用于改变LA-ICP-MS峰宽的用户可更换烧蚀室接口制造技术

在一个实施例中，激光烧蚀系统可以包括激光烧蚀室和至少一对粒子收集部到输送管道接口。该激光烧蚀室可以被配置成用于烧蚀样品或另一种材料，并且该激光烧蚀室可以包括激光单元。这至少一对粒子收集部到输送管道接口可以被配置为聚集经烧蚀的样品并将将烧蚀的样品引导至分析单元。选定的粒子收集部到输送管道接口可以由激光烧蚀室接收在激光单元的正上方。至少一对粒子收集部到输送管道接口可以被配置为是能够彼此互换的。配置为是能够彼此互换的。配置为是能够彼此互换的。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于改变LA
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ICP
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MS峰宽的用户可更换烧蚀室接口
[0001]相关申请
[0002]本申请要求2020年1月10日提交的标题为“用于改变LA
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ICP
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MS峰宽的用户可更换烧蚀室接口(USER EXCHANGEABLE ABLATION CELL INTERFACE TO ALTER LA
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MS PEAK WIDTHS)”的美国临时专利申请No.62/959,865的国内优先权。

技术介绍

[0003]激光烧蚀电感耦合等离子体质谱(LA
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MS)技术或激光烧蚀电感耦合等离子体发射光谱(LA
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OES)技术可用于分析标靶(例如，固体或液体靶材)的组分。通常，标靶的样品被以气溶胶(即，由在诸如氦气之类的载气中的固体粒子和可能的液体粒子和/或蒸汽构成的悬浮液)的形式提供给分析系统。该样品通常通过将标靶布置在激光烧蚀室内，在该室内引入载气流，并本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光烧蚀系统，包括：激光烧蚀室，所述激光烧蚀室被配置为烧蚀样品或其它材料，所述激光烧蚀室包括激光单元；和至少一对粒子收集部到输送管道接口，所述至少一对粒子收集部到输送管道接口被配置为聚集经烧蚀的样品并将所述经烧蚀的样品引导到分析单元，选定的粒子收集部到输送管道接口被接收在所述激光烧蚀室与所述激光单元之间，所述至少一对粒子收集部到输送管道接口被配置为能够彼此互换的，其中，所述选定的粒子收集部到输送管道接口具有不同的几何形状，所述几何形状被针对不同的应用进行优化。2.如权利要求1所述的激光烧蚀系统，其中，每个粒子收集部到输送管道接口具有相似的占用空间和连接点布局，以便被相对于所述激光烧蚀室以可互换的方式安装在所述激光单元的上方。3.如权利要求2所述的激光烧蚀系统，其中，每个粒子收集部到输送管道接口是完整的组件。4.如权利要求1所述的激光烧蚀系统，其中，一个给定的粒子收集部到输送管道接口被优化，以用于在近距离处对激光羽流进行采样，从而实现高速信号提取。5.如权利要求1所述的激光烧蚀系统，其中，一个给定的粒子收集部到输送管道接口被优化，以用于对烧蚀羽流进行较慢采样，从而实现较慢的且更为稳定的信号提取。6.如权利要求1所述的激光烧蚀系统，其中，所述激光烧蚀室被配置为允许控制所述激光烧蚀室内的样品烧蚀面到收集孔的距离和与所述激光单元相关联的所述样品烧蚀面中的至少一个。7.如权利要求6所述的激光烧蚀系统，其中，与第二粒子收集部到输送管道接口相比，第一粒子收集部到输送管道接口具有不同的样品烧蚀面到与其相关联的收集孔的距离。8.如权利要求6所述的激光烧蚀系统，其中，所述激光烧蚀室还被配置为当用户选择转换收集模式时，自动地改变所述样品烧蚀面到收集孔的距离。9.如权利要求8所述的激光烧蚀系统，其中，当在不同的粒子收集部到输送管道接口之间进行转换时，提示所述收集模式的转换。10.如权利要求1所述的激光烧蚀系统，其中，所述激光烧蚀室被配置为可选择地调整样品烧蚀面到收集孔的距离。11.一种激光烧蚀系统，包括：激光烧蚀室，所述激光烧蚀室被配置为烧蚀样品或其它材料，所述激光烧蚀室包括激光单元；和至少一对粒子收集部到输送管道接口...

【专利技术属性】
技术研发人员：C，
申请(专利权)人：元素科学雷射公司，
类型：发明
国别省市：