双能曝光的控制方法、装置和电子设备制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种双能曝光的控制方法、装置和电子设备，所述控制方法至少包括：确定高压发生器球管每次曝光控制的曝光参数，所述曝光参数包括管电压；获取球管的多条灯丝发射特性曲线，并根据灯丝发射特性曲线确定两次曝光在相同灯丝电流下的管电流；根据每次的管电压和每次在相同灯丝电流下的管电流对高压发生器进行双能曝光控制。本发明专利技术在相同灯丝电流的情况下的两组曝光参数进行控制，能够大大减少两次曝光之间的曝光间隔时间，从而能够进一步提高后续获得影像图像的准确性。高后续获得影像图像的准确性。高后续获得影像图像的准确性。

【技术实现步骤摘要】
双能曝光的控制方法、装置和电子设备


[0001]本专利技术涉及一种双能曝光控制
，特别是涉及一种双能曝光的控制方法、装置和电子设备。

技术介绍

[0002]当前X射线高压发生器有双能摄像工作模式或者能谱摄像工作模式，即高压发生器在短时间内连续进行两次摄像曝光，具体是通过对参数(参数包括管电压、管电流和加载时间) 的控制实现的曝光。
[0003]例如图1所示的曝光过程：T0为第一次曝光开始，管电压为KV1，灯丝温度为TEMP1，管电流为MA1，T1为第一次曝光结束，T1
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T0为第一次曝光的加载时间，T2
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T1为灯丝温度变化时间，T2为第二次曝光开始，管电压为KV2，灯丝温度为TEMP2，管电流为MA2，T3 为第二次曝光结束，T3
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T2为第二次曝光的加载时间。特别说明：KV1可以大于KV2也可以小于KV2，TEMP1可以大于TEMP2也可以小于TEMP2，MA1可以大于MA2也可以小于 MA2。也就是说，既可以先进行高能曝光后低能曝光，也可以先进行低能曝光后高能曝光，其中，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双能曝光的控制方法，其特征在于，所述控制方法至少包括：确定高压发生器球管每次曝光控制的曝光参数，所述曝光参数包括管电压；获取球管的多条灯丝发射特性曲线，并根据灯丝发射特性曲线确定两次曝光在相同灯丝电流下的管电流；根据每次的管电压和每次在相同灯丝电流下的管电流对高压发生器进行双能曝光控制。2.根据权利要求1所述的双能曝光的控制方法，其特征在于，灯丝电流为可控范围内的最大值。3.根据权利要求2所述的双能曝光的控制方法，其特征在于，根据每次的管电压和每次所述在相同灯丝电流下的管电流对高压发生器按照预设曝光间隔时间进行双能曝光控制。4.根据权利要求3所述的双能曝光的控制方法，其特征在于，满足设定要求时，控制曝光结束并得到影像图像，所述设定要求为曝光灰度值达到设定值。5.根据权利要求3所述的双能曝光的控制方法，其特征在于，所述曝光参数还包括管电流时间积。6.根...

【专利技术属性】
技术研发人员：俞天涯，杨向民，张政，吴金财，
申请(专利权)人：海玮电子科技上海有限公司，
类型：发明
国别省市：