一种等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置及方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置及方法，工件装夹在工件旋转装置端部的卡盘上，工件旋转装置固定在工件进给装置上，带动工件移动装置实现工件的进给。电解循环系统由电解液泵和电解液存储箱组成，电解存储箱内有加热和冷却装置了维持电解液在特定温度范围内。抛光时电解液泵将电解液抽送到电解液槽中后回流到电解液存储箱内，实现电解液的循环使用。电控柜上设有触屏显示器，可控制工件和电解槽的移动和加工参数。电解槽为中空结构，外边缘由橡胶包裹，与工件接触时隔出抛光区域，配合工件的旋转实现对大型回转零件内壁的抛光和去毛刺处理，实现了小面积连续抛光、抛光区域可控。抛光区域可控。抛光区域可控。

【技术实现步骤摘要】
一种等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置及方法


[0001]本专利技术属于电解质等离子抛光
，特别是一种等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置及方法。

技术介绍

[0002]等离子电解抛光是一种高效、环保、经济的金属零部件抛光工艺。抛光时对浸泡在电解液中的工件施加高电压(250 v
‑
400 v)，工件表面生成一层动态波动的蒸汽膜，在强电场的作用下气泡层被击穿产生等离子体，并伴随着发光、发热、发声现象。经过复杂的物理化学反应工件表面变得光滑平整，是表面抛光和去毛刺的理想的加工工艺，特别是针对复杂结构工件的表面抛光具有独特的优势。但是由于电解槽和电源功率的局限性，等离子电解抛光很难对一些大型回转类工件的型腔进行抛光和去毛刺处理。此外，对回转类工件的内表面进行抛光处理时还会出现电屏蔽现象，导致抛光效果不理想等问题。
[0003]授权公布号为CN210281639U的中国专利公开了一种机械臂辅助电解质等离子抛光装置，由机械手臂带动电解液喷头，可以对大面积的工件表面进行抛光处理。但是直接将电解液喷向带电的工件表面会不可避免本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置，其特征在于，包括工件旋转装置，工件进给装置，电解液循环系统和电控柜；电控柜（5）位于电解液循环系统的外侧，控制面板可控制抛光电压、抛光时间、工件进给和旋转速度以及电解液温度及流速；电控柜（5）的电源阳极通过电刷杆（52）与工件（12）相连；工件装夹在工件旋转装置端部的卡盘上，并与卡盘相绝缘，工件旋转装置带动工件沿水平方旋转轴旋转；工件旋转装置（1）固定在工件进给装置（2）的滚珠丝杠移动平台（23）上，移动平台底部设有凹槽与滑动导轨（22）配合，移动平台可沿着滑动导轨水平移动，带动工件移动装置（1）实现工件的水平移动；电解液循环系统包括电解液存储箱（37）和电解槽移动装置（4），电解槽（41）固定在电解槽移动装置（4）上，由电解槽移动电机（43）驱动电解槽移动装置（4）带着电解槽上下移动，电解槽（41）通过软管与电解液存储箱相连，通过电解液泵实现电解液的循环使用；在电解槽内侧壁上设有阴极板（413）并与电控柜（5）中的电源负极相连； 抛光时电解液槽紧贴工件内壁形成抛光区域，结合工件的旋转运动对整个工件内壁进行抛光和去毛刺处理。2.根据权利要求1所述的等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置，其特征在于，在电解槽（41）底部设有一个可移动挡板（414），在不工作状态可移动挡板位于电解槽顶端，抛光时，可移动挡板被工件推至远离电解槽顶端的位置，工件内壁替代可移动挡板构建抛光区域；所述的可移动挡板位于电解槽底部的卡槽内，在可移动挡板接近电解槽顶端的位置与电解槽内侧壁之间设有弹簧装置，使挡板始终与工件紧贴工件端部。3.根据权利要求1所述的等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置，其特征在于，电刷杆通过套管结构（54）固定在电控柜上，通过转动角度使电刷杆与工件接触，当电刷杆与工件接触时用预紧螺栓（51）将电刷杆固定在电刷杆限位滑槽（53）内。4.根据权利要求书1所述的等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置，其特征在于，电解槽壁包裹一层耐高温绝缘弹性密封件，防止电解槽与工件内壁不密闭和电解液的泄露；电解槽底部靠近滚珠丝杠移动平台的一端设有电解液回流孔，电解液通过回流孔流向电解液存储箱；电解槽两边内壁上设有阴极板，通过导线与电控柜中电源的阴极相连。5.根据权利要求书1所述的一种等离子电解抛光大型回转零件内壁的装置，其特征在于，电解槽移动装置由纵向滚珠丝杠滑动平台和电解槽构成，电解槽固定...

【专利技术属性】
技术研发人员：苏宏华，周传强，钱宁，印峻，丁文锋，陈燕，傅玉灿，徐九华，
申请(专利权)人：南京航空航天大学，
类型：发明
国别省市：