一种双面导电膜及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种双面导电膜及其制备方法，双面导电膜包括基材层，所述基材层包含第一光学面和第二光学面，所述第一光学面上设置有第一导电层，所述第二光学面上设置有第二导电层，所述基材层含有UV阻隔剂；制备方法包括：S1）将包含聚合物、溶剂I和所述UV阻隔剂的涂布液I通过狭缝精密涂布技术在离型膜表面进行涂布和烘干后剥离去除离型膜，得到基材层I；S2）对所述基材层I进行预收缩处理，再对基材层I的第一光学面和第二光学面进行表面平整度处理，得到基材层II。本发明专利技术的制备方法简单，可有效解决现有技术柔性基材双面涂布导电层后做激光蚀刻工艺过程时，激光容易对另一面的导电层造成灼伤的问题。造成灼伤的问题。造成灼伤的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种双面导电膜及其制备方法


[0001]本专利技术属于薄膜
，涉及一种双面导电膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]近年来，随着OLED在移动智能手机和平板电脑的发展，需要使用于显示器的基底减薄且减重。一直以来，玻璃材料通常被用作在用于移动智能设备的液晶显示器主要部件，具有优异机械特性以及光学特性的材料。但是由于玻璃由于其自身的密度较大进而导致移动设备的重量增加，并且由于外部冲击或者跌落而存在破裂的缺陷。因此，正在研究高分子塑料树脂作为玻璃的替代物。高分子塑料树脂组合物是轻质的，能够抵抗外部较大的冲击力或者抗摔能力，而且具备更好的耐弯折性能，从而适用于追求更轻智能移动端柔性触控的趋势。
[0003]更重要的是高分子塑料树脂组合物在后道涂布或镀膜导电层的工序中，可明显提升生产效率。柔性光学薄膜基材（即双面导电膜）目前是柔性折叠触控载体的首选材料，具备极大的市场潜力和经济回报率。
[0004]柔性光学薄膜基材（即双面导电膜）的制备过程中，柔性基材（即基材薄膜）双面涂布导电层后做激光蚀刻工艺过程时，激光容易对另一面的导电层造成灼伤。目前解决该问题的技术方案主要有两种：（1）基材生产厂家在基材中加入普通UV阻隔剂，但大大降低基材薄膜的透过率，影响市场正常使用；（2）现有涂布加工厂在柔性基材两侧分别涂布UV阻隔层HC，产品由自上而下顺序排列的第一导电层、阻隔激光UVHC层、基材层、阻隔激光UVHC层、第二导电层组成，虽然可以起到阻隔UV的功效，但耐弯折性均受到了影响，且加工步骤过于复杂，产品良率低、生产成本高，导致经济效益和加工性差。
[0005]因此，研究一种双面导电膜及其制备方法，以解决上述问题具有十分重要意义。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的是解决现有技术中存在的问题，提供一种双面导电膜及其制备方法。
[0007]为达到上述目的，本专利技术采用的技术方案如下：一种双面导电膜，包括基材层，所述基材层包含第一光学面和第二光学面，所述第一光学面上设置有第一导电层，所述第二光学面上设置有第二导电层，所述基材层含有UV阻隔剂。
[0008]本专利技术通过在基材层中添加UV阻隔剂有效解决了现有技术蚀刻第一导电层过程中激光容易灼伤第二导电层的问题。
[0009]作为优选的技术方案：如上所述的一种双面导电膜，所述UV阻隔剂的含量占所述基材层0.1~3wt%；UV阻隔剂的含量低于0.1wt%时，UV阻隔效果下降；UV阻隔剂的含量高于3wt%时，影响基材层整体透过率且增加成本。
[0010]本专利技术可实现基材层对波长段352~356nm的紫外光的透过率（测试方法参考JIS K7361
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1）小于1%，对波长段362~366nm的紫外光的透过率（测试方法参考JIS K7361
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1）小于3%，可见光透过率（测试方法参考JIS K
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7105）大于92%，即本专利技术可在不影响整个导电膜透过率的同时解决蚀刻第一导电层过程中激光容易灼伤第二导电层的问题以及UV固化过程中对第二导电层感光银材料的影响。
[0011]如上所述的一种双面导电膜，所述UV阻隔剂的含量占所述基材层0.8~1.5wt%。
[0012]如上所述的一种双面导电膜，所述基材层的材质选自CPI（无色聚酰亚胺）、COP（聚环烯烃）、TPU（聚氨酯弹性体）、PC（聚碳酸酯）中的一种或几种；所述基材层的厚度为10~50μm。
[0013]如上所述的一种双面导电膜，所述UV阻隔剂选自JRSorb BP
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12、JRSorb UV
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P、JRSorb 326、TINUVIN 460、TINUVIN 477、Songsorb CS400、Songsorb CS 329、Eversorb 45中的一种或几种。
[0014]如上所述的一种双面导电膜，所述UV阻隔剂包含第一UV阻隔剂与第二UV阻隔剂，所述第一UV阻隔剂的紫外线阻隔波段范围为352~356nm，所述第二UV阻隔剂的紫外阻隔波段范围为362~366nm，所述第一UV阻隔与所述第二U阻隔剂进行复配，所述复配的质量比范围为1.5:1~2.5:1；所述第一UV阻隔剂能够有效阻隔激光对另一侧导电层的灼伤，所述第二UV阻隔剂能有效解决在树脂固化过程中UV光照对另一侧导电层的破坏，所述第一UV阻隔与所述第二U阻隔剂复配比范围低于1.5:1无法有效阻隔范围352~356nm紫外线波段的同时还会使整个导电膜的透过率降低，当所述第一UV阻隔与所述第二U阻隔剂复配比范围高于2.5:1时，无法有效阻隔范围352~356nm紫外线波段。
[0015]如上所述的一种双面导电膜，所述第一导电层或所述第二导电层的厚度范围为30~300nm，具体厚度可根据阻值要求进行调整。
[0016]如上所述的一种双面导电膜，所述第一导电层或所述第二导电层包含纳米银丝，所述纳米银丝的线径比大于1000；所述长径比选择大于1000导电层的电阻小，导电性能优异。
[0017]如上所述的一种双面导电膜，所述第一光学面和第二光学面上设置有平整度调整层，所述平整度调整层的表面粗糙度Ra≤10nm；如图1所示，当第一光学面11
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1和第二光学面11
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2都未设置有平整度调整层时，最终双面导电膜自上而下由第一导电层31、基材层11、第二导电层32组成；如图2所示，当仅在第一光学面11
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1设置有平整度调整层时，最终双面导电膜自上而下由第一导电层31、第一平整度调整层21、基材层11、第二导电层32组成；如图3所示，当同时在第一光学面11
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1和第二光学面11
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2设置有平整度调整层时，最终双面导电膜自上而下由第一导电层31、第一平整度调整层21、基材层11、第二平整度调整层22、第二导电层32组成。
[0018]如上所述的一种双面导电膜，还包括第一保护膜和第二保护膜，所述第一保护膜位于远离所述第一光学面的所述第一导电层的一侧，所述第二保护膜位于远离所述第二光学面所述第二导电层的一侧。
[0019]如上所述的一种双面导电膜，所述第一保护膜选自亚克力保护膜、PE保护膜中的一种，所述第一保护膜的厚度范围为30~80μm；所述第二保护膜选自亚克力保护膜、PE保护膜中的一种，所述第二保护膜的厚度范围为20~50μm。
[0020]如上所述的一种双面导电膜，所述基材层的雾度（测试方法参考JIS K
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7105）不超过0.2%，双折射（测试方法参考JIS K
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7105）小于20nm，拉伸强度（测试方法参考ASTM D882）大于80MPa，断裂伸长率（测试方法参考ASTM D882）大于6%，在弯折半径R为1mm且耐弯折速度为60次/min的条件下耐弯折次数大于200K（即大于200K次弯折后无裂纹）。
[0021]本专利技术还提供制备如上任一项所述的一种双面导电膜的方法，包含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面导电膜，其特征在于，包括基材层，所述基材层包含第一光学面和第二光学面，所述第一光学面上设置有第一导电层，所述第二光学面上设置有第二导电层，所述基材层含有UV阻隔剂，所述UV阻隔剂的含量占所述基材层0.1~3wt%。2.根据权利要求1所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述UV阻隔剂的含量占所述基材层0.8~1.5wt%。3.根据权利要求1所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述基材层的材质选自CPI、COP、TPU、PC中的一种或几种；所述基材层的厚度为10~50μm。4. 根据权利要求1所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述UV阻隔剂选自JRSorb BP
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12、JRSorb UV
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P、JRSorb 326、TINUVIN 460、TINUVIN 477、Songsorb CS400、Songsorb CS 329、Eversorb 45中的一种或几种。5.根据权利要求4所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述UV阻隔剂包含第一UV阻隔剂与第二UV阻隔剂，所述第一UV阻隔剂的紫外线阻隔波段范围为352~356nm，所述第二UV阻隔剂的紫外阻隔波段范围为362~366nm，所述第一UV阻隔与所述第二U阻隔剂进行复配，所述复配的质量比范围为1.5:1~2.5:1。6.根据权利要求1所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述第一导电层或所述第二导电层的厚度范围为30~300nm。7.根据权利要求1所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述第一导电层或所述第二导电层包含纳米银丝，所述纳米银丝的线径比大于1000。8.根据权利要求1所述的一种双面导电膜，其特征在于，所述第一光学面和第二光学面上设置有平整度调整层，所述平整度调整层的表面粗糙度R...

【专利技术属性】
技术研发人员：徐金龙，刘建，鞠金虎，
申请(专利权)人：江苏康辉新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：