一种光刻胶出胶量控制系统技术方案

本实用新型专利技术涉及晶圆封装设备领域，尤其涉及一种光刻胶出胶量控制系统，目的是实现在半导体封装时，光刻胶出胶量的动态控制，达到节省人工以及提升效率的目的；包括：出胶泵，内部设置有用于容纳光刻胶的第一腔室，在所述第一腔室内部设置有用于推动光刻胶朝向出胶管方向运动的活塞部；进胶管，一端与所述第一腔室连通，另一端连接光刻胶供应设备；出胶管，一端与所述第一腔室连通，另一端朝向晶圆转台；活塞泵，设置于出胶泵外部，与活塞部动力连接，用于带动活塞部在所述第一腔室内往复运动；行程调节模块，与活塞泵动力连接，用于控制活塞泵的输出参数；流量计，并联于出胶管上，用于控制出胶管的流量；控制器，电性连接流量计与行程调节模块。调节模块。调节模块。

【技术实现步骤摘要】
一种光刻胶出胶量控制系统


[0001]本技术涉及晶圆封装设备领域，尤其涉及一种光刻胶出胶量控制系统。

技术介绍

[0002]光刻胶涂敷是半导体先进封装光刻制程中的关键工艺。现有旋转涂覆技术中的光刻胶涂胶设备固定了涂胶量，不管光刻胶胶层的厚度是多少，胶泵每次推出的光刻胶胶量固定，不能根据光刻胶胶层的厚度来进行改变，尤其是在半导体芯片的高密度扇出封装结构中，通常需要采用不同光刻胶层厚度来控制金属布线层中金属走线层的厚度，这导致光刻胶涂敷设备在人力操作上的浪费，同时还会增加光刻胶涂敷工艺时间，不能很好的控制生产成本。

技术实现思路

[0003]针对现有技术中所存在的不足，本技术提供一种光刻胶出胶量控制系统，来实现在半导体封装时，光刻胶出胶量的动态控制，从而达到节省人力成本以及提升封装效率的目的。
[0004]根据本技术的实施例，一种光刻胶出胶量控制系统，包括：
[0005]出胶泵，内部设置有用于容纳光刻胶的第一腔室，在所述第一腔室内部设置有用于推动光刻胶朝向出胶管方向运动的活塞部；
[0006]进胶管，一端与所述第本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光刻胶出胶量控制系统，其特征在于，包括：出胶泵，内部设置有用于容纳光刻胶的第一腔室，在所述第一腔室内部设置有用于推动光刻胶朝向出胶管方向运动的活塞部；进胶管，一端与所述第一腔室连通，另一端连接光刻胶供应设备；出胶管，一端与所述第一腔室连通，另一端朝向晶圆转台；活塞泵，设置于出胶泵外部，与活塞部动力连接，用于带动活塞部在所述第一腔室内往复运动；行程调节模块，与活塞泵动力连接，用于控制活塞泵的输出参数；流量计，并联于出胶管上，用于控制出胶管的流量；控制器，电性连接流量计与行程调节模块。2.如权利要求1所述的一种光刻胶出胶量控制系统，其特征在于，所述出胶泵外部设置有与进胶管相连通的第二腔室；所述第二腔室内活动设置有用于控制第二腔室与进胶管连通的陶瓷球；在第二腔室的侧壁且位于进胶管与第二腔室连通处的上方，开设有用于连通第二腔室与第一腔室的引流管。3.如权利要求2所述的一种光刻胶出胶量控制系统，其特征在于，所述引流管的开设方向从第二腔室的侧壁，相较于竖直平面倾斜向下，与第一腔...

【专利技术属性】
技术研发人员：张章龙，吴明，罗富铭，李健，唐彬杰，吴子恺，王嘉炜，
申请(专利权)人：长电集成电路绍兴有限公司，
类型：新型
国别省市：