基于多个子光栅的平顶型蚀刻衍射光栅波分复用器件制造技术

本发明专利技术公开了一种基于多个子光栅的平顶型蚀刻衍射光栅波分复用器件。它包括输入波导、自由传播区、凹面衍射光栅、输出波导。凹面衍射光栅的结构为由两个子光栅或两个以上的子光栅组成的凹面衍射光栅系统，子光栅Ａ↓［１］～Ａ↓［ｎ］的会聚点为Ｏ↓［１］，子光栅Ｂ↓［１］～Ｂ↓［ｎ］的会聚点为Ｏ↓［２］。将Ｏ↓［１］和Ｏ↓［２］间的距离调整到一个适当的值，这两个场的叠加就使得像面上的总的场分布由传统的高斯型变为双峰型，从而使器件频谱响应的形状变成平顶形。本发明专利技术没有引入额外的工艺步骤，并且不增加器件的尺寸，以较小的功率代价使器件具有宽通带、大的１ｄＢ带宽的特性。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
基于多个子光栅的平顶型蚀刻衍射光栅波分复用器件，它包括输入波导（１）、自由传播区（２）、凹面衍射光栅、输出波导（４），其特征在于：凹面衍射光栅（５）的结构为由两个子光栅或两个以上的子光栅组成的凹面衍射光栅系统，子光栅Ａ↓［１］～Ａ↓［ｎ］的会聚点为Ｏ↓［１］，子光栅Ｂ↓［１］～Ｂ↓［ｎ］的会聚点为Ｏ↓［２］。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：文泓桥，石志敏，何赛灵，盛钟延，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：86[中国|杭州]