本发明专利技术公开了一种氟化物反应釜温控系统及温控装置，涉及氟化物反应技术领域，包括底座、设置于底座顶部的反应釜本体、位于反应釜本体右侧的温度调节器、设置于底座顶部的支架、设置于支架顶部的多个加液装置和设置于加液装置底部的调节装置，所述调节装置用于调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间。在本发明专利技术中，通过与反应釜配合的温度调节器、加液装置和调节装置，调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间，从而便于氟化物大批次的反应。从而便于氟化物大批次的反应。从而便于氟化物大批次的反应。
【技术实现步骤摘要】
一种氟化物反应釜温控系统及温控装置
[0001]本专利技术涉及氟化物反应
，尤其涉及一种氟化物反应釜温控系统及温控装置。
技术介绍
[0002]氟化物指含负价氟的有机或无机化合物。与其他卤素类似，氟生成单负阴离子(氟离子F
‑
)。在氟化物反应中常常通过反应釜作为容器进行反应。
[0003]为了满足氟化物中的反应物可以充分、高品质的反应，需要人工实时观测调节反应釜内的反应温度和反应时间，费时费力，不便于氟化物大批次的反应。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的是为了解决现有技术中不足的问题，而提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置。
[0005]为了实现上述目的，本专利技术采用了如下技术方案：
[0006]一种氟化物反应釜温控系统及温控装置，包括底座、设置于底座顶部的反应釜本体、位于反应釜本体右侧的温度调节器、设置于底座顶部的支架、设置于支架顶部的多个加液装置和设置于加液装置底部的调节装置，所述调节装置用于调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间；
[0007]所述加液装置包括加液盒、滑动设置于加液盒内的活塞、开设于加液盒右下部的进液口、嵌设于进液口捏的进液单向阀和设置于加液盒表面与进液口连通的加液管，所述加液管的另一端与外置储液装置连通，所述加液盒顶端开设有气孔，所述加液盒底部开设有出液口，所述加液盒底端设置有与出液口连通的排液管；
[0008]所述调节装置包括与支架连接的背板、设置于背板前侧的圆柱状密封盒和转动设置于圆柱状密封盒内部的转板、设置于转板前表面的导液管，所述导液管一端贯穿圆柱状密封盒前端中部与反应釜本体内连通，多个所述排液管远离加液盒的一端与圆柱状密封盒内壁的通孔连通，所述通孔离排液管的一端内滑动设置有用于连通导液管的开启机构，所述转板后侧设置有转杆，所述转杆通过第一电机驱动。
[0009]进一步，所述开启机构包括上下滑动设置于通孔内的滑筒，所述滑筒中部中空，远离导液管的一端为封口，所述滑筒前后端均开设有进液孔，所述通孔左右两侧内壁中均开设有与进液孔连通的过液槽，所述过液槽位于靠近排液管的一端，所述通孔靠近排液管的一端内设置有限位块，所述滑筒与限位块之间设置有第一复位弹簧；
[0010]所述圆柱状密封盒的内壁设置有与多个滑筒转动连接的多个导向座，所述滑筒一侧设置设置有凸起的滑杆，所述导向座内开设有与滑杆配合的C状滑槽，所述C状滑槽倾斜设置。
[0011]进一步，所述导液管端部通过固定座与转板表面连接，所述固定座一侧设置有便于与多个滑筒接触的三角块，所述三角块沿着转板转动方向设置。
[0012]进一步，多个所述开启机构和一个过固定座均匀等距的分布于圆柱状密封盒的周向上，且多个所述开启机构连续设置，一个过固定座位于多个开启机构的首尾相接处。
[0013]进一步，所述温度调节器包括外壳和设置于外壳内的热介质与冷介质，所述热介质与冷介质分别通过第一输送泵和第二输送泵输送。
[0014]进一步，所述反应釜本体下部一侧设置有两个进液管，两个进液管分别与第一输送泵和第二输送泵的输出端连通，所述反应釜本体上部一侧设置有热冷两个出液管，热冷两个出液管分别与热介质和冷介质连通，所述反应釜本体内设置有热冷两个蛇形管，热冷两个蛇形管分别与热冷两个出液管连通。
[0015]进一步，所述开启机构一侧设置有用于开启第一输送泵或是第二输送泵的触发机构，所述触发机构包括转动设置于滑筒表面的连接板、设置连接板一侧的顶杆、偏心安装于顶杆表面的活动式触点安装板和位于活动式触点安装板顶部的固定式触点安装板，所述活动式触点安装板和固定式触点安装板均与导向杆滑动连接，所述导向杆安装于圆柱状密封盒内壁中，所述固定式触点安装板顶部与圆柱状密封盒的内壁之间设置有第二复位弹簧，所述第二复位弹簧套设于导向杆表面。
[0016]进一步，所述圆柱状密封盒表面设置有多个可调节的计时器，多个所述计时器与多个开启机构一一对应设置，所述计时器下部设置有启动按钮，所述顶杆上部贯穿圆柱状密封盒的内壁与启动按钮接触。
[0017]进一步，所述反应釜本体内转动设置有转轴，所述转轴表面设置有多个搅拌桨，所述转轴通过第二电机驱动，所述反应釜本体底部开设有卸料口；
[0018]所述反应釜本体内壁从外到内依次设置有隔热层、放置腔和导热层，所述放置腔用于放置蛇形管。
[0019]进一步，所述反应釜本体的内壁从下到上依次设置有多个均匀排列的温度传感器，所述温度传感器和计数器的输出端均与处理器输入端电连接，所述处理器分别与显示屏和键盘电连接，所述处理器的输出端与继电器的输入端电连接，所述继电器的输出端分别与第一输送泵、第二输送泵第一电机和蜂鸣器电连接；
[0020]所述处理器和继电器均嵌设于控制面板内部，所述蜂鸣器、显示屏和键盘嵌设于控制面板表面，所述控制面板安装于外壳前表面。
[0021]与现有技术相比，本专利技术具备以下有益效果：
[0022]在本专利技术中，通过与反应釜配合的温度调节器、加液装置和调节装置，调节多个加液装置加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体内的温度以及温度的时间，从而便于氟化物大批次的反应。
附图说明
[0023]图1为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置的整体结构示意图；
[0024]图2为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中反应釜本体的结构示意图；
[0025]图3为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中加液装置的结构示意图；
[0026]图4为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中调节装置的结构示
意图；
[0027]图5为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中调节装置的结构示意图；
[0028]图6为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中开启机构的结构示意图；
[0029]图7为图6的运动转态图；
[0030]图8为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中顶杆与启动按钮接触的结构示意图；
[0031]图9为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中顶杆与启动按钮脱离的结构示意图；
[0032]图10为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中触发机构的结构示意图；
[0033]图11为图10的运动转态图；
[0034]图12为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中导向座的结构示意图；
[0035]图13为图12的运动转态图；
[0036]图14为为本专利技术提出的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置中反应釜本体结构的放大图。
[0037]图中：1、底座；2、反应釜本体；21、转轴；22、搅拌桨；23、进液管；25、出液管；26、蛇形管；27、温度传感器；28、导热层；29、隔热层；3、温度调节器；4、支架；5、加液装置；51、加液盒；52、活塞；53、加液管；54本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种氟化物反应釜温控系统及温控装置，其特征在于，包括底座(1)、设置于底座(1)顶部的反应釜本体(2)、位于反应釜本体(2)右侧的温度调节器(3)、设置于底座(1)顶部的支架(4)、设置于支架(4)顶部的多个加液装置(5)和设置于加液装置(5)底部的调节装置(6)，所述调节装置(6)用于调节多个加液装置(5)加液的顺序和辅助调节加液时反应釜本体(2)内的温度以及温度的时间；所述加液装置(5)包括加液盒(51)、滑动设置于加液盒(51)内的活塞(52)、开设于加液盒(51)右下部的进液口、嵌设于进液口捏的进液单向阀和设置于加液盒(51)表面与进液口连通的加液管(53)，所述加液管(53)的另一端与外置储液装置连通，所述加液盒(51)顶端开设有气孔，所述加液盒(51)底部开设有出液口，所述加液盒(51)底端设置有与出液口连通的排液管(54)；所述调节装置(6)包括与支架(4)连接的背板(61)、设置于背板(61)前侧的圆柱状密封盒(62)和转动设置于圆柱状密封盒(62)内部的转板(63)、设置于转板(63)前表面的导液管(64)，所述导液管(64)一端贯穿圆柱状密封盒(62)前端中部与反应釜本体(2)内连通，多个所述排液管(54)远离加液盒(51)的一端与圆柱状密封盒(62)内壁的通孔连通，所述通孔离排液管(54)的一端内滑动设置有用于连通导液管(64)的开启机构(65)，所述转板(63)后侧设置有转杆，所述转杆通过第一电机驱动。2.根据权利要求1所述的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置，其特征在于，所述开启机构(65)包括上下滑动设置于通孔内的滑筒(651)，所述滑筒(651)中部中空，远离导液管(64)的一端为封口，所述滑筒(651)前后端均开设有进液孔，所述通孔左右两侧内壁中均开设有与进液孔连通的过液槽，所述过液槽位于靠近排液管(54)的一端，所述通孔靠近排液管(54)的一端内设置有限位块(652)，所述滑筒(651)与限位块(652)之间设置有第一复位弹簧；所述圆柱状密封盒(62)的内壁设置有与多个滑筒(651)转动连接的多个导向座(653)，所述滑筒(651)一侧设置设置有凸起的滑杆(654)，所述导向座(653)内开设有与滑杆(654)配合的C状滑槽(655)，所述C状滑槽(655)倾斜设置。3.根据权利要求2所述的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置，其特征在于，所述导液管(64)端部通过固定座(641)与转板(63)表面连接，所述固定座(641)一侧设置有便于与多个滑筒(651)接触的三角块，所述三角块沿着转板(63)转动方向设置。4.根据权利要求3所述的一种氟化物反应釜温控系统及温控装置，其特征在于，多个所述开启机构(65)和一个过固定座(641)均匀等距的分布于圆柱状密封盒(62)的周向上，且多个所述开启机构(65)连续设置，一个过固定座(641)位于多个开启机构(65)的...
【专利技术属性】
技术研发人员：丁慧云，
申请(专利权)人：丁慧云，
类型：发明
国别省市：
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