阵列基板及其制备方法、显示面板技术

本申请提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板。阵列基板的制备方法包括，在基板上形成间隔设置的栅极和信号走线。在基板上形成栅极绝缘层。在栅极绝缘层上形成待处理有源层。在待处理有源层上形成第一光阻层。刻蚀待处理有源层，形成有源层，第一光阻层位于有源层远离栅极绝缘层的一侧。在栅极绝缘层上形成第二光阻层。刻蚀栅极绝缘层，在栅极绝缘层形成通孔，通孔正对信号走线。去除第一光阻层和第二光阻层。在栅极绝缘层上形成源极和漏极，源极和漏极中的一者经通孔连接信号走线。在制备过程中，保留有源层上的第一光阻层，可以后续的制程中，保护有源层，避免有源层氧化或者损坏。保障阵列基板的电学性能，显示面板的显示性能良好。良好。良好。

【技术实现步骤摘要】
阵列基板及其制备方法、显示面板


[0001]本申请涉及显示设备
，尤其涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

技术介绍

[0002]随着有源显示面板驱动形式越来越多元化，在图案化有源层之后，还需要再次图案化栅极绝缘层。然而，由于额外多了一道栅极绝缘层的图案化制程，有源层的表面会经历两次黄光、剥离等制程，使得有源层表面氧化程度加重或者损坏，影响薄膜晶体管的电学性能，从而影响阵列基板的性能，降低显示面板的显示性能。

技术实现思路

[0003]本申请实施例提供一种有源层不易氧化的阵列基板的制备方法。
[0004]第一方面，本申请提供一种阵列基板的制备方法。阵列基板的制备方法包括：
[0005]在基板上形成间隔设置的栅极和信号走线。
[0006]在基板上形成栅极绝缘层，栅极绝缘层覆盖栅极和信号走线。
[0007]在栅极绝缘层上形成待处理有源层。
[0008]在待处理有源层上形成待处理第一光阻层，并经过曝光和显影形成第一光阻层。
[0009]刻蚀待处理有源层，形成有源层，第一光阻层位本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种阵列基板的制备方法，其特征在于，所述方法包括：在基板上形成间隔设置的栅极和信号走线；在基板上形成栅极绝缘层，所述栅极绝缘层覆盖所述栅极和所述信号走线；在所述栅极绝缘层上形成待处理有源层；在所述待处理有源层上形成待处理第一光阻层，并经过曝光和显影形成第一光阻层；刻蚀所述待处理有源层，形成有源层，所述第一光阻层位于所述有源层远离所述栅极绝缘层的一侧；在所述栅极绝缘层上形成待处理第二光阻层，且所述待处理第二光阻层连接所述第一光阻层；曝光和显影所述待处理第二光阻层，形成第二光阻层；刻蚀所述栅极绝缘层，在所述栅极绝缘层形成通孔，所述通孔正对所述信号走线；去除所述第一光阻层和所述第二光阻层；在所述栅极绝缘层上形成源极和漏极，所述源极和所述漏极中的一者经所述通孔连接所述信号走线。2.根据权利要求1所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，在所述栅极绝缘层上通过涂布工艺形成所述待处理第二光阻层，其中，涂布所述待处理第二光阻层的速度小于等于180毫米每秒。3.根据权利要求1或2所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述“在基板上形成间隔设置的栅极和信号走线”的步骤包括：在基板上形成待处理第一金属层；在所述待处理第一金属层上形成待处理光阻层，并经过曝光和显影形成光阻层；刻蚀所述待处理第一金属层，形成第一金属层，部分所述第一金属层作为薄膜晶体管的栅极，部分所述第一金属层作为信号走线；去除所述光阻层。4.根据权利要求1或2所述的阵列基板的制备方法，其特征在于，所述“在所述栅极绝缘层和所述有源层上形成源极和漏极”的步骤包括：于所述栅极绝缘层上，形成待处理第二金属层，所述待处理第二金属层覆盖所述有源层；在所述待处理第二金属层上形成待处理光阻层，并经过曝光和显影形成光阻层；刻蚀所述待处理第二金属层，形成第二金属层，部分所述第二金属层作为源极，部分所述第二金属层作为漏极...

【专利技术属性】
技术研发人员：张合静，刘振，张捷，许哲豪，郑浩旋，
申请(专利权)人：惠科股份有限公司，
类型：发明
国别省市：