一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置制造方法及图纸

技术编号:34458514 阅读:29 留言:0更新日期:2022-08-06 17:11
本发明专利技术公开一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置,包括本体,本体安装于进气道内部,本体包括发生器,发生器设有三角形斜坡,三角形斜坡上设有射流孔,发生器内设有射流激励器,射流激励器与射流孔连通,射流激励器内安装有电源机构。本发明专利技术综合了等离子体合成射流激励器与涡流发生器的优点,进一步提高了主动流动控制效果,解决了进气道内部旋流畸变控制难度大的问题,显著提高进气道出口流场品质,同时能够适应不同工况,控制效果好,能够产生进气道出口截面最大的总压恢复,具有良好的工程应用前景。良好的工程应用前景。良好的工程应用前景。

【技术实现步骤摘要】
一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置


[0001]本专利技术涉及进气道性能提高
,特别是涉及一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置。

技术介绍

[0002]现代高性能军用战斗机特别强调高隐身性,但目前先进战斗机的涡轮发动机有极大的雷达反射面积,极易被对方侦查设施捕捉到,所以具备高隐身性能的战斗机的进气道通常是一个S弯弯管,以遮挡发动机,来降低压气机叶片对雷达波的反射。S弯进气道流场中存在着复杂的流动问题,在其弯曲段由于曲率过大和流向扩张产生的强逆压梯度会导致流动分离,流动分离会导致进气道出口截面总压恢复系数降低,进而减小了发动机的推力,严重时会造成发动机喘振熄火。
[0003]针对该问题,目前对于进气道的流动控制主要分为主动的有源控制和被动的无源控制两种,被动控制方案不需要提供额外的动力装置,结构简单,容易实现,目前最成功的是涡流发生器,尺寸大的涡流发生器可以最有效的减小总压畸变,但却无法产生最大的总压恢复,一旦设计好便无法改变,不能根据工况的变化而进行自主调节,不易满足宽包线工作要求,甚至在某些非设计工况下会使本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置,其特征在于:包括本体,所述本体安装于进气道内部,所述本体包括发生器,所述发生器设有三角形斜坡,所述三角形斜坡上设有射流孔(1),所述发生器内设有射流激励器,所述射流激励器与所述射流孔(1)连通,所述射流激励器内安装有电源机构。2.根据权利要求1所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置,其特征在于:所述发生器为涡流发生器(2)。3.根据权利要求2所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置,其特征在于:所述射流激励器为等离子体合成射流激励器(3),所述等离子体合成射流激励器(3)内中空且安装有所述电源机构。4.根据权利要求3所述的用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置,其特征在于:所述涡流发生器(2)内固接有台型底座(4),所述等离子体合成射流激励器(3)固接在所述台型底座(4)上,所述电源机构包括分别固接在所述台型底座(4)顶面的高压电极(5)和低压电极(6),所述高压电极(5)和低压电极(6)的顶部位于所述等离子体合成射流激励...

【专利技术属性】
技术研发人员:刘永葆贾宇豪蒙泽威贺星陈阳
申请(专利权)人:中国人民解放军海军工程大学
类型:发明
国别省市:

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