晶圆自动涂源装置制造方法及图纸

技术编号:34555957 阅读:19 留言:0更新日期:2022-08-17 12:42
本实用新型专利技术涉及一种晶圆自动涂源装置,属于晶圆涂源领域,包括机架及用于固定晶圆片的晶圆放置盘,晶圆放置盘在工作状态下呈旋转状态,其特征在于,还包括水平滑轨,水平移动支架与水平滑轨以滑动方式相连;顶升机构、毛笔连接架、执笔夹、毛笔、试剂瓶,毛笔与执笔夹固定相连,其前端为刷头;及输送管,其与毛笔连接架固定相连,输送管的一端深入试剂瓶内,输送管的另一端伸入毛笔的刷头中并与刷头保持相对固定;本实用新型专利技术无需蘸取动作即可保证毛笔刷头上源液的稳定供给,且避免了摆臂的动作,避免摆臂导致的甩溅等现象。免摆臂导致的甩溅等现象。免摆臂导致的甩溅等现象。

【技术实现步骤摘要】
晶圆自动涂源装置


[0001]本技术涉及晶圆涂源
,具体涉及一种晶圆自动涂源装置。

技术介绍

[0002]随着电子产品的不断发展,对芯片的要求也越来越高。随着芯片的大规模生产,磷液、金液的涂源需要通过手动涂源来进行,而手动涂源机不仅仅需要人力,而且耗电量、源用量的消耗颇高,生产效率低下。
[0003]现有技术,申请号为2021109415734的技术专利公开了一种涂源机,在PP碗形防护罩内设置用于吸附连接产品主体的旋转吸盘,PP碗形防护罩外侧设置溶剂瓶并配以磁力搅拌,产品主体的涂覆机构采用一摆臂端部设执笔倾斜气缸,执笔倾斜气缸一侧表面固定安装毛笔固定座,将毛笔固定在毛笔固定座上,用于对连接在旋转吸盘上的硅片进行涂源。使用时,摆臂带动毛笔蘸取溶剂瓶内的源液然后配合吸盘的旋转以及执笔倾斜气缸的倾斜和竖直两种状态的切换来完成涂源操作。这种结构比较复杂,尤其是需要摆臂来回摆动来蘸取和涂源,而且蘸取的过程源液的量也不好控制,容易造成源液随摆臂甩出的现象。

技术实现思路

[0004]本技术所要解决的技术问题是针对现有技术的不足,提供一种晶圆自动涂源装置,无需蘸取动作即可保证毛笔刷头上源液的稳定供给,且避免了摆臂的动作,避免摆臂导致的甩溅等现象。
[0005]本技术解决上述技术问题的技术方案如下:晶圆自动涂源装置,包括机架及用于固定晶圆片的晶圆放置盘,晶圆放置盘在工作状态下呈旋转状态,其特征在于,还包括
[0006]水平滑轨,与机架固定相连,其方向平行于晶圆片的半径方向;
[0007]水平移动支架,与水平滑轨以滑动方式相连;
[0008]顶升机构,与水平移动支架固定相连;
[0009]毛笔连接架,与顶升机构相连,并能够在顶升机构的带动下上下运动;
[0010]执笔夹,与毛笔连接架固定相连;
[0011]毛笔,与执笔夹固定相连,其前端为刷头;
[0012]试剂瓶,设置在晶圆放置盘的一侧;
[0013]及输送管,其与毛笔连接架固定相连,输送管的一端深入试剂瓶内,输送管的另一端伸入毛笔的刷头中并与刷头保持相对固定。
[0014]进一步的,晶圆放置盘外部设置有防护罩。
[0015]进一步的,试剂瓶放置在一磁力搅拌器上。
[0016]进一步的,输送管通过一刚性金属条与毛笔连接架相连。
[0017]更进一步的,金属条与毛笔连接架固定相连,金属条的端部延伸至靠近毛笔刷头的位置,输送管与金属条固定相连。
[0018]进一步的,所述顶升机构采用顶升气缸,其伸缩端与毛笔连接架固定相连。
[0019]本技术的有益效果是:
[0020]1.本技术通过设置的水平滑轨、水平移动支架、顶升机构、毛笔连接架、毛笔、与毛笔刷头相连的输送管以及与输送管相连通的试剂瓶,能够使毛笔的刷头上始终浸有源液,并随水平移动支架的水平运动完成毛笔在晶圆片表面的涂源操作,且无需摆臂结构,有效防止摆臂动作导致的源液甩溅;
[0021]2.本技术进一步通过设置的金属条及其与毛笔连接架和毛笔刷头的连接和位置关系,提供给输送管骨架作用,能够有效避免有一定柔性的输送管由刷头中滑脱,保证刷头中源液的稳定供给。
附图说明
[0022]图1是本技术的结构示意图;
[0023]图中:10.机架,11.晶圆放置盘,12.防护罩,21.水平滑轨,22.水平移动支架,30.顶升机构,41.毛笔连接架,42.执笔夹,43.金属条,50.毛笔,51.刷头,60.试剂瓶,61.磁力搅拌器,70.输送管。
具体实施方式
[0024]下面结合附图对本技术的原理和特征进行描述,所举实施例只用于解释本技术,并非用于限定本技术的范围。
[0025]如图1所示,本实施例的晶圆自动涂源装置,包括机架10及用于固定晶圆片的晶圆放置盘11,晶圆放置盘11在工作状态下呈旋转状态,其特征在于,还包括
[0026]水平滑轨21,与机架10固定相连,其方向平行于晶圆片的半径方向;
[0027]水平移动支架22,与水平滑轨21以滑动方式相连;水平移动支架22连接有驱动其运动的水平气缸;
[0028]顶升机构30,与水平移动支架22固定相连;具体采用顶升气缸,其伸缩端与毛笔连接架41固定相连;
[0029]毛笔连接架41,与顶升机构30相连,并能够在顶升机构30的带动下上下运动,且毛笔连接架41能够随水平移动支架22沿水平滑轨21的方向水平运动;
[0030]执笔夹42,与毛笔连接架41固定相连;
[0031]毛笔50,与执笔夹42固定相连,其前端为刷头51;毛笔50能够在顶升机构30的带动下上下运动,并能够在毛笔连接架41的带动下沿水平滑轨21的方向水平运动;
[0032]试剂瓶60,用于盛放涂源的源液,其设置在晶圆放置盘11的一侧;
[0033]及输送管70,其与毛笔连接架41固定相连,输送管70的一端深入试剂瓶60内,输送管70的另一端伸入毛笔50的刷头51中并与刷头51保持相对固定;输送管70上设置有蠕动泵,用于向刷头51定量输送源液。
[0034]工作状态下,将晶圆片固定放置在晶圆放置盘11上,晶圆片随晶圆放置盘11旋转,设置的输送管70连通至试剂瓶60,能够使毛笔50的刷头51上始终浸有源液。通过顶升机构30控制毛笔50的高度使其刷头与晶圆片的表面相接触;利用水平移动支架22在水平滑轨21上的滑动,带动毛笔50沿晶圆片的半径方向水平运动,通过毛笔50在毛笔连接架41的合理位置布局,使得毛笔水平运动的极限位置分别位于晶圆片的圆心处和圆周处,如此就能够
控制浸有源液的毛笔50由晶圆片的圆心向圆周滑动,配合晶圆片的旋转,实现整个晶圆片表面的涂源。
[0035]一个晶圆片涂源结束后,顶升机构控制毛笔抬起,更换晶圆片,毛笔在水平气缸的驱动下由晶圆片圆周复位至圆心上方,顶升气缸控制毛笔下落至晶圆片表面,重复上述涂源动作。
[0036]在本技术的其他实施例中,晶圆放置盘11外部还设置有防护罩12,放置晶圆片旋转过程中源液甩溅至周围。
[0037]在本技术的其他实施例中,试剂瓶60放置在一磁力搅拌器61上,保持试剂瓶60中源液成分的稳定性。
[0038]在本技术的其他实施例中,输送管70通过一刚性金属条43与毛笔连接架41相连。具体地,金属条43与毛笔连接架41固定相连,金属条43的端部延伸至靠近毛笔50刷头51的位置,输送管70与金属条43固定相连。目的是金属条起骨架作用,防止有一定柔性的输送管在运动过程中由刷头中滑脱,影响供源液的稳定性。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.晶圆自动涂源装置,包括机架(10)及用于固定晶圆片的晶圆放置盘(11),晶圆放置盘(11)在工作状态下呈旋转状态,其特征在于,还包括水平滑轨(21),与机架(10)固定相连,其方向平行于晶圆片的半径方向;水平移动支架(22),与水平滑轨(21)以滑动方式相连;顶升机构(30),与水平移动支架(22)固定相连;毛笔连接架(41),与顶升机构(30)相连,并能够在顶升机构(30)的带动下上下运动;执笔夹(42),与毛笔连接架(41)固定相连;毛笔(50),与执笔夹(42)固定相连,其前端为刷头(51);试剂瓶(60),设置在晶圆放置盘(11)的一侧;及输送管(70),其与毛笔连接架(41)固定相连,输送管(70)的一端深入试剂瓶(60)内,输送管(70)的另一端伸入毛笔(50)的刷头(51)中并与刷头(51)保持相对固定。2.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:孟恒刘君夏祥军
申请(专利权)人:山东晶导微电子股份有限公司
类型:新型
国别省市:

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