一种消光转移膜及其制备方法技术

技术编号:34555891 阅读:14 留言:0更新日期:2022-08-17 12:41
本发明专利技术公开了一种消光转移膜,依次由上表层,芯层和下表层构成;其中上表层为消光层,包括下述质量份的原料:聚丙烯49

【技术实现步骤摘要】
一种消光转移膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及功能薄膜
,尤其涉及一种消光转移膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]转移膜是一种中间载体,存在于转移纸基或塑基之上,用来承载被印刷或打印的图案,是用于转印到被印制的物品之上的一层化学弹性膜。转移膜被广泛应用于广告、装饰、皮革、纺织品等领域。目前市场上的BOPP转移膜大多数为光膜型转移膜,但近年来,越来越多的产品要求呈哑光效果﹐以降低图案的光泽度,伴随着这一市场需求,消光转移膜出现在大众视野当中。
[0003]目前,市面上的消光转移膜的性能大多存在一定缺陷,如消光效果不均匀,转移后的效果达不到要求甚至转移不完全等等一系列问题。且当前大部分转移膜在使用过程中仍然离不开外部离型剂,需要使用离型剂以保证转移膜剥离时不出现残留不良的情况。而目前外部离型剂以喷雾型离型剂为主,喷雾型离型剂通常使用氟利昂或无臭丙烷气体作为喷雾推进剂,氟里昂会破坏臭氧层,不符合环保发展理念,无臭丙烷则是一种易燃气体,有重大安全隐患。除此之外,离型剂的使用也为下游客户增加了不少成本。

技术实现思路

[0004]基于
技术介绍
存在的技术问题,本专利技术提出了一种无需外部离型剂的消光转移膜及其制备方法。
[0005]本专利技术提出的一种消光转移膜,依次由上表层,芯层和下表层构成;
[0006]所述上表层为消光层,包括下述质量份的原料:聚丙烯49

51份、高密度聚乙烯40

60份、聚乙烯马来酸酐共聚物1
r/>3份、氟硅烷改性无机消光粉10

15份、聚四氟乙烯微粉1

3份、抗氧剂0.1

1份、抗静电剂1

5份、爽滑剂0.2

0.5份;
[0007]所述下表层包括下述质量份的原料:聚丙烯48

65份,二氧化硅1

3份;
[0008]所述芯层的原料为聚丙烯。
[0009]优选地,所述聚丙烯为二元或三元聚丙烯共聚物,其在230℃、2.16kg压力下的熔融指数为3

3.5g/10min。
[0010]优选地,所述高密度聚乙烯的密度为0.92

0.961g/cm3,在230℃、2.16kg压力下的熔融指数为0.05

0.2g/10min。
[0011]优选地,所述氟硅烷改性无机消光粉是以氟硅烷对粒径为3

8μm的二氧化硅微粉进行表面接枝改性得到。
[0012]优选地,所述二氧化硅微粉与氟硅烷的质量比为1:(0.05

0.15);优选地,所述氟硅烷为三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷或其组合。
[0013]优选地,所述氟硅烷改性无机消光粉的制备方法为:先将所述二氧化硅微粉加入无水乙醇、氨水和水的混合溶液中分散均匀,然后加入氟硅烷,在60

80℃下搅拌反应1

2h,然后过滤、干燥,即得;优选地,所述二氧化硅微粉与混合溶液的比例为(5

10)g:100mL,所
述混合溶液由无水乙醇、氨水和水按体积比为100:(3

10):(1

2)混合得到。
[0014]优选地,所述爽滑剂为乙撑双硬脂酰胺,抗氧剂为抗氧剂1010、抗氧剂168或其组合。
[0015]一种所述的消光转移膜的制备方法,包括下述步骤:
[0016]S1、将芯层的原料加入主挤出机中,在248

252℃下熔融,得到芯层熔体,将上表层的原料加入一台辅挤出机中,在245

250℃下熔融,得到上表层熔体,将下表层的原料加入另一台辅挤出机中,在233

237℃下熔融,得到下表层熔体,将上表层熔体、芯层熔体和下表层熔体通过温度为235

238℃的模头共挤出复合,形成铸片;
[0017]S2、将所述铸片依次经过冷却、加热、纵向拉伸、横向拉伸、收卷、时效处理以及分切,得到消光转移膜。
[0018]优选地,所述纵向拉伸包括:预热、拉伸、定型,其中预热温度为120

140℃,拉伸温度为112

130℃,拉伸倍率为4.7

5.0倍,定型温度为127

140℃。
[0019]优选地,所述横向拉伸包括:预热、拉伸、定型、冷却,其中预热温度为169

173℃,拉伸温度为150

160℃,拉伸倍率为8.5

9.5倍,定型温度为166

167℃,冷却温度为室温。
[0020]优选地,所述铸片的厚度为1

2mm。
[0021]本专利技术的有益效果如下:
[0022]1.本专利技术制备的消光转移膜能将图案完整地转印到底革上,具有优良的消光效果以及韧性强、不开裂、转移后不影响皮革表面的纹路的特点,并能为底革提供转移膜涂层的质感,提高产品档次,广泛应用在鞋材、箱包、服装革等上。
[0023]2.本专利技术制备的消光转移膜在消光层使用的消光料中采用氟硅烷改性无机消光粉、聚四氟乙烯微粉,提高消光层的防粘连性能,聚乙烯马来酸酐共聚物可以提高氟硅烷改性无机消光粉和聚四氟乙烯微粉与聚乙烯基材的相容性,使制成的消光转移膜在机械性能、消光性能保持良好的前提下,易剥离无残留,无需使用外部离型剂,不仅能减少对环境的污染,降低生产时的安全隐患,而且节约成本。
具体实施方式
[0024]下面,通过具体实施例对本专利技术的技术方案进行详细说明。
[0025]下述实施例中,聚乙烯马来酸酐共聚物的型号为华美
[0026]实施例1
[0027]一种消光转移膜,依次由上表层,芯层和下表层构成;
[0028]上表层为消光层,包括下述质量份的原料:聚丙烯50份、高密度聚乙烯55份、聚乙烯马来酸酐共聚物2份、氟硅烷改性无机消光粉12份、聚四氟乙烯微粉2份、抗氧剂0.5份、抗静电剂EINAR 201 3份、乙撑双硬脂酰胺0.4份,其中抗氧剂由抗氧剂1010、抗氧剂168按质量比为1:2组成。
[0029]下表层包括下述质量份的原料:聚丙烯50份,二氧化硅2份。
[0030]芯层的原料为聚丙烯。
[0031]其中,聚丙烯为二元或三元聚丙烯共聚物,其在230℃、2.16kg压力下的熔融指数(GB3682标准)为3.15g/10min;高密度聚乙烯的密度(GB/T 1033标准)为0.92

0.961g/cm3,在230℃、2.16kg压力下的熔融指数(GB3682标准)为0.05g/10min。
[0032]其中,氟硅烷改性无机消光粉的制备方法为:先将二氧化硅微粉加入本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种消光转移膜,其特征在于,依次由上表层,芯层和下表层构成;所述上表层为消光层,包括下述质量份的原料:聚丙烯49

51份、高密度聚乙烯40

60份、聚乙烯马来酸酐共聚物1

3份、氟硅烷改性无机消光粉10

15份、聚四氟乙烯微粉1

3份、抗氧剂0.1

1份、抗静电剂1

5份、爽滑剂0.2

0.5份;所述下表层包括下述质量份的原料:聚丙烯48

65份,二氧化硅1

3份;所述芯层的原料为聚丙烯。2.根据权利要求1所述的消光转移膜,其特征在于,所述聚丙烯为二元或三元聚丙烯共聚物,其在230℃、2.16kg压力下的熔融指数为3

3.5g/10min。3.根据权利要求1所述的消光转移膜,其特征在于,所述高密度聚乙烯的密度为0.92

0.961g/cm3,在230℃、2.16kg压力下的熔融指数为0.05

0.2g/10min。4.根据权利要求1所述的消光转移膜,其特征在于,所述氟硅烷改性无机消光粉是以氟硅烷对粒径为3

8μm的二氧化硅微粉进行表面接枝改性得到。5.根据权利要求4所述的消光转移膜,其特征在于,所述二氧化硅微粉与氟硅烷的质量比为1:(0.05

0.15);优选地,所述氟硅烷为三氟丙基三甲氧基硅烷、三氟丙基三乙氧基硅烷或其组合。6.根据权利要求4或5所述的消光转移膜,其特征在于,所述氟硅烷改性无机消光粉的制备方法为:先将所述二氧化硅微粉加入无水乙醇、氨水和水的混合溶液中分散均匀,然后加入氟硅烷,在60

80℃下搅拌反应1

...

【专利技术属性】
技术研发人员:王兆中刘成才
申请(专利权)人:安徽金田高新材料股份有限公司
类型:发明
国别省市:

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