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本发明公开一种用于流动控制的等离子体合成射流涡流发生装置，包括本体，本体安装于进气道内部，本体包括发生器，发生器设有三角形斜坡，三角形斜坡上设有射流孔，发生器内设有射流激励器，射流激励器与射流孔连通，射流激励器内安装有电源机构。本发明综合了...
该专利属于中国人民解放军海军工程大学所有，仅供学习研究参考，未经过中国人民解放军海军工程大学授权不得商用。

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