一种去除2-甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统和水处理工艺技术方案

本发明专利技术公开了一种去除2

【技术实现步骤摘要】
一种去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统和水处理工艺


[0001]本专利技术属于自来水处理
，具体涉及一种去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统和水处理工艺。

技术介绍

[0002]2‑
甲基异莰醇又称2
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MIB，一般来源于颤藻，颤藻在竞争环境下会分泌 2
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MIB，抑制其它藻种的生长以获得竞争优势，或者在其稳定和衰亡期，因藻细胞破裂，胞内内含物的释放导致水体2
‑
MIB增加。2
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MIB属于微极性脂溶性和水溶性化合物，是典型的痕量级藻源性致嗅物质，嗅阀值10ng/L。
[0003]现有的给水工艺中一般采用高剂量粉末活性炭进行处理，处理成本高，且吸附过程中由于受原水水质的影响，同时部分水厂仅能在混合工艺前投加粉末活性炭，投加量需达到20mg/L以上，且吸附时间有限，导致2
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MIB吸附去除率一般不足50％，当原水2
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MIB浓度大于20ng/L时，往往难以将2
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MIB浓度控制在标准限值以内。
[0004]在长期存在2
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MIB的水源中，往往会出现降解2
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MIB的微生物，但由于现阶段大部分水厂为了强化混凝沉淀，或者抑制水处理工艺段微生物滋生，往往在原水中和沉淀池出水阶段投加次氯酸钠，从而破坏了降解2
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MIB的生态体系，同时原水中加氯，会导致藻细胞破裂而释放胞内2
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MIB，从而使原水中2
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MIB 浓度上升。

技术实现思路

[0005]为了克服现有技术中的上述不足，本专利技术的目的之一在于提供一种去除2
‑ꢀ
甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，一方面从源头上避免原水中加氯，会导致藻类细胞破裂而释放胞内2
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甲基异莰醇，从而使原水中2
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甲基异莰醇浓度上升，同时避免对常规工艺中过滤装置中滤层填料中驯化的去除2
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甲基异莰醇的微生物的生长的影响，保证彻底去除处理后原水中的2
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甲基异莰醇。
[0006]本专利技术的目的之二在于还提供一种去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统的水处理工艺，可以将2
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甲基异莰醇降至10ng/L以下，甚至在检测限值以下，非常适合不具备深度处理改造的自来水厂控制2
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甲基异莰醇。
[0007]为了实现上述目的之一，本专利技术采用以下技术方案：
[0008]本专利技术提供一种去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，包括：
[0009]预处理装置、混凝沉淀装置、过滤装置、紫外消毒装置，所述预处理装置、所述混凝沉淀装置、所述过滤装置、所述紫外消毒装置依次连接设置，所述过滤装置包括过滤层，所述过滤层填有滤层填料，所述滤层填料中富集有去除所述2
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甲基异莰醇的微生物；
[0010]所述预处理装置用于投加高锰酸钾对原水进行预氧化；当原水中2
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甲基异莰醇含量较高时，还用于应急投加粉末活性炭，辅助高锰酸钾对原水进行预氧化；
[0011]所述混凝沉淀装置用于使原水中的藻类形成絮体，所述絮体再经过沉淀后去除；
[0012]所述过滤装置用于通过所述微生物降解原水中2
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甲基异莰醇；
[0013]所述紫外消毒装置用于对所述过滤装置处理后的水进行消毒。
[0014]优选地，所述自来水厂给水处理系统还包括氯消毒装置，所述氯消毒装置用于在用所述紫外消毒装置消毒后的水中投加适量无机氯，所述无机氯为液氯、次氯酸钠、二氧化氯中的一种。
[0015]优选地，所述过滤装置还包括反冲洗系统，所述反冲洗系统用于对所述过滤装置进行反复冲洗。
[0016]优选地，所述自来水厂给水处理系统还包括废水处理装置，所述废水处理装置与所述过滤装置连接设置，所述废水处理装置用于对所述过滤装置进行反复冲洗后的水进行收集、沉淀，沉淀后的水可作为原水回用。
[0017]优选地，所述废水处理装置还与所述混凝沉淀装置连接设置，所述废水处理装置还用于对所述混凝沉淀装置排出的泥水进行收集，然后对所述泥水进行浓缩、脱水处理，上清液、脱滤液排入市政污水管道。
[0018]优选地，所述过滤装置是普通快滤池、V型滤池、翻板滤池、虹吸滤池中的一种。
[0019]优选地，所述自来水厂给水处理系统还包括混凝剂投加单元，所述混凝剂投加单元与所述混凝沉淀装置连接设置，所述混凝剂投加单元用于向所述混凝沉淀装置中投加混凝剂。
[0020]优选地，所述紫外消毒装置低压高强或中压高强紫外灯，消毒强度不低于 40mJ/cm2。
[0021]为了实现上述目的之二，本专利技术采用以下技术方案：包括以下步骤：
[0022]S1、将高锰酸钾投加到所述预处理装置中，对所述预处理装置中的原水进行预氧化；
[0023]S2、经过预氧化的原水通过所述预处理装置的出水口进入到所述混凝沉淀装置，向所述混凝沉淀装置中投加所述混凝剂，所述混凝沉淀装置中的原水与所述混凝剂进行混合反应，使原水中的藻类形成絮体，絮体再经过沉淀后去除；
[0024]S3、所述混凝沉淀装置处理后的原水通过出水口进入所述过滤装置中，所述过滤装置进一步去除原水中的颗粒物，同时利用所述滤层填料中富集的去除 2
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甲基异莰醇的所述微生物去除原水中的2
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甲基异莰醇；
[0025]S4、所述过滤装置处理后的原水通过出水口进入所述紫外消毒装置中，所述紫外消毒装置中，用于对过滤后的原水中的所述微生物进行灭菌。
[0026]进一步地，所述S1中，当在原水中2
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甲基异莰醇浓度在50ng/L以上时，还用于应急投加粉末活性炭，辅助高锰酸钾对原水进行预氧化。
[0027]与现有技术相比，本专利技术具有的有益效果如下：
[0028]1.本专利技术提供的去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，使用高锰酸钾作为预氧化剂，粉末活性炭为应急吸附药剂，全流程仅在紫外线消毒以后，才投加具有持续性消毒的次氯酸钠，一方面从源头上避免原水中加氯，会导致藻类细胞破裂而释放胞内2
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甲基异莰醇，从而使原水中2
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甲基异莰醇浓度上升，同时避免对常规工艺中过滤装置中滤层填料中富集的去除2
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甲基异莰醇的微生物的生长的影响，保证彻底去除处理后原水中的2
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甲基异莰醇。
[0029]2.本专利技术通过紫外消毒装置对过滤装置处理后的水进行消毒，保障了滤后水微生物安全性，同时后续只需投加少量氯以确保在清水池储存或配水过程中余氯满足要求，避免细菌二次滋生，同时减少消毒副产物的生成。
[0030]3.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，包括：预处理装置、混凝沉淀装置、过滤装置、紫外消毒装置，所述预处理装置、所述混凝沉淀装置、所述过滤装置、所述紫外消毒装置依次连接设置，所述过滤装置包括过滤层，所述过滤层填有滤层填料，所述滤层填料中富集有去除所述2
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甲基异莰醇的微生物；所述预处理装置用于投加高锰酸钾对原水进行预氧化；当原水中2
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甲基异莰醇含量较高时，还用于应急投加粉末活性炭，辅助高锰酸钾对原水进行预氧化；所述混凝沉淀装置用于使原水中的藻类形成絮体，所述絮体再经过沉淀后去除；所述过滤装置用于通过所述微生物降解原水中2
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甲基异莰醇；所述紫外消毒装置用于对所述过滤装置处理后的水进行消毒。2.根据权利要求1所述的去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述自来水厂给水处理系统还包括氯消毒装置，所述氯消毒装置用于在用所述紫外消毒装置消毒后的水中投加适量无机氯，所述无机氯为液氯、次氯酸钠、二氧化氯中的一种。3.根据权利要求1所述的去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述过滤装置还包括反冲洗系统，所述反冲洗系统用于对所述过滤装置进行反复冲洗。4.根据权利要求3所述的去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述自来水厂给水处理系统还包括废水处理装置，所述废水处理装置与所述过滤装置连接设置，所述废水处理装置用于对所述过滤装置进行反复冲洗后的水进行收集、沉淀，沉淀后的水可以回用至原水。5.根据权利要求4所述的去除2
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甲基异莰醇的自来水厂给水处理系统，其特征在于，所述废水处理装置还与所述混凝沉淀装置连接设置，所述废水处理装置还用于对所述混凝沉淀装置排出的泥水进行收集，然后对所述泥...

【专利技术属性】
技术研发人员：邵志昌，刘岳峰，吕华，李抄，曾立章，林辉越，范丹，
申请(专利权)人：深圳市深水宝安水务集团有限公司，
类型：发明
国别省市：