用于硅片的抛光装置制造方法及图纸

技术编号:34465661 阅读:18 留言:0更新日期:2022-08-10 08:38
本实用新型专利技术公开了一种用于硅片的抛光装置,包括:机台;施蜡模块和抛光盘,通过施蜡模块将蜡滴落在抛光盘的表面,使得抛光盘的表面形成蜡层,蜡层被划分成多个检测区域;多个图像采集模块,多个图像采集模块一一对应地采集多个检测区域的表面图像信息;图像分析模块,多个图像采集模块与图像分析模块之间电连接以将采集的多个检测区域的表面图像信息传输至图像分析模块,图像分析模块将多个检测区域的表面图像信息进行综合分析处理,若蜡层的多个检测区域的平整度均达标,将硅片贴附于蜡层进行抛光。根据本实用新型专利技术的用于硅片的抛光装置,适用于尺寸较大的蜡层的平整度检测,有利于提高硅片抛光的良品率。于提高硅片抛光的良品率。于提高硅片抛光的良品率。

【技术实现步骤摘要】
用于硅片的抛光装置


[0001]本技术涉及抛光装置领域,尤其是涉及一种用于硅片的抛光装置。

技术介绍

[0002]一般地,在施蜡的过程中,仅靠人工目视检查蜡层的表面形貌,然而人工检测结果不可靠,且易漏检,降低产品良率。相关技术中的用于硅片的抛光装置,虽然提出了采用图像采集模块来检测蜡层,但是难以检测尺寸较大的蜡层,依然存在可靠性差,易漏检的技术问题,因此如何提高对尺寸较大的蜡层的检测精度是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此,本技术在于提出一种用于硅片的抛光装置,适用于尺寸较大的蜡层的平整度检测,检测精度高,有利于提高硅片抛光的良品率。
[0004]根据本技术实施例的用于硅片的抛光装置,包括:机台;施蜡模块和抛光盘,所述施蜡模块和所述抛光盘均设置在所述机台上,通过所述施蜡模块将蜡滴落在抛光盘的表面,使得所述抛光盘的表面形成蜡层,所述蜡层被划分成多个检测区域;多个图像采集模块,多个所述图像采集模块在所述蜡层的周向上间隔开排布,多个所述图像采集模块一一对应地采集多个所述检测区域的表面图像信息;图像分析模块,多个所述图像采集模块与所述图像分析模块之间电连接以将采集的多个所述检测区域的表面图像信息传输至所述图像分析模块,所述图像分析模块将多个所述检测区域的表面图像信息进行综合分析处理,并判断所述蜡层表面的平整度是否达标,若所述蜡层的多个所述检测区域的平整度均达标,将硅片贴附于所述蜡层进行抛光。
[0005]根据本技术实施例的用于硅片的抛光装置,通过使得多个图像采集模块一一对应地采集多个检测区域的表面图像信息,有利于减少每个图像采集模块的视场角,保证每个图像采集模块的分辨率,适用于尺寸较大的蜡层的平整度检测,检测精度高,有利于提高硅片抛光的良品率。
[0006]在本技术的一些实施例中,所述蜡层具有两个检测区域,所述图像采集模块为两个,两个所述图像采集模块与两个所述检测区域一一对应设置。
[0007]在本技术的一些实施例中,每个所述图像采集模块包括:安装盒,所述安装盒包括盒体和开关门,所述盒体的一端具有敞开口,所述开关门可活动地设在所述盒体的敞开处以打开或关闭所述敞开口;相机,所述相机设在所述盒体内,所述相机与所述图像分析模块电连接,将接收到的光信号转换为电信号,并传输给所述图像分析模块。
[0008]在本技术的一些实施例中,所述开关门与所述盒体可转动地相连。
[0009]在本技术的一些实施例中,所述盒体设有枢转孔,所述开关门设有适于与所述枢转孔转动配合的枢转轴。
[0010]在本技术的一些实施例中,每个所述图像采集模块还包括:驱动电机,所述驱动电机包括电机主体和电机轴,所述电机主体与所述盒体相连且位于所述盒体外,所述电机轴与所述枢转轴相连以带动所述开关门转动。
[0011]在本技术的一些实施例中,每个所述图像采集模块还包括:光源,所述光源设置在所述盒体内,在所述开关门打开所述敞开口时,光源发出的光线适于向所述蜡层的表面入射。
[0012]在本技术的一些实施例中,所述图像分析模块包括:图像接收单元,所述图像接收单元用于接收来自多个所述图像采集模块的图像信息;图像处理单元,所述图像处理单元用于处理多个所述检测区域的图像信息;分析判定单元,所述分析判定单元用于将处理后的多个所述检测区域的图像信息与设定的阈值对比判定。
[0013]在本技术的一些实施例中,所述抛光装置还包括:去蜡装置,所述去蜡装置设于所述机台上,并与所述图像分析模块电连接,所述去蜡装置用于将所述蜡层从所述抛光盘的表面清除,当所述图像分析模块判断多个所述检测区域中的任一个的表面的平整度不达标时,启动所述去蜡装置,将所述蜡层从所述抛光盘的表面清除。
[0014]在本技术的一些实施例中,所述抛光装置还包括:防护罩,所述防护罩罩设于所述机台,所述防护罩与所述机台之间限定出工作空间,所述施蜡模块、所述抛光盘、所述图像采集模块、所述图像分析模块和所述去蜡装置均位于所述工作空间内。
[0015]本技术的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出,部分将从下面的描述中变得明显,或通过本技术的实践了解到。
附图说明
[0016]图1是根据本技术一些实施例的用于硅片的抛光装置的示意图,其中,防护罩被移除;
[0017]图2是根据本技术一些实施例的图像采集模块和图像分析模块的工作原理图;
[0018]图3是根据本技术一些实施例的图像采集模块的结构示意图;
[0019]图4是根据本技术一些实施例的防护罩的结构示意图;
[0020]图5是根据本技术一些实施例的用于硅片的抛光装置的工作示意图。
[0021]附图标记:
[0022]抛光装置100;
[0023]机台10;
[0024]施蜡模块20;
[0025]抛光盘30;蜡层301;检测区域302;
[0026]图像采集模块40;
[0027]安装盒41;盒体411;开关门412;枢转轴4121;敞开口413;
[0028]相机42;光源43;驱动电机44;调节杆45;
[0029]图像分析模块50;
[0030]去蜡装置60;
[0031]防护罩70。
具体实施方式
[0032]下面详细描述本技术的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,旨在用于解释本技术,而不能理解为对本技术的限制。
[0033]下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本技术的不同结构。为了简化本技术的公开,下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然,它们仅仅为示例,并且目的不在于限制本技术。此外,本技术可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的,其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外,本技术提供了的各种特定的工艺和材料的例子,但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用于性和/或其他材料的使用。
[0034]下面参考图1

图5描述根据本技术实施例的用于硅片的抛光装置100。
[0035]参照图1所示,根据本技术实施例的用于硅片的抛光装置100,可以包括:机台10、施蜡模块20、抛光盘30、多个图像采集模块40和图像分析模块50。
[0036]参照图1所示,施蜡模块20和抛光盘30均设置在机台10上,通过施蜡模块20将蜡滴落在抛光盘30的表面,使得抛光盘30的表面形成蜡层301,具体地,在施蜡过程中,施蜡模块20将蜡滴落在抛光盘30的表面,同时机台10内的驱动模块驱动抛光盘30旋转,使得抛光盘30的表面形成蜡层301。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于硅片的抛光装置,其特征在于,包括:机台;施蜡模块和抛光盘,所述施蜡模块和所述抛光盘均设置在所述机台上,通过所述施蜡模块将蜡滴落在抛光盘的表面,使得所述抛光盘的表面形成蜡层,所述蜡层被划分成多个检测区域;多个图像采集模块,多个所述图像采集模块在所述蜡层的周向上间隔开排布,多个所述图像采集模块一一对应地采集多个所述检测区域的表面图像信息;图像分析模块,多个所述图像采集模块与所述图像分析模块之间电连接以将采集的多个所述检测区域的表面图像信息传输至所述图像分析模块,所述图像分析模块将多个所述检测区域的表面图像信息进行综合分析处理,并判断所述蜡层表面的平整度是否达标,若所述蜡层的多个所述检测区域的平整度均达标,将硅片贴附于所述蜡层进行抛光。2.根据权利要求1所述的用于硅片的抛光装置,其特征在于,所述蜡层具有两个检测区域,所述图像采集模块为两个,两个所述图像采集模块与两个所述检测区域一一对应设置。3.根据权利要求1所述的用于硅片的抛光装置,其特征在于,每个所述图像采集模块包括:安装盒,所述安装盒包括盒体和开关门,所述盒体的一端具有敞开口,所述开关门可活动地设在所述盒体的敞开处以打开或关闭所述敞开口;相机,所述相机设在所述盒体内,所述相机与所述图像分析模块电连接,将接收到的光信号转换为电信号,并传输给所述图像分析模块。4.根据权利要求3所述的用于硅片的抛光装置,其特征在于,所述开关门与所述盒体可转动地相连。5.根据权利要求4所述的用于硅片的抛光装置,其特征在于,所述盒体设有枢转孔,所述开关门设有适于与所述枢转孔转动配合的枢转轴。6.根据...

【专利技术属性】
技术研发人员:吴亚娟燕靖佘辉
申请(专利权)人:徐州美芯半导体材料科技有限公司
类型:新型
国别省市:

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