本实用新型专利技术公开了一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，包括超声波清洗机本体，所述超声波清洗机本体内部设置有承载板，所述承载板滑动连接在超声波清洗机本体内部，且承载板的长度方向与水平面保持平齐，所述承载板上开设有若干承载腔，所述承载腔贯穿承载板，所述承载腔内部设置有至少三根放置杆，所述放置杆均匀分布在承载腔的内壁上；本实用新型专利技术可以使得光隔离器用LN晶体楔片表面与清洗液完全接触，防止光隔离器用LN晶体楔片贴合在清洗设备的承载板的表面，从而导致的出现贴合处清洁不彻底的问题，因此本实用新型专利技术对光隔离器用LN晶体楔片的表面清洁更加彻底，清洁效果更好。清洁效果更好。清洁效果更好。
【技术实现步骤摘要】
一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置
[0001]本技术涉及清洗设备领域，具体是一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置。
技术介绍
[0002]光隔离器是一种只允许单向光通过的无源光器件，其工作原理是基于法拉第旋转的非互易性。通过光纤回波反射的光能够被光隔离器很好的隔离。光隔离器主要利用磁光晶体的法拉第效应。光隔离器的特性是：正向插入损耗低，反向隔离度高，回波损耗高。光隔离器是允许光向一个方向通过而阻止向相反方向通过的无源器件，作用是对光的方向进行限制，使光只能单方向传输，通过光纤回波反射的光能够被光隔离器很好的隔离，提高光波传输效率，在光隔离器的配件中有LN晶体楔片，在生产LN晶体楔片时需要对LN晶体楔片进行清洗，保持LN晶体楔片表面清洁，现有的清洗设备在清洗时LN晶体楔片总有一面或部分表面与清洗设备的表面贴合，从而导致LN晶体楔片贴合处的表面容易附着污渍，进而出现LN晶体楔片表面清洁不彻底的问题，影响光隔离器的整体性能。
技术实现思路
[0003]本技术目的是提供一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，以解决现有技术中清洗不彻底的问题。
[0004]为了实现上述目的，本技术的技术方案是：
[0005]一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，包括超声波清洗机本体，所述超声波清洗机本体内部设置有承载板，所述承载板滑动连接在超声波清洗机本体内部，且承载板的长度方向与水平面保持平齐，所述承载板上开设有若干承载腔，所述承载腔贯穿承载板，所述承载腔内部设置有至少三根放置杆，所述放置杆均匀分布在承载腔的内壁上。
[0006]进一步的，所述超声波清洗机本体内部设置有若干顶杆，所述顶杆的长度方向与水平面保持垂直，所述顶杆与承载腔一一对应。
[0007]进一步的，所述顶杆的轴线与承载腔的中心位于同一条直线上。
[0008]进一步的，所述超声波清洗机本体外部固定连接有升降杆，所述升降杆的顶部固定连接有连接杆，所述连接杆与水平面保持平行，所述连接杆远离升降杆的一端固定连接有提升杆，所述提升杆伸入到超声波清洗机本体内部，所述提升杆底部与承载板顶部固定连接。
[0009]进一步的，所述升降杆为电动伸缩杆或液压伸缩杆。
[0010]进一步的，所述放置杆的长度不大于为承载腔内径的一半。
[0011]进一步的，所述超声波清洗机本体底部固定连接有排液管。
[0012]与现有技术相比，本技术具有的优点和积极效果是：
[0013]本技术可以使得光隔离器用LN晶体楔片表面与清洗液完全接触，防止光隔离器用LN晶体楔片贴合在清洗设备的承载板的表面，从而导致的出现贴合处清洁不彻底的问
题，因此本技术对光隔离器用LN晶体楔片的表面清洁更加彻底，清洁效果更好。
附图说明
[0014]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0015]图1为本技术的主视剖面图；
[0016]图2为本技术的左视图；
[0017]图3为本技术图1的A处放大图。
具体实施方式
[0018]为使本技术实施方式的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施方式中的附图，对本技术实施方式中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施方式是本技术一部分实施方式，而不是全部的实施方式。通常在此处附图中描述和示出的本技术实施方式的组件可以以各种不同的配置来布置和设计。
[0019]因此，以下对在附图中提供的本技术的实施方式的详细描述并非旨在限制要求保护的本技术的范围，而是仅仅表示本技术的选定实施方式。基于本技术中的实施方式，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施方式，都属于本技术保护的范围。
[0020]需要说明的是，在不冲突的情况下，本技术中的实施方式及实施方式中的特征可以相互组合。
[0021]应注意到：相似的标号和字母在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中不需要对其进行进一步定义和解释。
[0022]在本技术的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，或者是该技术产品使用时惯常摆放的方位或位置关系，或者是本领域技术人员惯常理解的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于区分描述，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
[0023]在本技术的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0024]如图1
‑
图3所示，
[0025]一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，包括超声波清洗机本体1，所述超声波清洗机本体1内部设置有承载板2，所述承载板2滑动连接在超声波清洗机本体1内部，且承
载板2的长度方向与水平面保持平齐，所述承载板2上开设有若干承载腔21，所述承载腔21贯穿承载板2，所述承载腔21内部设置有至少三根放置杆22，所述放置杆22的长度方向与水平方向保持平行，所述放置杆22均匀分布在承载腔21的内壁上。
[0026]本实施例中，所述超声波清洗机本体1内部设置有若干顶杆11，所述顶杆11的长度方向与水平面保持垂直，所述顶杆11与承载腔21一一对应。
[0027]本实施例中，所述顶杆11的轴线与承载腔21的中心位于同一条直线上。
[0028]本实施例中，所述超声波清洗机本体1外部固定连接有用于连接的升降杆31，所述升降杆31的顶部固定连接有连接杆32，所述连接杆32与水平面保持平行，所述连接杆32远离升降杆31的一端固定连接有提升杆33，所述提升杆33伸入到超声波清洗机1本体内部，所述提升杆33底部与承载板2顶部固定连接。
[0029]本实施例中，所述升降杆31为电动伸缩杆或液压伸缩杆。
[0030]本实施例中，所述放置杆22的长度不大于为承载腔21内径的一半。
[0031]本实施例中，所述超声波清洗机本体1底部固定连接有用于排渣的排液管12。
[0032]在使用本技术时，将本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，其特征在于：包括超声波清洗机本体，所述超声波清洗机本体内部设置有承载板，所述承载板滑动连接在超声波清洗机本体内部，且承载板的长度方向与水平面保持平齐，所述承载板上开设有若干承载腔，所述承载腔贯穿承载板，所述承载腔内部设置有至少三根放置杆，所述放置杆均匀分布在承载腔的内壁上。2.根据权利要求1所述的一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，其特征在于：所述超声波清洗机本体内部设置有若干顶杆，所述顶杆的长度方向与水平面保持垂直，所述顶杆与承载腔一一对应。3.根据权利要求2所述的一种光隔离器用LN晶体楔片用的清洗装置，其特征在于：所述顶杆的轴线与承载腔的中心位于同一条直线上。4.根据权利要求2所...
【专利技术属性】
技术研发人员：刘春鸣，刘春连，韩帅，宋燕平，
申请(专利权)人：焦作市名泽磁业有限公司，
类型：新型
国别省市：
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