置在所述基底10上的多个像本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括阵列排布的多个像素区，所述阵列基板还包括：基底；多个像素电极，阵列排布在所述基底上，且位于所述像素区；遮光层，设置在所述基底上，且在对应所述像素区的位置设置有开口，所述开口暴露出所述像素电极；以及配向膜，设置在所述开口内，且位于所述像素电极上；其中，所述配向膜远离所述像素电极的一侧表面呈第一弧形凸起，所述第一弧形凸起的曲率半径自所述开口的两侧向所述开口的中心逐渐减小。2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括疏水膜层，所述疏水膜层覆于所述遮光层的部分表面，且所述配向膜靠近所述遮光层的两侧与所述疏水膜层接触。3.根据权利要求2所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述开口内的辅助层，所述辅助层位于所述配向膜与所述像素电极之间，所述辅助层与所述配向膜接触的表面呈第二弧形凸起。4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第二弧形凸起的曲率半径大于所述第一弧形凸起的曲率半径。5.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括亲水膜层，所述亲水膜层覆于所述遮光层的部分表面，所述辅助层靠近所述遮光层的两侧与所述亲水膜层接触。6.根据权利要求5所述的阵列基板，其特征在...

【专利技术属性】
技术研发人员：王佳琳，
申请(专利权)人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：