一种低电阻高透过率ITO导电膜制造技术

本实用新型专利技术涉及一种低电阻高透过率ITO导电膜，其由依次层叠的PET基材层、高折射率涂层和ITO膜层构成，高折射率涂层为二氧化钛涂层或氧化铌涂层，高折射率涂层的厚度为1μm至2μm，ITO膜层的厚度为100nm至150nm且厚度均匀。该低电阻高透过率ITO导电膜具有较低的面电阻和较高的透过率，尤其适用于大面积触控屏、电磁脉冲屏蔽膜等领域。电磁脉冲屏蔽膜等领域。电磁脉冲屏蔽膜等领域。

【技术实现步骤摘要】
一种低电阻高透过率ITO导电膜


[0001]本技术涉及导电膜
，具体涉及一种低电阻高透过率ITO导电膜。

技术介绍

[0002]ITO柔性导电膜是液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、电致发光显示器(EL/OLED)、触摸屏(Touch Panel)、太阳能电池以及其他电子仪表的透明电极最常用的薄膜材料。普通ITO导电膜在面电阻100～120Ω的条件下，透过率最高只能做到82％左右，如果面电阻的要求更低，比如30～60Ω，则常规透过率只能做到60％以下。目前市场上有着低阻高透柔性导电膜产品的强烈需求，要求电阻在30～60Ω，透过率在80％以上，应用于大面积触控屏、电磁脉冲屏蔽膜等领域，要求精度高、灵敏度高、抗损、易清洁、阳光下可视性好、可实现多点触控。
[0003]根据光学干涉的原理，当膜层厚度为1/4λ时(λ为光在薄膜中波长)，会出现干涉相消的现象，从而减弱反射光的强度，增加透射光的强度，起到增透的作用。根据上述光学增透的原理，目前针对低阻高透导电膜的常规做法是，导电层由ITO/Ag/ITO膜层组成，在导电层和柔性基底之本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种低电阻高透过率ITO导电膜，其特征在于由依次层叠的PET基材层、高折射率涂层和ITO膜层构成，所述高折射率涂层为二氧化钛涂层或氧化铌涂层，所述高折射率涂层的厚度为1μm至2μm，所述ITO膜层的厚度为100nm至150nm且厚度均匀。2.根据权利要求1所述的一种低电阻高透过率ITO导电膜，其特征在于所述PET基材层的厚度为120μm至130μm。3.根据权利要求1或2所述的一种低电阻高透过率...

【专利技术属性】
技术研发人员：宋永进，
申请(专利权)人：深圳市康盛光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：