一种大米加工用抛光设备制造技术

技术编号:34706946 阅读:19 留言:0更新日期:2022-08-27 16:49
本实用新型专利技术提供了一种大米加工用抛光设备,涉及大米加工设备技术领域,其包括机架、滚筒、设置于滚筒内的抛光组件、用于驱动抛光组件转动的驱动组件以及连通滚筒的料斗,所述料斗为可开闭结构,且所述滚筒内壁周向间隔设置有多个刮片,所述刮片与抛光组件具有间距;还包括设置于机架并用于驱动滚筒转动的驱动机构。本实用新型专利技术具有改善现有技术中存在大米抛光效果较差的问题的效果。光效果较差的问题的效果。光效果较差的问题的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种大米加工用抛光设备


[0001]本技术涉及大米加工设备
,尤其涉及一种大米加工用抛光设备。

技术介绍

[0002]大米作为中国大部分人民的主食,其需求也随人民生活水平的提高而持续提高。现阶段,大米的主要加工过程为:糙米、精选、碾米、筛选、抛光、筛选、长度精选、配米、色选(选腹白)、色选(选异色粒)、筛选以及成品。
[0003]公开号为CN214916356U的中国技术专利公开的一种大米加工用抛光机,包括底架,所述底架的顶部固定安装有机体,所述机体的顶部设有进料管,所述进料管的顶部活动安装有横板,所述横板的底部固定连接有竖杆,所述竖杆的底端延伸至进料管内并固定安装有连接框,所述连接框的内侧设有筛分网,所述机体内转动安装有转轴,所述转轴的外侧固定安装有多个抛光轴。
[0004]针对上述中的相关技术,在抛光的过程中,大米在重力作用下沉积于机体底部,导致该处大米抛光效果较差。

技术实现思路

[0005]针对现有技术中所存在的不足,本技术提供了一种大米加工用抛光设备,其可改善现有技术中存在大米抛光效果较差的问题。
[0006]根据本技术的实施例,一种大米加工用抛光设备,其包括机架、滚筒、设置于滚筒内的抛光组件、用于驱动抛光组件转动的驱动组件以及连通滚筒的料斗,所述料斗为可开闭结构,且所述滚筒内壁周向间隔设置有多个刮片,所述刮片与抛光组件具有间距;还包括设置于机架并用于驱动滚筒转动的驱动机构。
[0007]优选的,所述刮片与滚筒转动的线速度方向的夹角小于90
°/>且大于60
°

[0008]优选的,所述滚筒与抛光组件转动的线速度方向相反。
[0009]优选的,所述料斗连通于滚筒径向侧壁的中端。
[0010]优选的,所述料斗包括固定于滚筒侧壁的料管和用于开闭料管的堵板,所述堵板沿垂直于料管开口方向的方向滑动连接于料管。
[0011]优选的,沿滚筒轴向,所述滚筒的内径从两端到中端逐渐增大。
[0012]优选的,靠近料斗的所述刮片贯穿开设有多个过孔,所述过孔连通于滚筒内壁。
[0013]优选的,所述驱动机构包括两组分别支撑滚筒两端的支撑件和一个驱动件,所述支撑件包括两个底座、两个分别转动连接于两个底座的齿轮以及一个同轴固定于滚筒外壁的齿环,所述齿环同时啮合于两个齿轮;所述驱动件的驱动端同轴固定于其中一个齿轮。
[0014]综上所述,本技术包括以下至少一种有益技术效果:
[0015]1.通过在滚筒内设置与抛光组件具有间距的刮片,并设置驱动机构驱动滚筒转动,使得物料在被抛光的过程中,转动的刮片可将滚筒底部的物料带向滚筒的顶部,随着滚筒的转动,物料朝向抛光组件下落并被抛光,从而改善现有技术中物料在重力作用下沉积,
而导致抛光效果较差的问题;
[0016]2.滚筒中端的内径大于其端部直径,使得物料积留于滚筒中端的几率更大,从而被抛光的效果更佳,且可被更加充分的排出;通过改变刮片与滚筒转动线速度方向的夹角,使得物料在刮片上滞留的时间相对更长,从而下落并被抛光的物料相对更大,抛光效果更佳。
附图说明
[0017]图1是本技术实施例的整体结构示意图;
[0018]图2是本技术实施例的第一局部结构示意图,主要展示滚筒内部结构;
[0019]图3是本技术实施例的第二局部结构示意图,主要展示卸料时滚筒的状态。
[0020]上述附图中:1、机架;2、滚筒;3、抛光组件;4、驱动组件;5、料斗;51、料管;52、堵板;6、刮片;61、过孔;7、支撑件;71、底座;72、齿轮;73、齿环;8、驱动件。
具体实施方式
[0021]下面结合附图1

3对本技术作进一步说明。
[0022]参照图1和图2,本技术实施例提出了一种大米加工用抛光设备,包括机架1、滚筒2、抛光组件3、驱动组件4以及连通于滚筒2侧壁的料斗5,滚筒2、抛光组件3以及驱动组件4均安装于机架1上,且抛光组件3设置于滚筒2内,以在驱动组件4的驱动下,利用抛光组件3对加入滚筒2内的物料进行抛光。抛光组件3和驱动组件4均为现有技术,故在此不对其结构作详细阐述。
[0023]沿滚筒2轴向,滚筒2的内径从两端到中端逐渐增大,使得滚筒2内的物料在重力的作用下可向滚筒2中端聚集,相对减少物料聚集于滚筒2端部的几率,从而相对提高物料被抛光几率,相对改善现有技术中存在大米抛光效果较差的问题。
[0024]料斗5包括料管51和堵板52,料管51沿滚筒2的径向延伸并连通于滚筒2的中端,使得物料通过料管51加入滚筒2内时,物料可直接接触抛光组件3,并可相对均匀的分布于滚筒2内,从而保证抛光的直接性、有效性;在料管51的侧壁上开设有安装口,且料管51的内壁开设有连通该安装口的滑槽。堵板52滑动连接于料管51的滑槽内,以通过滑动堵板52的方式实现料管51的开闭。
[0025]参照图1至图3,在滚筒2的内壁上轴向间隔固定有多个刮片6,该刮片6与抛光组件3具有间距,以保证抛光组件3的正常运行。
[0026]本设备还包括设置于机架1的驱动机构,驱动机构包括两组支撑件7和一个驱动件8,驱动件8连接于其中一个支撑件7;两组支撑件7分别设置于滚筒2的轴向两端,且支撑件7包括两个底座71、两个齿轮72以及一个齿环73,底座71固定于机架1、且两个齿轮72分别转动连接于连接于底座71,齿环73同轴固定于滚筒2的外壁,且齿环73同时啮合于两个齿轮72。驱动件8采用电机,其驱动轴同轴连接于其中一个齿轮72,以带动该齿轮72转动。
[0027]在将物料(大米)通过料管51加入滚筒2内后,先滑动堵板52将料管51封闭;然后通过驱动组件4驱动抛光组件3转动并对物料进行抛光;抛光过程中,启动驱动件8,驱动齿轮72转动,带动齿环73转动,进而带动滚筒2转动;滚筒2转动过程中,刮片6一同转动并带动积留于滚筒2内壁的物料转动,持续转动过程中,被带动的物料在重力作用下下落于抛光组件
3,从而改善现有技术中存在大米积留于滚筒2内壁,导致抛光效果较差的问题。
[0028]在抛光完成后,转动滚筒2,使得料管51相对于滚筒2靠近地面并向下开口,然后打开堵板52,将物料导出即可;由于滚筒2中部直径较大,使得物料可相对完全的被导出。
[0029]本实施例中,靠近料管51的刮片6贯穿开设有多个过孔61,且过孔61连通滚筒2的内壁,使得物料可通过过孔61,将抛光过后的物料通过料管51排出的充分性更大。
[0030]刮片6与滚筒2转动的线速度方向的夹角小于90
°
且大于60度,使得被刮片6的物料在刮片6上滞留的时间相对更大,滑落于抛光组件3上的物料相对更多,从而物料被抛光的效果更佳。
[0031]在抛光过程中,可使得滚筒2与抛光组件3转动的线速度方向相反,从刮片6上滑落的物料与抛光组件3撞击并被抛光的效果更强。
...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种大米加工用抛光设备,包括机架(1)、滚筒(2)、设置于滚筒(2)内的抛光组件(3)、用于驱动抛光组件(3)转动的驱动组件(4)以及连通滚筒(2)的料斗(5),其特征在于:所述料斗(5)为可开闭结构,且所述滚筒(2)内壁周向间隔设置有多个刮片(6),所述刮片(6)与抛光组件(3)具有间距;还包括设置于机架(1)并用于驱动滚筒(2)转动的驱动机构。2.根据权利要求1所述的一种大米加工用抛光设备,其特征在于:所述刮片(6)与滚筒(2)转动的线速度方向的夹角小于90
°
且大于60
°
。3.根据权利要求2所述的一种大米加工用抛光设备,其特征在于:所述滚筒(2)与抛光组件(3)转动的线速度方向相反。4.根据权利要求1所述的一种大米加工用抛光设备,其特征在于:所述料斗(5)连通于滚筒(2)径向侧壁的中端。5.根据权利要求4所述的一种大米加工用抛光设备,其特征在于:所...

【专利技术属性】
技术研发人员:尚春霞
申请(专利权)人:当阳市民天米业有限责任公司
类型:新型
国别省市:

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