本发明专利技术公开了机械手清洗装置、清洗方法及半导体设备，其中清洗装置包括壳体，壳体的腔体自上而下设置有采集区、检测区和清洁区，壳体上设置有分别与采集区、检测区和清洁区连通的开口。采集区设置有采集装置，采集装置用于采集机械手的形状轮廓。检测区设置有扫描装置，扫描装置用于扫描机械手的表面，并对机械手的表面清洁度进行判断；清洁区设置有清洁装置，清洁装置用于对机械手的表面进行清洁，清洁装置包括矩阵分布的多个清洁头，每个清洁头可单独启闭。能进行机械手的自动清洗，清洗效率高。率高。率高。
【技术实现步骤摘要】
机械手清洗装置、清洗方法及半导体设备
[0001]本专利技术涉及晶圆加工设备
，尤其涉及机械手清洗装置、清洗方法及半导体设备。
技术介绍
[0002]在半导体的前道加工工艺中，均需要半导体设备前端模块EFEM(Equiment Front End Module)将晶圆在不同的工艺腔间进行运输。半导体设备前端模块EFEM通过机械手在晶舟和晶圆传递盒之间传送晶圆，传递准确且速率快。在此过程中，机械手有可能受到污染，晶圆背面薄膜和机械手臂接触洒落颗粒，影响晶圆的加工品质，所以经常需要对机械手进行清洗。
[0003]目前的机械手清洗通常采取1、停机并拆卸清洗的方式进行清洗，而机械手再次安装后，还需要再次进行机械手的调平，大大降低了生产效率；2、液体喷淋、擦拭的方式进行清洗，采用流体喷淋，兼擦拭的方式进行清洗，针对污点严重之处清洗效果不佳，导致晶圆被污染，降低了成品良率。
技术实现思路
[0004]为克服上述缺点，本专利技术的目的在于提供一种机械手清洗装置，能进行机械手的自动清洗，清洗效率高。
[0005]为了达到以上目的，本专利技术采用的技术方案是：一种机械手清洗装置，其包括壳体，所述壳体的腔体自上而下设置有采集区、检测区和清洁区，所述壳体上设置有分别与采集区、检测区和清洁区连通的开口；所述采集区设置有采集装置，所述采集装置用于采集机械手的形状轮廓；所述检测区设置有扫描装置，所述扫描装置用于扫描机械手的表面，并对所述机械手的表面清洁度进行判断；所述清洁区设置有清洁装置，所述清洁装置用于对机械手的表面进行清洁，所述清洁装置包括矩阵分布的多个清洁头，每个所述清洁头可单独启闭。
[0006]清洁装置进行机械手的自动清洗，由于清洁头单独启闭，且可根据采集装置才几点机械手的形状轮廓进行定向清洗，避免多余流体喷出，污染机械手。还可对清洗后的机械手进行清洁度判断，针对特定脏污，实现特定区域的重点清洗。
[0007]进一步来说，所述清洁头包括抽吸管，所述抽吸管内固定有与其同轴设置的喷液管，所述喷液管内设置有上下导通的第一通道，所述喷液管的外壁和抽吸管的内壁之间限定形成第二通道。第一通道和第二通道的双通道结构，在进行喷射流体的同时回收清洗流体，有效清洗牢固脏物，不留痕迹，提高清洁效率。
[0008]进一步来说，所述喷液管的上端为圆柱结构，下端为收口结构，所述收口结构的截面由上至下呈逐渐收拢状态。收口结构可实现流体速度的增加，采用爆破式清洗的方式，瞬间将粘附于机械手的污染物冲洗掉,实现流体微爆破式清洗。
[0009]进一步来说，所述抽吸管的上端为圆柱结构，下端处呈上细下粗的喇叭结构，面积
大。可保证第一通道喷洒的流体全部回收。
[0010]进一步来说，多个所述清洁头均设置在一个平板状安装板上，所述平板状安装板能在清洁区的水平面内，沿相互垂直的第一方向和第二方向进行往复移动。由于相邻的清洁头之间存在间距，当对机械手进行清洗时，会产生清洁盲区，因此，在两个垂直的方向上对平板状安装板进行短距离的移动，可以覆盖清洁盲区，以提高机械手的清洁度。
[0011]进一步来说，所述清洁头倾斜喷射到机械手上，所述清洁头的喷射线与水平线的夹角为5
‑
10度。斜向喷射流体，增加喷射力度，实现更有效的清洗。
[0012]进一步来说，所述清洁头转动连接在平板状安装板上，进行一定角度的斜向喷淋清洗，实现清洁头喷射线的倾斜。
[0013]进一步来说，所述清洁头固定在平板状安装板，所述平板状安装板上设置有一斜面，所述清洁头固定在斜面上。
[0014]进一步来说，所述壳体的侧板上设置有供平板状安装板移动的支撑框架，所述支撑框架包括第一导向框和第二导向框，所述第一导向框固定在侧板上，所述第二导向框能沿第一导向框在第一方向滑动，所述平板状安装板能沿第二导向框在第二方向滑动。支撑框架对平板状安装板一方面起到支撑作用，另一方面对平板装安装板的移动提供导向。
[0015]进一步来说，所述采集装置包括固定在采集区的工业摄像机，所述工业摄像机始终位于进入采集区的机械手的上方，所述工业摄像机至少设置有一个。
[0016]进一步来说，所述扫描机构包括激光发射器和散射光接收器，所述激光发射器用于向机械手表面发射激光，所述散射光接收器用于收集激光发射器发射的激光在机械手表面上散射后的光信号。
[0017]进一步来说，所述壳体的侧板上设置有隔板，所述扫描装置通过十字滑台与隔板连接，所述十字滑台固定在隔板下端面，并能驱动所述扫描装置在水平面内沿十字移动。扫描装置在移动过程中，覆盖整个机械手，完成对整个机械手的扫描。
[0018]进一步来说，还包括抽风板，所述抽风板设置在清洁区的底部并始终位于所述机械手下方，所述抽风板内形成抽风腔，所述抽风板的顶端阵列分布有若干与抽风腔导通的抽风口，所述抽风腔连通有位于壳体外部的抽风机。当机械手清洁完成后，启动抽风机，腔体内的空气自上而下从抽风口进入抽风腔内，再排出壳体，完成对壳体的清洁。避免机械手在清洗过程中，留下污染物，对腔体，尤其清洁腔内造成污染，影响后续机械手的清洗。
[0019]本专利技术还公开机械手清洗方法，包括如下步骤，图形轮廓采集，通过采集装置采集机械手的形状轮廓，并记录形状轮廓；初步清洗，通过清洁装置对机械手的表面进行清洁，其中清洁装置根据形状轮廓开启对应的清洁头；清洗检测，通过扫描装置对清洗后的机械手进行扫描，判断机械手的表面是否存在污染区并对污染区进行记录；深度清洗，当步骤三中存在污染区时，清洁装置再根据污染区开启对应的清洁头进行污染区清洁；重复清洗检测
‑
深度清洗直至扫描装置判断没有污染区存在。
[0020]清洁装置进行机械手的自动清洗，且可根据采集装置才几点机械手的形状轮廓进行定向清洗，避免多余流体喷出，污染机械手。还可对清洗后的机械手进行清洁度判断，针对特定脏污，实现特定区域的重点清洗。
[0021]进一步来说，在所述初步清洗和深度清洗过程中，所述清洁头可以同时在水平面内同步进行两个垂直方向的往复移动。由于相邻的清洁头之间存在间距，当对机械手进行
清洗时，会产生清洁盲区，因此，在两个垂直的方向上对平板状安装板进行短距离的移动，可以覆盖清洁盲区，以提高机械手的清洁度。
[0022]进一步来说，所述清洁头能在对机械手表面进行流体喷射，同时可以抽吸喷洒到机械手表面后的流体。在进行喷射流体的同时回收清洗流体，有效清洗牢固赃物，不留痕迹，提高清洁效率。
[0023]本专利技术还公开半导体设备，包括上述的机械手清洗装置，所述机械手清洗装置设置在晶圆传输装置的侧面。在不拆卸机械手的情况下，利用搬运晶圆的间隙，执行机械手的清洗。
附图说明
[0024]图1为本专利技术实施例一的立体结构示意图；
[0025]图2为本专利技术实施例一的剖视图；
[0026]图3为图1中A处放大图；
[0027]图4为本专利技术实施例一中清洗头的侧视图；
[0028]图本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种机械手清洗装置，其特征在于：包括壳体，所述壳体的腔体自上而下设置有采集区、检测区和清洁区，所述壳体上设置有分别与采集区、检测区和清洁区连通的开口；所述采集区设置有采集装置，所述采集装置用于采集机械手的形状轮廓；所述检测区设置有扫描装置，所述扫描装置用于扫描机械手的表面，并对所述机械手的表面清洁度进行判断；所述清洁区设置有清洁装置，所述清洁装置用于对机械手的表面进行清洁，所述清洁装置包括矩阵分布的多个清洁头，每个所述清洁头可单独启闭。2.根据权利要求1所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述清洁头包括抽吸管，所述抽吸管内固定有与其同轴设置的喷液管，所述喷液管内设置有上下导通的第一通道，所述喷液管的外壁和抽吸管的内壁之间限定形成第二通道。3.根据权利要求2所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述喷液管的上端为圆柱结构，下端为收口结构，所述收口结构的截面由上至下呈逐渐收拢状态。4.根据权利要求2所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述抽吸管的上端为圆柱结构，下端处呈上细下粗的喇叭结构。5.根据权利要求1所述的机械手清洗装置，其特征在于：多个所述清洁头均设置在一个平板状安装板上，所述平板状安装板能在清洁区的水平面内，沿相互垂直的第一方向和第二方向进行往复移动。6.根据权利要求5所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述清洁头倾斜喷射到机械手上，所述清洁头的喷射线与水平线的夹角为5
‑
10度。7.根据权利要求6所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述清洁头转动连接在平板状安装板上。8.根据权利要求6所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述清洁头固定在平板状安装板，所述平板状安装板上设置有一斜面，所述清洁头固定在斜面上。9.根据权利要求5所述的机械手清洗装置，其特征在于：所述壳体的侧板上设置有供平板状安装板移动的支撑框架，所述支撑框架包括第一导向框和第二导向框，所述第一导向框固定在壳体的侧板上，所述第二导向框能沿第一导向框在第一方向滑动，所述平板状安装板能沿第二导向框在第二方向滑动。1...
【专利技术属性】
技术研发人员：叶莹，高慧霞，鲍伟成，王旭晨，祝佳辉，
申请(专利权)人：上海果纳半导体技术有限公司，
类型：发明
国别省市：
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