成膜装置、成膜装置的控制方法以及电子器件的制造方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供提高对基板的成膜工艺中的膜厚的测定和控制的精度的成膜装置、成膜装置的控制方法以及电子器件的制造方法。使用将蒸镀材料向基板蒸镀而进行成膜的成膜装置，其中，该成膜装置具备：蒸发源，相对于基板在相对移动的同时放出蒸镀材料；第一控制部件，控制来自蒸发源的蒸镀材料的放出量；第二控制部件，控制基板和蒸发源的相对速度；监视部件，在成膜中，测定来自蒸发源的蒸镀材料的放出量；膜厚测定部件，在成膜后，测定蒸镀在基板上的膜的膜厚；以及控制部，基于由监视部件测定出的放出量及由膜厚测定部件测定出的膜厚，控制第一控制部件及第二控制部件。一控制部件及第二控制部件。一控制部件及第二控制部件。

【技术实现步骤摘要】
成膜装置、成膜装置的控制方法以及电子器件的制造方法


[0001]本专利技术涉及成膜装置、成膜装置的控制方法以及电子器件的制造方法。

技术介绍

[0002]具备有机EL显示器、液晶显示器等平板显示器的显示装置被广泛应用。其中，具备有机EL显示器的有机EL显示装置的响应速度、视场角、薄型化等特性优异，适合用于显示器、电视机、智能手机、汽车用显示器等。
[0003]构成有机EL显示器的有机EL元件具有在两个相向的电极(阴极电极、阳极电极)之间形成有功能层的基本构造，该功能层具有作为引起发光的有机物层的发光层。有机EL元件的功能层和电极层通过将构成各层的材料隔着掩模成膜在基板上而形成。因此，为了使有机EL元件发挥所期望的性能，需要高精度地控制各层的膜厚。
[0004]在专利文献1中公开了如下结构：在使用了具有成膜室和检查室的集群型单元的有机EL制造装置中，将在成膜室中成膜了的基板搬送到检查室，通过光学性的膜厚测定装置测定膜厚。
[0005]在专利文献2中公开了如下结构：在有机EL制造装置中，在进行成膜的真空腔室内配置具有水晶振子本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种成膜装置，将蒸镀材料向基板蒸镀而进行成膜，其特征在于，该成膜装置具备：蒸发源，相对于所述基板在相对移动的同时放出所述蒸镀材料；第一控制部件，控制来自所述蒸发源的所述蒸镀材料的放出量；第二控制部件，控制所述基板和所述蒸发源的相对速度；监视部件，在成膜中，测定来自所述蒸发源的所述蒸镀材料的放出量；膜厚测定部件，在成膜后，测定蒸镀在所述基板上的膜的膜厚；以及控制部，基于由所述监视部件测定出的所述放出量及由所述膜厚测定部件测定出的所述膜厚，控制所述第一控制部件及所述第二控制部件。2.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述控制部进行实时控制，该实时控制将所述监视部件对于成膜中的所述基板测定出的所述放出量应用于对该成膜中的所述基板成膜时的控制，所述控制部进行反馈控制，该反馈控制将所述膜厚测定部件测定出的所述膜厚应用于对相比测定对象的所述基板后续的基板成膜时的控制。3.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述控制部控制所述第一控制部件及所述第二控制部件，以使由所述膜厚测定部件测定的所述膜厚接近于目标值。4.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，在由所述膜厚测定部件测定出的所述膜厚小于目标值的情况下，所述第一控制部件进行使所述蒸镀材料的放出量增加的控制，在由所述膜厚测定部件测定出的所述膜厚超过目标值的情况下，所述第一控制部件进行使所述蒸镀材料的放出量减少的控制。5.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，在由所述膜厚测定部件测定出的所述膜厚小于目标值的情况下，所述第二控制部件进行使所述相对速度变慢的控制，在由所述膜厚测定部件测定出的所述膜厚超过目标值的情况下，所述第二控制部件进行使所述相对速度变快的控制。6.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，所述控制部控制所述第一控制部件及所述第二控制部件，以使由所述监视部件测定的所述放出量接近于目标值。7.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，在由所述监视部件测定出的所述放出量小于目标值的情况下，所述第一控制部件进行使所述蒸镀材料的放出量增加的控制，在由所述监视部件测定出的所述放出量超过目标值的情况下，所述第一控制部件进行使所述蒸镀材料的放出量减少的控制。8.根据权利要求1所述的成膜装置，其特征在于，在由所述监视部件测定出的所述放出量小于目标值的情况下，所述第二控制部件进行使所述相对速度变慢的控制，在由所述监视部件测定出的所述放出量超过目标值的情况下，所述第二控制部件进行
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【专利技术属性】
技术研发人员：绪方俊宏，渡部新，安川英宏，
申请(专利权)人：佳能特机株式会社，
类型：发明
国别省市：