基底生成方法、装置、电子设备以及存储介质制造方法及图纸

技术编号:34726797 阅读:16 留言:0更新日期:2022-08-31 18:14
本公开提供了一种基底生成方法、装置、电子设备以及存储介质。涉及人工智能技术领域,具体涉及深度学习、计算机视觉、增强现实等技术领域。具体实现方案为:获取标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,标准模型和风格模型的网格拓扑不同;根据标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,确定风格变形模型的基础模型;获取标准变形模型与标准模型之间的变化量,标准变形模型是在标准模型基础上变形得到的模型;根据标准变形模型与标准模型之间的变化量,以及风格变形模型的基础模型,生成风格模型的风格变形模型基底。根据本公开的技术方案,能提高风格模型的风格变形模型基底的生成效率。效率。效率。

【技术实现步骤摘要】
基底生成方法、装置、电子设备以及存储介质


[0001]本公开涉及人工智能
,具体涉及深度学习、计算机视觉、增强现实等
,尤其涉及一种基底生成方法、装置、电子设备以及存储介质。

技术介绍

[0002]3D形变模型(3D Morphable Model,3DMM)技术非常依赖模型基底的建设,而模型基底的建设需要花费大量的人力和时间去建设。随着业务的不断增长,各个客户对模型的风格具有不同的需求,因此提升风格模型基底的生成效率是亟待解决的技术问题。

技术实现思路

[0003]本公开提供了一种基底生成方法、装置、电子设备以及存储介质。
[0004]根据本公开的第一方面,提供了一种基底生成方法,包括:
[0005]获取标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,标准模型和风格模型的网格拓扑不同;
[0006]根据标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,确定风格变形模型的基础模型;
[0007]获取标准变形模型与标准模型之间的变化量,标准变形模型是在标准模型基础上变形得到的模型;
[0008]根据标准变形模型与标准模型之间的变化量,以及风格变形模型的基础模型,生成风格模型的风格变形模型基底。
[0009]根据本公开的第二方面,提供了一种基底生成装置,包括:
[0010]第一获取模块,用于获取标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,标准模型和风格模型的网格拓扑不同;
[0011]确定模块,用于根据标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,确定风格变形模型的基础模型;
[0012]第二获取模块,用于获取标准变形模型与标准模型之间的变化量,标准变形模型是在标准模型基础上变形得到的模型;
[0013]生成模块,用于根据标准变形模型与标准模型之间的变化量,以及风格变形模型的基础模型,生成风格模型的风格变形模型基底。
[0014]根据本公开的第三方面,提供了一种电子设备,包括:
[0015]至少一个处理器;以及
[0016]与该至少一个处理器通信连接的存储器;其中,
[0017]该存储器存储有可被该至少一个处理器执行的指令,该指令被该至少一个处理器执行,以使该至少一个处理器能够执行上述第一方面所提供的方法。
[0018]根据本公开的第四方面,提供了一种存储有计算机指令的非瞬时计算机可读存储介质,其中,该计算机指令用于使该计算机执行上述第一方面所提供的方法。
[0019]根据本公开的第五方面,提供了一种计算机程序产品,包括计算机程序,该计算机程序在被处理器执行时实现上述第一方面所提供的方法。
[0020]根据本公开的技术方案,能显著提升风格模型的风格变形模型基底的生成效率,大大节省了人力和物力。
[0021]应当理解,本部分所描述的内容并非旨在标识本公开的实施例的关键或重要特征,也不用于限制本公开的范围。本公开的其它特征将通过以下的说明书而变得容易理解。
附图说明
[0022]附图用于更好地理解本方案,不构成对本公开的限定。其中:
[0023]图1是根据本公开实施例的基底生成方法的流程示意图;
[0024]图2是根据本公开实施例的标准模型的基础模型和标准变形模型、以及风格模型的示意图;
[0025]图3是根据本公开实施例的目标面上顶点关系的示意图;
[0026]图4是根据本公开实施例的基底生成总体流程意图;
[0027]图5是根据本公开实施例的基底生成装置的组成结构示意图;
[0028]图6是根据本公开实施例的基底生成的场景示意图;
[0029]图7是用来实现本公开实施例的基底生成方法的电子设备的框图。
具体实施方式
[0030]以下结合附图对本公开的示范性实施例做出说明,其中包括本公开实施例的各种细节以助于理解,应当将它们认为仅仅是示范性的。因此,本领域普通技术人员应当认识到,可以对这里描述的实施例做出各种改变和修改,而不会背离本公开的范围和精神。同样,为了清楚和简明,以下的描述中省略了对公知功能和结构的描述。
[0031]本公开的说明书实施例和权利要求书及上述附图中的术语"第一"、"第二"和"第三"等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。此外,术语"包括"和"具有"以及他们的任何变形,意图在于覆盖不排他的包含,例如,包含了一系列步骤或单元。方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元,而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。
[0032]本公开实施例提供了一种基底生成方法,图1是根据本公开实施例的基底生成方法的流程示意图,该基底生成方法可以应用于基底生成装置。该基底生成装置位于电子设备,该电子设备包括但不限于固定设备和/或移动设备,例如,固定设备包括但不限于服务器,服务器可以是云服务器或普通服务器。例如,移动设备包括但不限于:手机、平板电脑、车载终端中的一项或是多项终端。在一些可能的实现方式中,该方法还可以通过处理器调用存储器中存储的计算机可读指令的方式来实现。如图1所示,该基底生成方法包括:
[0033]S101:获取标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,该标准模型和该风格模型的网格拓扑不同;
[0034]S102:根据该标准模型的基础模型和该风格模型的基础模型,确定风格变形模型的基础模型;
[0035]S103:获取标准变形模型与标准模型之间的变化量,该标准变形模型是在该标准
模型基础上变形得到的模型;
[0036]S104:根据标准变形模型与标准模型之间的变化量,以及风格变形模型的基础模型,生成风格模型的风格变形模型基底。
[0037]本公开实施例中,标准模型是预先创建的一种模型。标准模型的基础模型(base)是不带有任何夸张的风格、真实的展示人物的正常形象的模型。
[0038]这里,标准模型可以是数资库中存在的模型。这类标准模型是至少具有已经设计好的形状(shape)基底或表情(expression)基底。
[0039]本公开实施例中,标准变形模型是在标准模型基础上变形得到的模型,标准变形模型与标准模型的至少一处特征不同。实际应用中,标准变形模型是对标准模型上至少一个特征关键点进行调整后得到的模型。需要说明的是,标准变形模型与标准模型的顶点数相同。
[0040]在一些实施方式中,以标准模型为人头模型为例,标准变形模型表征的人脸是具有表情的,而标准模型表征的人脸是无表情的。这里,表情包括但不限于:闭上左眼、闭上右眼、皱鼻、向左边咧嘴、向右边咧嘴、张开嘴巴等。以上仅为示例性说明,不作为对表情全部可能的类型的限定,只是这里不做穷举。
[0041]在另一些实施方式中,以标准模型为人头模型为例,标准变形模型表征的至少一处面部特征形状,与标准模型表征的面部特征形状不同。这里,面部特征包括但不限于:鼻子、眼睛、嘴巴、耳朵等。以上仅为示例性说明,不作为对形状全部可本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基底生成方法,包括:获取标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,所述标准模型和所述风格模型的网格拓扑不同;根据所述标准模型的基础模型和所述风格模型的基础模型,确定风格变形模型的基础模型;获取标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,所述标准变形模型是在所述标准模型基础上变形得到的模型;根据所述标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,以及所述风格变形模型的基础模型,生成所述风格模型的风格变形模型基底。2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述根据所述标准模型的基础模型和所述风格模型的基础模型,确定风格变形模型的基础模型,包括:将所述标准模型的基础模型和所述风格模型的基础模型进行对齐,得到将所述风格模型对齐到所述标准模型的变换矩阵;将所述标准模型的基础模型和所述风格模型的基础模型进行网格注册,得到所述标准模型与所述风格模型之间的网格对应关系;根据所述网格对应关系、所述变换矩阵以及所述风格模型的基础模型,得到所述风格变形模型的基础模型。3.根据权利要求2所述的方法,其中,所述将所述标准模型的基础模型和所述风格模型的基础模型进行网格注册,得到所述标准模型与所述风格模型之间的网格对应关系,包括:对所述风格模型的基础模型上各个顶点形成的网格进行形变,使变形后的所述风格模型的基础模型上各个顶点与其在所述标准模型的基础模型上临近点满足顶点约束关系;将所述风格模型的基础模型上各顶点与其在所述标准模型的基础模型上对应临近点之间的关系,确定为所述标准模型与所述风格模型之间的网格对应关系。4.根据权利要求1所述的方法,其中,所述根据所述标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,以及所述风格变形模型的基础模型,生成所述风格模型的风格变形模型基底,包括:将所述标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,迁移至所述风格变形模型的基础模型上的各个顶点,得到迁移结果;根据所述迁移结果生成所述风格模型的风格变形模型基底。5.根据权利要求4所述的方法,其中,所述将所述标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,迁移至所述风格变形模型的基础模型上的各个顶点,得到迁移结果,包括:根据所述标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,确定所述风格变形模型与所述风格模型之间的迁移量;所述根据所述迁移结果生成所述风格模型的风格变形模型基底,包括:根据所述风格变形模型的基础模型,以及所述风格变形模型与所述风格模型之间的迁移量,生成所述风格模型的风格变形模型基底。6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述根据所述标准变形模型与所述标准模型之间的变化量,确定所述风格变形模型与所述风格模型之间的迁移量,包括:查找所述风格变形模型的基础模型上每个顶点在所述标准模型上的目标点;
确定每个顶点的目标点在所述标准模型上对应的目标面,所述目标面包括至少三个目标顶点;将每个顶点的目标点投影至对应的目标面,得到每个顶点的投影点的重心坐标;利用每个顶点的投影点的重心坐标,加权每个顶点对应的目标面所包括的所述至少三个目标顶点的变化量,将每个顶点的加权结果确定为所述风格变形模型与所述风格模型之间的迁移量。7.一种基底生成装置,包括:第一获取模块,用于获取标准模型的基础模型和风格模型的基础模型,所述标准模型和所述风格模型的网...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘豪杰
申请(专利权)人:北京百度网讯科技有限公司
类型:发明
国别省市:

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