一种双面抛光机抛光膜平面度检测方法技术

本发明专利技术关于一种双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其通过由两块千分表和硬质垫片组成的工装对抛光膜平面度进行测量，且在测量时使两块千分表表头的连线与抛光膜内孔相切，从而根据两块千分表的读数确定抛光膜内圈、外圈以及抛光膜中间位置的高度关系，并根据测量结果对抛光盘进行针对性的修复，使得抛光膜表面各处的平面度一致，保证抛光片的加工精度。保证抛光片的加工精度。保证抛光片的加工精度。

【技术实现步骤摘要】
一种双面抛光机抛光膜平面度检测方法


[0001]本专利技术属于平面双面抛光领域，涉及平面双面抛光机抛光膜平面度检测方法。

技术介绍

[0002]四动作双面抛光机如9B大量应用与双面抛光领域。在双面抛光机的上下盘粘贴聚氨酯或阻尼布抛光膜。在上下膜之间放置抛光片的载体游星轮，游星轮内设置有放置抛光片的孔，将待抛光的片子放入孔内。启动设备进行上下面抛光。抛光片对面形有很高的要求。影响抛光片面形主要的因素之一是抛光膜的平面度。由于抛光膜是软性材质，长期以来无法对抛光膜的平面度进行检测，按照习惯使用修正轮反转的方式修盘。由于修盘没有依据，造成各个抛光机抛出的产品面形差异非常大，不得已需要很多机器进行搭配，将面形不好的抛光片半成品再转到状态好的抛光机上进行面形修复。为了使抛光膜平面度一致，必须对抛光膜平面度进行检测。

技术实现思路

[0003]本专利技术的目的是解决利用传统平面测试方法无法对抛光膜打表测平面度的问题，本专利技术克服抛光膜软的特点，利用垫片做支撑，使用两块千分表衡量抛光膜的平面度。
[0004]本专利技术的目的及解决其技术问题是采用以下技术方案来实现的。依据本专利技术提出的一种双面抛光机抛光膜平面度检测方法，包括以下步骤：1)组装检测工装，该工装包括长度为Lmm的支撑架和固定在该支撑架上的第一千分表和第二千分表，其中第一千分表固定在支撑架中间位置，第二千分表固定在第一千分表一侧Nmm处，上述支撑架通过两端的支脚进行支撑；
[0005]2)工装零位校正：在0级大理石平台上放置4个由硬质材料制成的垫片，然后将组装后的检测工装放置在该0级大理石平台上，且该工装支撑架两端的支脚以及两个千分表表头分别位于相应的垫片上，然后校正第一千分表1和第二千分表2到0位；3)将上述垫片放置在抛光盘表面的抛光膜上，且与第一千分表表头对应的抛光膜紧贴抛光膜内孔放置；然后将校正后的工装放置在抛光膜上，使工装的支脚和千分表表头均放置相应的垫片上，且使两个千分表表头的连线与抛光膜内孔相离；4)读取第一千分表和第二千分表的数值，并转动抛光盘均匀测量抛光模至少四个不同位置的数值，并取上述测量结果的平均值；5)根据测量结果进行修盘。
[0006]本专利技术的目的及解决其技术问题还可采用以下技术措施进一步实现。
[0007]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其中所述的支撑架包括横杆和固定在该横杆两端的支脚，该横杆其中一端固定有一个支脚，另一端固定有两个支脚，且各个支脚距其所在端横杆端部的距离一致。
[0008]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其中所述的支脚为千分表表头，且上述支脚围成等腰三角形。
[0009]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，上述垫片均为圆形垫片，且与第一千
分表表头对应的垫片外周面与抛光膜内孔相切。
[0010]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，所述支撑架上还固定有与第二千分表等重的配重块，该配重块与第二千分表对称分布在第一千分表两侧。
[0011]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，步骤3)中各个垫片的放置顺序与步骤2)中的一致。
[0012]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，支撑架长度L与两个千分表之间的距离N之间满足以下关系：L＝SQRT((D/2)2‑
((d/2)2‑
a))；N＝SQRT(((D/2
‑
r/2)/2)2‑
(d/2+a)2)；其中D为抛光盘外径；d为抛光盘内孔直径；a为第一千分表距抛光盘内孔边沿的距离。
[0013]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，所述垫片直径为28
‑
32mm，厚度为2.5
‑
3mm。
[0014]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，步骤5)中测量值与修盘方式之间的对应关系为：当第一千分表的平均测量值c为正时，抛光膜内高外低，修正轮自转方向与下抛光盘自转方向一致，即正转修盘；当第一千分表的平均测量值c为负时，抛光膜内低外高，修正轮自转方向与下抛光盘自转方向相反，即修正轮反转修盘。
[0015]前述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，当步骤4)中第二千分表的平均测量值b等于c/2时，说明抛光膜的高度由内到外均匀变化；当b大于c/2时，说明抛光膜在中间凸起；当b小于c/2时，说明抛光膜中间凹陷。
[0016]本专利技术与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。借由上述技术方案，本专利技术可达到相当的技术进步性及实用性，并具有产业上的广泛利用价值，其至少具有下列优点：
[0017]本专利技术通过千分表和垫片的配合实现对抛光膜表面平面度的检测，并根据检测结果判断抛光膜表面各处的高低，从而能够根据抛光膜表面不同位置的高度对抛光膜进行有针对性得修正，从而使得抛光膜各处的平面度一致，保证抛光片的加工精度。
附图说明
[0018]图1为本专利技术实施例1双面抛光机抛光膜平面度检测工装使用示意图；
[0019]图2为本专利技术实施例1双面抛光机抛光膜平面度检测工装结构示意图；
[0020]图3为本专利技术实施例2双面抛光机抛光膜平面度检测工装使用示意图；
[0021]图4为本专利技术实施例2双面抛光机抛光膜平面度检测工装结构示意图；
[0022]图5为本专利技术实施例2双面抛光机抛光膜平面度检测工装主视图；
[0023]图6为内高外低的抛光盘示意图；
[0024]图7为内低外高的抛光盘示意图；
[0025]图8为内高外低且规则过渡的抛光盘示意图；
[0026]图9为内低外高且规则过渡的抛光盘示意图；
[0027]图10内外圈中间凹陷的抛光盘示意图；
[0028]图11为内外圈中间鼓起的抛光盘示意图。
[0029]【主要元件符号说明】
[0030]1：第一千分表
[0031]2：第二千分表
[0032]3：横杆
[0033]4：支脚
[0034]5：垫片
[0035]6：配重块
[0036]7：抛光盘
[0037]8：抛光膜
[0038]9：抛光膜内孔
具体实施方式
[0039]为更进一步阐述本专利技术为达成预定专利技术目的所采取的技术手段及功效，以下结合附图及较佳实施例，对依据本专利技术提出的双面抛光机抛光膜平面度检测方法其具体实施方式、结构、特征及其功效，详细说明如后。
[0040]请参阅图1
‑
2，其为本专利技术实施例1双面抛光机抛光膜平面度检测工装的各部分示意图，该检测工装包括支撑架以及固定在支撑架上的第一千分表1和第二千分表2。所述第一千分表1固定在支撑架中间的位置，第二千分表2位于第一千分表1的一侧。
[0041]其中所述的支撑架包括横杆3和固定在横杆3两端底部的支脚4，上述第一千分表和第二千分表均固定在横杆3上。较佳的，所述支脚4共有3个，横杆3的一端固定有一个支脚4，另一端固定有两个支脚4，且上述3个支脚4不在同一直线上。
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其特征在于，包括以下步骤：1)组装检测工装，该工装包括长度为Lmm的支撑架和固定在该支撑架上的第一千分表和第二千分表，其中第一千分表固定在支撑架中间位置，第二千分表固定在第一千分表一侧Nmm处，上述支撑架通过两端的支脚进行支撑；2)工装零位校正：在0级大理石平台上放置4个由硬质材料制成的垫片，然后将组装后的检测工装放置在该0级大理石平台上，且该工装支撑架两端的支脚以及两个千分表表头分别位于相应的垫片上，然后校正第一千分表1和第二千分表2到0位；3)将上述垫片放置在抛光盘表面的抛光膜上，且与第一千分表表头对应的抛光膜紧贴抛光膜内孔放置；然后将校正后的工装放置在抛光膜上，使工装的支脚和千分表表头均放置相应的垫片上，且使两个千分表表头的连线与抛光膜内孔相离；4)读取第一千分表和第二千分表的数值，并转动抛光盘均匀测量抛光模至少四个不同位置的数值，并取上述测量结果的平均值；5)根据测量结果进行修盘。2.根据权利要求1所述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其特征在于：其中所述的支撑架包括横杆和固定在该横杆两端的支脚，该横杆其中一端固定有一个支脚，另一端固定有两个支脚，且各个支脚距其所在端横杆端部的距离一致。3.根据权利要求2所述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其特征在于：其中所述的支脚为千分表表头，且上述支脚围成等腰三角形。4.根据权利要求3所述的双面抛光机抛光膜平面度检测方法，其特征在于：上述垫片均为圆形垫片，且使第一千分表表头对应的垫片外周面与抛光膜内孔相切。5.根据权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：于钦涛，
申请(专利权)人：北京石晶光电科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：