弹坑检测方法技术

技术编号:34436608 阅读:123 留言:0更新日期:2022-08-06 16:20
本申请提供一种弹坑检测方法,所述弹坑检测方法包括:制备饱和碱溶液,将完成键合后的芯片浸泡在饱和碱溶液中预设时间,取出浸泡在所述饱和碱溶液中的芯片,对芯片进行清洗,并在显微镜下进行观察;观察清洗后的芯片,并确认清洗后的芯片是否存在弹坑。采用本申请的实施例,可以检测芯片键合中的弹坑,检测步骤简单,检测效果好。检测效果好。检测效果好。

【技术实现步骤摘要】
弹坑检测方法


[0001]本申请涉及集成电路制造领域,尤其涉及一种弹坑检测方法。

技术介绍

[0002]半导体封装领域在不断寻求良好的工艺性能,以低廉的金属取代金丝,降低包装成本,提高可靠性。例如,铜线具有良好的电气和机械性能,因此受到大多数制造商的青睐,并开始大量生产铜线和镀钯铜线。
[0003]与金丝键合技术相比,纯铜球的硬度可以是金球的两倍,而镀钯铜丝的硬度则更高,可以降低铜球的键合特性。为了克服铜线硬度和屈服强度高的问题,在键合过程中需要非常大的超声功率和键合压力,然而这样会容易损坏硅片,形成凹坑,进而严重影响产品质量和可靠性。因此,弹坑的检测至关重要,成为了集成电路封装键合过程中关键的质量控制点。

技术实现思路

[0004]有鉴于此,本申请提供一种弹坑检测方法,能够检测芯片键合中的弹坑,检测步骤简单,检测效果好。
[0005]本申请的实施例提供一种弹坑检测方法,所述弹坑检测方法包括:制备饱和碱溶液;将完成键合后的芯片浸泡在所述饱和碱溶液中预设时间;取出浸泡在所述饱和碱溶液中的所述芯片,对所述芯片进行清洗本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种弹坑检测方法,其特征在于,所述弹坑检测方法包括:制备饱和碱溶液;将完成键合后的芯片浸泡在所述饱和碱溶液中预设时间;取出浸泡在所述饱和碱溶液中的所述芯片,对所述芯片进行清洗,并在显微镜下进行观察;观察清洗后的所述芯片,并确认清洗后的所述芯片是否存在弹坑。2.根据权利要求1所述的弹坑检测方法,其特征在于,所述弹坑检测方法还包括:使用探针或者小刀具轻刮所述芯片表面;若所述芯片表面有刮痕,所述芯片的铝层没有被完全去除,将所述芯片重新浸泡在所述饱和碱溶液,直到所述铝层被完全去除。3.根据权利要求2所述的弹坑检测方法,其特征在于,所述弹坑检测方法还包括:当所述铝层被完全去除后,使用探针或者小刀具轻划所述芯片的硅层;若所述硅层上有弹坑,则确认所述芯片的键合工艺不合格,调整所述芯片的键合工艺参数。4.根据权利要求3所述的弹坑检测方法,其特征在于,若所述硅层的表面光滑且无坑印,则确认所述芯片的键合工艺合格。5.根据权利要求4所述的弹...

【专利技术属性】
技术研发人员:唐宏浩郑泽东陈霏周福鸣和巍巍汪之涵
申请(专利权)人:深圳基本半导体有限公司
类型:发明
国别省市:

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