一种双室磁控溅射真空镀膜机制造技术

技术编号:34812286 阅读:17 留言:0更新日期:2022-09-03 20:21
本实用新型专利技术公开了一种双室磁控溅射真空镀膜机,包括镀膜机,所述镀膜机的一侧设有稳定结构,所述稳定结构包括斜杆、底座、直板、螺纹杆、圆杆和竖块,所述直板的一端与镀膜机的一侧下方固定连接,所述直板的一侧内壁间隙配合有底座,所述底座的前端面上方通过销轴转动连接有斜杆,所述斜杆的前端面通过销轴转动连接有圆杆。该双室磁控溅射真空镀膜机,通过镀膜机、竖板、横板、横块、曲板和稳定结构的配合,使得该装置在使用时,可以通过转动螺纹杆,螺纹杆带动竖块向上移动,竖块带动斜杆转动,斜杆带动底座向下移动,进而使底座与地面相贴合,提高镀膜机的稳定性,避免在受到外力的作用时,导致镀膜机发生倾倒,进而造成镀膜机发生损坏。生损坏。生损坏。

【技术实现步骤摘要】
一种双室磁控溅射真空镀膜机


[0001]本技术涉及真空镀膜机
,具体为一种双室磁控溅射真空镀膜机。

技术介绍

[0002]真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。
[0003]现有技术中的双室磁控溅射真空镀膜机,稳定性较差,进而在受到外力的作用时,容易导致镀膜机发生倾倒,进而造成镀膜机发生损坏,且现有技术中的双室磁控溅射真空镀膜机,无法对镀膜机进行保护,进而在有高空物体掉落时,对镀膜机造成损伤。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种双室磁控溅射真空镀膜机,以解决上述
技术介绍
中提出的现有技术中的双室磁控溅射真空镀膜机,稳定性较差,进而在受到外力的作用时,容易导致镀膜机发生倾倒,进而造成镀膜机发生损坏的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种双室磁控溅射真空镀膜机,包括镀膜机,所述镀膜机的一侧设有稳定结构;
[0006]所述稳定结构包括斜杆、底座、直板、螺纹杆、圆杆和竖块;
[0007]所述直板的一端与镀膜机的一侧下方固定连接,所述直板的一侧内壁间隙配合有底座,所述底座的前端面上方通过销轴转动连接有斜杆,所述斜杆的前端面通过销轴转动连接有圆杆,所述圆杆的前端面下方通过销轴与直板的前端面转动连接,所述斜杆的一侧通槽滑动卡接有竖块,所述竖块的底部通过轴承转动连接有螺纹杆,所述螺纹杆的外壁与直板的另一侧内壁螺纹连接。
[0008]优选的,所述镀膜机的一侧上方固定设置有横块,所述横块的顶部固定设置有竖板。
[0009]优选的,所述竖板的顶部固定设置有横板,所述横板的顶部一侧固定设置有曲板。
[0010]优选的,所述横板的上方设有限位结构;
[0011]所述限位结构包括直杆、竖筒、板体、外壳和弹簧一;
[0012]所述直杆的底部与横板的顶部一侧固定连接,所述直杆的外壁间隙配合有竖筒,所述竖筒的顶部固定设置有板体,所述板体的底部固定设置有外壳,所述外壳的内壁顶部一侧固定设置有弹簧一,所述弹簧一的底部与曲板的顶部固定连接。
[0013]优选的,所述曲板的一侧设有滑动结构;
[0014]所述滑动结构包括杆体、滑杆、滑块和弹簧二;
[0015]所述滑杆的一端与曲板的一侧下方固定连接,所述滑杆的外壁滑动卡接有滑块,所述滑块的前端面通过销轴转动连接有杆体,所述杆体的前端面上方通过销轴与竖筒的前端面下方转动连接,所述滑块的一侧上方固定设置有弹簧二,所述弹簧二的一端与曲板的一侧上方固定连接。
[0016]与现有技术相比,本技术的有益效果是:该双室磁控溅射真空镀膜机,通过镀膜机、竖板、横板、横块、曲板和稳定结构的配合,使得该装置在使用时,可以通过转动螺纹杆,螺纹杆带动竖块向上移动,竖块带动斜杆转动,斜杆带动底座向下移动,进而使底座与地面相贴合,提高镀膜机的稳定性,避免在受到外力的作用时,导致镀膜机发生倾倒,进而造成镀膜机发生损坏;
[0017]通过镀膜机、竖板、横板、横块、曲板和限位结构的配合,使得该装置在使用时,可以通过板体受力向下移动,板体带动竖筒向下移动,竖筒会沿着直杆的外壁移动,进而对板体进行限位,避免板体发生偏移,进而对镀膜机进行有效的保护;
[0018]通过镀膜机、竖板、横板、横块、曲板、限位结构和滑动结构的配合,使得该装置在使用时,可以通过板体带动外壳向下移动,外壳对弹簧一进行压缩,同时竖筒带动杆体移动,杆体带动滑块向内滑动,滑块对弹簧二进行压缩,进而起到缓冲作用,对镀膜机进行保护,避免在有高空物体掉落时,对镀膜机造成损伤。
附图说明
[0019]图1为本技术结构示意图;
[0020]图2为图1中镀膜机、竖板和横块的结构示意图;
[0021]图3为图1中斜杆、底座和圆杆的结构示意图;
[0022]图4为图1中滑杆、滑块和弹簧二的结构示意图。
[0023]图中:1、镀膜机,2、稳定结构,201、斜杆,202、底座,203、直板,204、螺纹杆,205、圆杆,206、竖块,3、限位结构,301、直杆,302、竖筒,303、板体,304、外壳,305、弹簧一,4、滑动结构,401、杆体,402、滑杆,403、滑块,404、弹簧二,5、竖板,6、横板,7、横块,8、曲板。
具体实施方式
[0024]下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0025]请参阅图1

4,本技术提供一种技术方案:一种双室磁控溅射真空镀膜机,包括镀膜机1,镀膜机1的一侧上方固定设置有横块7,镀膜机1的型号根据实际使用情况而定,横块7的顶部固定设置有竖板5,横块7对竖板5起到支撑作用,竖板5的顶部固定设置有横板6,横板6的顶部一侧固定设置有曲板8,横板6对曲板8起到支撑作用,镀膜机1的一侧设有稳定结构2,稳定结构2包括斜杆201、底座202、直板203、螺纹杆204、圆杆205和竖块206,直板203的一端与镀膜机1的一侧下方固定连接,直板203的一侧内壁间隙配合有底座202,底座202受力时可以在直板203的一侧内壁移动,底座202的前端面上方通过销轴转动连接有斜杆201,销轴使斜杆201受力时可以在底座202的前端面上方转动,斜杆201的前端面通过销轴转动连接有圆杆205,圆杆205的前端面下方通过销轴与直板203的前端面转动连接,斜杆201的一侧通槽滑动卡接有竖块206,竖块206的底部通过轴承转动连接有螺纹杆204,轴承使螺纹杆204受力时可以在竖块206的底部转动,螺纹杆204的外壁与直板203的另一侧内壁螺纹连接。
[0026]横板6的上方设有限位结构3,限位结构3包括直杆301、竖筒302、板体303、外壳304和弹簧一305,直杆301的底部与横板6的顶部一侧固定连接,直杆301的外壁间隙配合有竖筒302,竖筒302受力时可以在直杆301的外壁移动,竖筒302的顶部固定设置有板体303,板体303的底部固定设置有外壳304,外壳304的内壁顶部一侧固定设置有弹簧一305,弹簧一305给予外壳304受力移动时相反的力,弹簧一305的底部与曲板8的顶部固定连接。
[0027]曲板8的一侧设有滑动结构4,滑动结构4包括杆体401、滑杆402、滑块403和弹簧二404,滑杆402的一端与曲板8的一侧下方固定连接,滑杆402的外壁滑动卡接有滑块403,滑块403受力时可以在滑杆402的外壁滑动,滑块403的前端面通过销轴转动连接有杆体401,杆体401的前端面上方通过销轴与竖筒302的前端面下方转动连接,销轴使杆体401受力时可以在竖筒302的前端本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双室磁控溅射真空镀膜机,包括镀膜机(1),其特征在于:所述镀膜机(1)的一侧设有稳定结构(2);所述稳定结构(2)包括斜杆(201)、底座(202)、直板(203)、螺纹杆(204)、圆杆(205)和竖块(206);所述直板(203)的一端与镀膜机(1)的一侧下方固定连接,所述直板(203)的一侧内壁间隙配合有底座(202),所述底座(202)的前端面上方通过销轴转动连接有斜杆(201),所述斜杆(201)的前端面通过销轴转动连接有圆杆(205),所述圆杆(205)的前端面下方通过销轴与直板(203)的前端面转动连接,所述斜杆(201)的一侧通槽滑动卡接有竖块(206),所述竖块(206)的底部通过轴承转动连接有螺纹杆(204),所述螺纹杆(204)的外壁与直板(203)的另一侧内壁螺纹连接。2.根据权利要求1所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述镀膜机(1)的一侧上方固定设置有横块(7),所述横块(7)的顶部固定设置有竖板(5)。3.根据权利要求2所述的一种双室磁控溅射真空镀膜机,其特征在于:所述竖板(5)的顶部固定设置有横板(6),所述横板(6)的顶部一侧固定设置有曲板(8)。4.根据权利要求3所述的一种双室磁控...

【专利技术属性】
技术研发人员:邓志超
申请(专利权)人:温州市国益实业有限公司
类型:新型
国别省市:

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