新型双面微晶异质结电池制造技术

技术编号:34596743 阅读:107 留言:0更新日期:2022-08-20 08:57
本实用新型专利技术涉及一种新型双面微晶异质结电池,属于太阳能电池制造技术领域。通过引入微晶硅来增强异质结电池的光学性能,在N型单晶硅片正背面分别沉积掺杂微晶硅,且在电池前表面靠近N型单晶硅片以及正面本征非晶硅层区进行浅掺杂,使钝化效果更优,在正面金属栅线层区则采用重掺杂,使重掺杂能够减小N型单晶硅片与正面金属栅线层之间的接触电阻,得到更高的电流。在正面本征非晶硅层与浅掺N型微晶硅层之间插入正面第一微晶硅层,提高了导电性,且不会影响到非晶硅的钝化效果。在重掺N型微晶硅层与浅掺N型微晶硅层之间插入正面第二微晶硅层,提高了光学吸收。之后再沉积正面TCO膜层和背面TCO膜层,进一步提高光学性能。进一步提高光学性能。进一步提高光学性能。

【技术实现步骤摘要】
新型双面微晶异质结电池


[0001]本技术涉及太阳能电池制造
,尤其涉及一种新型双面微晶异质结电池。

技术介绍

[0002]异质结电池便是一种前景非常好的高效电池之一。由于异质结电池具有制备工艺流程简单,转换效率高、可大尺寸化、可薄片化、低衰减、双面性好等优势,已被众多厂家研究生产。
[0003]异质结电池是以N型单晶硅片为衬底100,经过制绒清洗后分别在前表面沉积本征非晶硅101和n型掺杂非晶硅102来形成前表面场,在背面依次沉积本征非晶硅103和p型掺杂非晶硅104来形成PN结,并在正背面分别沉积TCO膜层105和106,然后在正背面分别印刷金属栅线107和108,制备成为异质结电池,如图1所示。
[0004]由于异质结电池优异的钝化效果使其具有较高的开路电压,但由于非晶硅的带隙较窄使得其光学利用率偏低,导致短路电流较低,因此需要解决其光学性能,且在栅线分布上也存在诸多问题,如栅线较多,会导致光学吸收减少,栅线较少,会导致接触电阻增大,都会造成转换效率下降,因此需要解决其电学性能。
专利技术内容
[00本文档来自技高网
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种新型双面微晶异质结电池,其特征在于,包括N型单晶硅片(1),所述N型单晶硅片(1)正面依次沉积有正面本征非晶硅层(2)、正面第一微晶硅层(3)、浅掺N型微晶硅层(4)、正面第二微晶硅层(5)、重掺N型微晶硅层(6)、正面TCO膜层(7)和正面金属栅线层(8),所述N型单晶硅片(1)背面依次沉积有背面本征非晶硅层(9)、背面微晶硅层(10)、P型掺杂微晶硅层(11)、背面TCO膜层(12)和背面金属栅线层(13)。2.根据权利要求1所述的新型双面微晶异质结电池,其特征在于,所述正面本征非晶硅层(2)的厚度为3

8nm。3.根据权利要求1所述的新型双面微晶异质结电池,其特征在于,所述正面第一微晶硅层(3)的厚度为3

5nm。4.根据权利要求1所述的新型双面微晶异质结电池,其特征在于,所述浅掺N型微晶硅层(4)的厚度为3

5nm。5.根据权利...

【专利技术属性】
技术研发人员:杨文亮杨立友王继磊黄金鲍少娟白焱辉师海峰杨骥任法渊冀杨洲高英杰
申请(专利权)人:晋能清洁能源科技股份公司
类型:新型
国别省市:

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