阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本申请实施例提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，所述阵列基板包括依次层叠设置的衬底基板、第一缓冲层、第一滤光层、第二缓冲层、有源层、栅极绝缘层、栅极、层间绝缘层、第二滤光层、源/漏电极以及平坦层。通过将所述第一滤光层与所述第二滤光层集成至所述阵列基板，外界的光能够射入所述阵列基板，首先通过所述第一滤光层将光反射至所述第二滤光层，然后通过所述第二滤光层将光反射至所述有源层，所述有源层能够充当感光单元，以满足对外界光中紫外线强度进行检测的需求。通过直接将紫外检测结构制备在阵列基板上，解决了目前紫外光探测需要附带滤光片才能使用的问题，制备工艺上更为简单，节约了生产成本。节约了生产成本。节约了生产成本。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示面板


[0001]本申请涉及显示
，具体涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

技术介绍

[0002]随着显示技术的发展，液晶显示器(LCD)和有机发光二极管(OLED)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点，被广泛应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品，成为显示装置中的主流。人们除了对显示器高分辨、宽视角、低功耗等提出要求外，也对显示面板提出了其它要求。丰富面板功能，增加人机互动，提高显示面板的竞争力，是目前显示面板的主要发展方向之一。
[0003]光学指纹、环境光传感器、紫外光传感器等光探测器是目前发展比较火热的方向。目前应用在光探测器中较为普遍的半导体材料有非晶硅、微晶硅、多晶硅等，但这些材料的禁带宽度较窄，光探测选择性差，因此这些材料在实际应用中具有一定的局限性。目前，多晶硅常用来做紫外光探测器，但其对可见光和紫外光均有响应，因此对紫外光探测的选择性差，需要附带滤光片才能使用，但通常用的滤光片成本高，而且对紫外光/可见光的选择比也本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板，其特征在于，包括：衬底基板；第一缓冲层，设置于所述衬底基板的一侧，具有一凹槽；第一滤光层，设置于所述第一缓冲层远离所述衬底基板的一侧，且覆盖所述凹槽；有源层，设置于所述第一滤光层的远离所述第一缓冲层的一侧，且对应所述第一滤光层设置；以及第二滤光层，设置在所述有缘层的远离所述第一滤光层的一侧，且对应所述有源层设置；其中所述有源层在所述衬底基板上的正投影位于所述第一滤光层在所述衬底基板上的正投影内。2.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述凹槽的截面呈倒梯形，所述凹槽的侧壁与所述衬底基板之间的夹角范围在0
°
至60
°
之间。3.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第一滤光层包括至少一第一金属层与至少一第一金属氧化层，所述第一金属层靠近所述第一缓冲层设置；所述第二滤光层包括至少一第二金属层与至少一第二金属氧化层，所述第二金属氧化层靠近所述有源层设置。4.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层与所述第二金属层的材料包括钛；所述第一金属氧化层与所述第二金属氧化层的材料包括氧化钛。5.如权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述第一金属层与所述第二金属层的厚度范围在40nm至300nm之间；所述第一金属氧化层与所述第二金属氧化层的厚度范围在10nm至500nm之间。6.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述第二滤光层在所述衬底基板上的正投影位于所述第一滤光层在所述衬底基板上的正投影内；所述第二滤光层在所述有源层上的正投影覆盖至少部分所述有缘层。7.如权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括：第二缓冲层，设置于所述第一滤光层远离所述第一缓冲层...

【专利技术属性】
技术研发人员：罗成志，
申请(专利权)人：武汉华星光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：