一种减反射微结构及其制作方法技术

本申请公开了一种减反射微结构，涉及光学技术领域，用于光学器件窗口上，包括基底；设于基底上表面和/或下表面的微结构层，微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层微结构阵列层包括多个微结构，不同微结构阵列层中的微结构的材料不同。本申请中减反射微结构的微结构层包括微结构阵列层，微结构阵列层包括多个微结构，微结构阵列层可以等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜，实现减反射效果，同时微结构阵列层的层数在两层以上，且不同微结构阵列层的材料不同，减少折射率的突变，因此可以减少发生菲涅尔反射，增强减反射微结构的减反射能力，实现更好的增透效果。本申请还提供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。

【技术实现步骤摘要】
一种减反射微结构及其制作方法


[0001]本申请涉及光学
，特别是涉及一种减反射微结构及其制作方法。

技术介绍

[0002]当光线入射到两种介质的分界面时会发生菲涅尔反射，对光能的传输和探测造成很大阻碍，摄像头、红外探测器等光学器件的光学窗口需要尽可能高的透射能力，需要尽可能消除反射。
[0003]为了满足减反射所需要的特定折射率，基于蛾眼仿生技术的抗反射微结构可以很好的满足上述需要。现有的这种抗反射微结构包括基底以及在基底上周期排列的一层柱体或锥体微结构阵列，微结构阵列可以看作一层具有固定折射率或渐变折射率梯度分布的薄膜，从而实现一定的减反射效果。但是，具有单层的微结构阵列的抗反射微结构只能实现特定波长的减反射效果，且宽带减反射效果较差，也即增透能力较差。若想要实现最优的宽带减反射，需要微结构具备特定的截面形状和极高的深宽比，加工难度极大，难以实现。
[0004]因此，如何解决上述技术问题应是本领域技术人员重点关注的。

技术实现思路

[0005]本申请的目的是提供一种减反射微结构及其制作方法，以提升减反射微结构的减反射效果，降低制作难度。
[0006]为解决上述技术问题，本申请提供一种减反射微结构，包括：
[0007]基底；
[0008]设于所述基底上表面和/或下表面的微结构层，所述微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层所述微结构阵列层包括多个微结构，不同所述微结构阵列层中的所述微结构的材料不同。
[0009]可选的，所述微结构阵列层的层数为三层。
[0010]可选的，所述微结构的形状为圆柱、棱柱、圆台、圆锥、棱台、抛物锥体、金字塔中的任一种。
[0011]可选的，每个所述微结构阵列层的形状为正方形、矩形、圆形、包括至少五条线段的多边形中的任一种。
[0012]可选的，所述微结构层的高度在0.1μm～50μm之间。
[0013]可选的，所述微结构阵列层中相邻所述微结构的中心间距在0.1μm～50μm之间。
[0014]可选的，还包括：
[0015]设于所述基底上表面和/或下表面未被所述微结构层覆盖的区域以及所述微结构层表面的增透层。
[0016]可选的，所述增透层的厚度在0.1μm～10μm之间。
[0017]本申请还提供一种减反射微结构的制作方法，包括：
[0018]获得基底；
[0019]在所述基底的上表面和/或下表面沉积待处理微结构层，所述待处理微结构层包括至少两层层叠设置的待处理微结构阵列层，不同所述待处理微结构阵列层的材料不同；
[0020]在所述待处理微结构层背离所述基底的表面涂覆光刻胶，并对所述光刻胶进行曝光、显影，形成图形化掩膜；
[0021]根据所述图形化掩膜刻蚀所述待处理微结构层，形成微结构层，所述微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层所述微结构阵列层包括多个微结构；
[0022]去除所述图形化掩膜，得到减反射微结构。
[0023]可选的，所述去除所述图形化掩膜之后，还包括：
[0024]在所述基底上表面和/或下表面未被所述微结构层覆盖的区域以及所述微结构层表面沉积增透层。
[0025]本申请所提供的一种减反射微结构，包括：基底；设于所述基底上表面或下表面的微结构层，所述微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层所述微结构阵列层包括多个微结构，不同所述微结构阵列层中的所述微结构的材料不同。
[0026]可见，本申请中的减反射微结构在基底上设置的微结构层包括微结构阵列层，每层微结构阵列层包括多个微结构，微结构阵列层可以等效成具有渐变折射率梯度分布的薄膜，实现减反射效果，同时微结构阵列层的层数在两层以上，且不同微结构阵列层的材料不同，减少折射率的突变，因此可以减少发生菲涅尔反射，增强减反射微结构的减反射能力，实现更好的增透效果。
[0027]此外，本申请还提供一种具有上述优点的减反射微结构制作方法。
附图说明
[0028]为了更清楚的说明本申请实施例或现有技术的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单的介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0029]图1为本申请实施例所提供的一种减反射微结构的结构示意图；
[0030]图2为本申请实施例所提供的一种减反射微结构的俯视图；
[0031]图3为本申请实施例所提供的另一种减反射微结构的结构示意图；
[0032]图4为本申请实施例所提供的另一种减反射微结构的结构示意图；
[0033]图5为图3所示减反射微结构的透射率曲线与现有传统的抗反射微结构的透射率曲线图；
[0034]图6为图4所示减反射微结构的透射率曲线与现有传统的抗反射微结构的透射率曲线图；
[0035]图7为本申请实施例所提供的一种减反射微结构的制作方法的流程图；
[0036]图8至图13为本申请实施例所提供的一种减反射微结构的制作工艺的流程图；
[0037]图14为本申请实施例所提供的另一种减反射微结构的制作方法的流程图；
[0038]图中，1.基底，2.微结构层，3.增透层，4.光刻胶，5.图形化掩膜，21.微结构阵列层，21
’
.待处理微结构阵列层。
具体实施方式
[0039]为了使本
的人员更好地理解本申请方案，下面结合附图和具体实施方式对本申请作进一步的详细说明。显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
[0040]在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本专利技术，但是本专利技术还可以采用其他不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本专利技术内涵的情况下做类似推广，因此本专利技术不受下面公开的具体实施例的限制。
[0041]正如
技术介绍
部分所述，现有的抗反射微结构包括基底以及在基底上周期排列的一层柱体或锥体微结构阵列，这种抗反射微结构的减反射效果较差。
[0042]有鉴于此，本申请提供了一种减反射微结构，请参考图1，包括：
[0043]基底1；
[0044]设于所述基底1上表面和/或下表面的微结构层2，所述微结构层2包括至少两层层叠设置的微结构阵列层21，每层所述微结构阵列层21包括多个微结构，不同所述微结构阵列层21中的所述微结构的材料不同。
[0045]不同微结构阵列层21中微结构一一对应层叠，且微结构的尺寸相同。微结构的材料可选择常见的红外材料或光学材料，例如硅、锗、硒化锌、硫系玻璃、石英玻璃、PMMA(polymethyl methacrylate，有机玻璃)聚合物、氟化镱等。
[0046]本申请中对每个本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种减反射微结构，其特征在于，包括：基底；设于所述基底上表面和/或下表面的微结构层，所述微结构层包括至少两层层叠设置的微结构阵列层，每层所述微结构阵列层包括多个微结构，不同所述微结构阵列层中的所述微结构的材料不同。2.如权利要求1所述的减反射微结构，其特征在于，所述微结构阵列层的层数为三层。3.如权利要求1所述的减反射微结构，其特征在于，所述微结构的形状为圆柱、棱柱、圆台、圆锥、棱台、抛物锥体、金字塔中的任一种。4.如权利要求1所述的减反射微结构，其特征在于，每个所述微结构阵列层的形状为正方形、矩形、圆形、包括至少五条线段的多边形中的任一种。5.如权利要求1所述的减反射微结构，其特征在于，所述微结构层的高度在0.1μm～50μm之间。6.如权利要求1所述的减反射微结构，其特征在于，所述微结构阵列层中相邻所述微结构的中心间距在0.1μm～50μm之间。7.如权利要求1至6任一项所述的减反射微结构，其特征在于，还包括：设于所述基底...

【专利技术属性】
技术研发人员：王兴祥，胡汉林，陈文礼，李松华，包悦，刘继伟，孔祥盛，孙俊伟，李同毅，赵文广，刘立平，
申请(专利权)人：烟台睿创微纳技术股份有限公司，
类型：发明
国别省市：