一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法技术

本发明专利技术涉及光学成像领域，具体是一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法，步骤如下：制作三种数字掩模版；在衬底上旋涂一层负性光刻胶，用一号掩模版进行第一次无掩模曝光，曝光显影得到初步的结构；在第一层光刻胶上旋涂第二层光刻胶，基于二号掩模版进行第二次曝光显影；在第二层光刻胶上选图第三层光刻胶，基于三号掩模版进行第三次曝光显影，得到具有三种不同厚度的多层微柱结构；对多层微柱结构进行热回流工艺处理，封装热回流后的球面微透镜得到多焦点微透镜阵列结构；本发明专利技术具有工艺操作简单、成本低等优点，能够满足大景深要求。能够满足大景深要求。能够满足大景深要求。

【技术实现步骤摘要】
一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法


[0001]本专利技术涉及光学成像领域，具体是一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法。

技术介绍

[0002]微透镜阵列是一种多功能的微光学元件，可以对入射光进行扩散、光束整形、光线均分、光学聚焦等调制，进而实现大视角、低像差、小畸变、高时间分辨率和无限景深等，微透镜阵列被广泛应用于光信息处理、光传感、光计算、光通信和高灵敏度成像等领域。
[0003]目前制作微透镜阵列的主要方法有微滴喷射法、灰度光刻、热压印法及光刻胶热回流技术等。
[0004]其中微滴喷射法虽然有较高的工作效率，但由于成型透镜阵列的位置精度是靠工作台的移动来保证的，故很难保证成型透镜阵列中透镜分布的一致性；对于灰度光刻法，虽然不存在对准误差等问题，但是该方法在曲面灰阶掩模版设计时复杂，制作成本较高；热压印法操作起来简单，但是对于微透镜阵列特征的调整可控性不是很好。目前应用较广的光刻胶热回流技术是微透镜阵列晶圆级微细加工的关键方法，操作简单、成本低，该技术受限于光刻胶与基底间的接触角，只能制作球状微透镜，很难制作出非球面微本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法，其特征在于：该方法包括以下步骤：步骤一：制作三种数字掩模版，一号掩模版为三个全开图案，二号掩模版为两个打开图案和一个关闭图案，三号掩模版为一个打开图案和两个关闭图案，将三种掩模版信息输入到DMD中；步骤二：将4英寸高硼硅玻璃作为衬底，清洗并干燥衬底，并涂上附着力促进剂，在衬底上旋涂第一层光刻胶后使用一号掩模版对光刻胶进行曝光烘烤，显影得到第一层微柱结构；步骤三：在第一层光刻胶上旋涂第二层光刻胶，将二号掩模版与第一次曝光得到的微柱精准对齐，经紫外线充分曝光并显影后，二号掩模版关闭图案部分第二层光刻胶将溶解，掩模版打开图案部分光刻胶固化形成第二层微柱结构；步骤四：在第二层光刻胶上旋涂第三层光刻胶，将三号掩模版与前两次曝光得到的微柱精准对齐，曝光显影后得到具有三种不同厚度的多层微柱结构；步骤五：对多层微柱结构进行倒置热回流工艺处理，得到一组球面微透镜；步骤六：对多组球面微透镜封装形成多焦点微透镜阵列。2.根据权利要求1所述的一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法，其特征在于：所述光刻胶为DNR L
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4615负性光刻胶。3.根据权利要求2所述的一种柔性制作多焦点微透镜阵列结构的方法，其特征在于：所述步骤二的衬底还可为二氧化硅玻璃。4....

【专利技术属性】
技术研发人员：黄胜洲，谢芳琳，孙家乐，蒋铖玮，王雷，李懿，武晨旭，
申请(专利权)人：安徽工程大学，
类型：发明
国别省市：