一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化方法及其应用技术

本发明专利技术公开了一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化方法及其应用，属于光电器件制备技术领域，通过在具有保护层的条件下利用激光在荧光薄膜上实现图案化烧蚀；将荧光材料旋涂在玻璃衬底上，制备均匀的荧光材料薄膜，并贴附一层透明保护层，然后在飞秒激光的作用下，最终在衬底上图案化烧蚀去除，留下图案化的荧光薄膜；其原理为当飞秒激光聚焦在玻璃和荧光薄膜界面时，并且激光能量达到荧光薄膜的烧蚀阈值时，荧光薄膜就可以被烧蚀去除；而在烧蚀去除过程中，粒子以及烧蚀碎屑的飞溅会影响材料表面的光滑度以及烧蚀效率，通过利用透明保护层贴附在荧光薄膜上，使得在烧蚀过程中图案化薄膜不受到碎屑的影响，从而实现高质量荧光薄膜的图案化制备。的图案化制备。的图案化制备。

【技术实现步骤摘要】
一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化方法及其应用


[0001]本专利技术属于光电器件制备
，具体涉及利用飞秒激光在保护层的作用下将荧光材料薄膜烧蚀制备成任意图案，从而为制备基于图案化的荧光材料的光电器件提供一种新的策略。

技术介绍

[0002]随着钙钛矿以及量子点等荧光材料的迅速发展，钙钛矿以及量子点等荧光材料在显示、激光、防伪和信息存储等领域有着很重要的应用。这也是由于钙钛矿以及量子点具有可调节的发射波长、优异的色纯度、高光致发光量子产率和简单的溶液加工性等优点。然而目前对于钙钛矿以及量子点等荧光材料的高分辨率、灵活的以及均匀的图案化仍然是一个挑战，主要是钙钛矿材料以及量子点本身不稳定性的限制以及缺乏简单高效的加工手段。
[0003]目前，光刻的方法是将荧光材料与光刻胶混在一起，掩膜曝光后再通过显影对光刻胶进行去除，最终得到图案化的荧光薄膜，但是在显影的过程中一般会对荧光薄膜的化学性能产生影响，并且光刻胶的使用也会影响基于荧光材料的电致发光器件的性能。
[0004]喷墨打印的方法就是通过将荧光材料油墨经喷嘴喷到衬底上，最终实本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化的方法，其特征在于，具体步骤如下：(1)、荧光薄膜的制备；具体步骤为：首先，将干净的玻璃衬底使用去离子水和无水乙醇交替用棉球擦拭六次，在封闭空间内自然阴干；然后取微量0.01
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0.2mL荧光材料溶液旋涂在玻璃衬底上，在热台上退火制备荧光薄膜；(2)保护层的贴附；具体步骤为：将旋涂好的荧光薄膜倒置贴附在透明保护层上，形成透明保护层/荧光薄膜/玻璃衬底的三层结构；(3)、激光图案化烧蚀；具体步骤为：利用电脑程序控制激光聚焦在玻璃衬底的荧光薄膜上，调节激光功率、扫描速度以及重频实现烧蚀去除图案化；最后，在衬底上可得到编程可控的高精度的均匀的图案化的荧光薄膜。2.如权利要求1所述的一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化的方法，其特征在于，步骤(1)的玻璃衬底尺寸为50*25*0.2毫米；所用棉球为医用脱脂棉球；所述荧光材料为CsPbBr3钙钛矿前驱体溶液、(PEA)2PbI4前驱体溶液或CdZnSe/CdZnS/ZnS量子点溶液；所述旋涂转速为1000
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3000转/s，旋涂时间30s。3.如权利要求1所述的一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化的方法，其特征在于，所述CdZnSe/CdZnS/ZnS量子点包括红光、绿光或蓝光CdZnSe/CdZnS/ZnS量子点。4.如权利要求1所述的一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化的方法，其特征在于，步骤(2)中所述的透明保护层为玻璃片、PET透明薄膜或光刻胶。5.如权利要求1所述的一种基于激光烧蚀的荧光薄膜图案化的方法，...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘岳峰，梁书语，夏虹，
申请(专利权)人：吉林大学，
类型：发明
国别省市：