金属掩膜的制造方法技术

本发明专利技术提供一种金属掩膜的制造方法，该方法包括：对具备金属部件(150)、配置于金属部件(150)上的感光层(120)及配置于感光层(120)上的阻挡层(110)的层叠体(1A)的感光层(120)，经由阻挡层(10)照射活性光线(1L)，由此在感光层(120)上形成图案状的光固化部(120a)的工序；通过去除感光层(120)中除了光固化部(120a)以外的部分，在金属部件(150)上形成露出部的工序；及去除金属部件(150)的露出部的工序。及去除金属部件(150)的露出部的工序。及去除金属部件(150)的露出部的工序。

【技术实现步骤摘要】
金属掩膜的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种金属掩膜的制造方法等。

技术介绍

[0002]在有机EL(电致发光)显示器等各种器件中，使有机材料升华、蒸发等，从而在基材上蒸镀有机材料，由此形成有机层。在这种情况下，为了在基材的所期望的位置形成有机层，经由具有开口的金属掩膜在基材上蒸镀有机材料。关于这种金属掩膜的制造方法，正在研究各种技术(例如，参考日本特开2015
‑
021179号公报)。

技术实现思路

[0003]在有机EL显示器等各种器件中，随着近年来解析度的提高，要求高精细的有机层。另一方面，在用于获得有机层的金属掩膜中，若开口的形状、开口直径等不均匀，则有可能无法均匀地形成有机层。因此，为了获得高精细的有机层，对金属掩膜的开口也要求高精细化，因此在制造金属掩膜时，金属掩膜的成品率可能会降低。因此，要求一种用于获得具有高精细的开口的金属掩膜的新的金属掩膜的制造方法。
[0004]本专利技术的一侧面的目的在于提供一种新的金属掩膜的制造方法。
[0005]本专利技术人构思将使用具有感光性的感光层获得的光固化部作为抗蚀剂图案形成于金属部件上，并将该抗蚀剂图案用作掩膜来去除金属部件的规定的部位，由此形成开口。并且，本专利技术人构思为了获得具有高精细的开口的金属掩膜，应抑制在光固化部中发生缺陷，而发现了一种抑制光固化部中缺陷的发生的技术。
[0006]本专利技术的一方面涉及一种金属掩膜的制造方法，该方法包括：对具备金属部件、配置于该金属部件上的感光层及配置于该感光层上的阻挡层的层叠体的所述感光层，经由所述阻挡层照射活性光线，由此在所述感光层上形成图案状的光固化部的工序；通过去除所述感光层中除了所述光固化部以外的部分，在所述金属部件上形成露出部的工序；及去除所述露出部的工序。
[0007]根据本专利技术的一方面，能够提供一种金属掩膜的制造方法，该方法能够抑制光固化部中的缺陷的发生，且作为新的金属掩膜的制造方法，能够获得具有高精细的开口的金属掩膜。
附图说明
[0008]图1是表示感光性元件的一例的示意剖视图。
[0009]图2是用于说明金属掩膜的制造方法的一例的示意剖视图。
[0010]图3是用于说明金属掩膜的制造方法的一例的示意剖视图。
[0011]图4是用于说明金属掩膜的制造方法的一例的示意剖视图。
具体实施方式
[0012]以下，根据需要，一边参考图面，一边对本专利技术的实施方式进行详细说明。在以下的实施方式中，关于其构成要件，除了特别明示的情况、在原理上明显认为是必不可少的情况之外，并非是必须的。这在数值及范围中也是一样的，应解释为不会不当地限制本专利技术。
[0013]数值范围的“A以上”是指A及超过A的范围。数值范围的“A以下”是指A及小于A的范围。在本说明书中阶级性地记载的数值范围中，某阶级的数值范围的上限值或下限值能够与其他阶级的数值范围的上限值或下限值任意地组合。在本说明书中记载的数值范围中，其数值范围的上限值或下限值也可以替换为实施例中所示的值。只要无特别说明，本说明书中示例的材料能够单独使用1种或者组合使用2种以上。组合物中存在多种相当于各成分的物质的情况下，只要无特别说明，则组合物中的各成分的含量是指组合物中存在的该多种物质的合计量。关于“层”一词，作为平面图进行观察时，除了在整个表面上形成的形状的结构以外，还包括在一部分上形成的形状的结构。“工序”一词不仅是指独立的工序，即便在无法与其他工序明确区分的情况下，只要可达成该工序的预期作用则包含于本用语中。“(甲基)丙烯酸酯”是指，丙烯酸酯及与其相对应的甲基丙烯酸酯中的至少一者。在“(甲基)丙烯酸”等其他类似的表现中也是一样的。“EO”表示环氧乙烷，“EO改性”的化合物是指具有环氧乙烯基的化合物。“PO”表示环氧乙烷，“PO改性”的化合物是指具有氧化丙烯基的化合物。组合“聚氧乙烯”及“环氧乙烯基”，标记为“(聚)环氧乙烯基”。关于包含“(聚)”的其他表现也是一样的。本说明书中的重均分子量是通过凝胶渗透层析法(GPC)测定，并通过使用标准聚苯乙烯制作的校准曲线换算得出的值，能够采用实施例中的黏合剂聚合物的重均分子量的测定步骤。
[0014]本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法包括：曝光工序，对具备金属部件、配置在该金属部件上的感光层及配置在该感光层上的阻挡层的层叠体(以下，根据情况称为“层叠体A”)的感光层，经由阻挡层照射活性光线，由此在感光层上形成图案状的光固化部；显影工序，通过去除感光层中的除了光固化部以外的部分，在金属部件上形成露出部；及去除工序，去除金属部件的露出部。通过本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法获得的金属掩膜能够不特别限制于使用金属掩膜的用途中而进行使用，也能够用于获得有机EL显示器等各种器件。
[0015]根据本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法，在曝光工序中，经由阻挡层对活性光线照射感光层，由此能够抑制感光层中的氧抑制等曝光障碍(例如，能够抑制抗蚀剂图案形状的恶化)。并且，当在感光层上配置聚合物膜的状态下，经由该聚合物膜对活性光线照射感光层的情况下，有可能发生由聚合物膜所含的粒子引起的曝光障碍，相对于此，根据本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法，在进行曝光时，不需要将这种聚合物膜配置在感光层上，因此能够抑制曝光障碍。如此，通过能够抑制曝光障碍，能够抑制光固化部中的缺陷的发生，能够获得具有高精细的开口的金属掩膜。根据本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法，例如，能够获得具有所期望的形状、尺寸等的金属掩膜，能够获得圆形、多角形等所期望的形状作为开口的形状，能够获得30μm以下，25μm、20μm以下，15μm、10μm以下等直径作为开口的直径(例如最大直径)。
[0016]关于本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法，在曝光工序之前，不具备获得层叠体A的层叠体制作工序。在层叠体制作工序中，可以通过在金属部件上配置感光性元件的
阻挡层及感光层来获得层叠体A，也可通过在金属部件上依次形成感光层及阻挡层来获得层叠体A。层叠体A为金属掩膜制造用的层叠体。根据本实施方式，作为金属掩膜制造用的层叠体的制造方法能够进行层叠体制作工序。在本实施方式所涉及的金属掩膜的制造方法中，能够利用Roll to Roll(卷对卷)工艺进行选择由层叠体制作工序、曝光工序、显影工序及去除工序组成的组中的至少一种工序。
[0017]作为金属部件的构成材料，能够使用公知的材料作为金属掩膜的构成材料。作为金属部件的金属(金属材料)，可以举出铁、镍、铜、锌、铝、铬等。作为金属部件的构成材料，可以使用黄铜(黄铜)、不锈钢、铁
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镍合金等。从加工性或成分优异的观点而言，金属部件能够含有铁
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镍合金。金属部件为金属板、金属箔等。
[0018]从蚀刻时容易获得所期望的开口形状的观点而言，金属部件的厚度可以为下述的范围。金属部件的厚度可以为100μm以下，80μm以下,50μm以下，40μm以下，30μm以下或20μm以下。金属部件的厚度本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种金属掩膜的制造方法，该方法包括：对具备金属部件、配置于该金属部件上的感光层及配置于该感光层上的阻挡层的层叠体的所述感光层，经由所述阻挡层照射活性光线，由此在所述感光层上形成图案状的光固化部的工序；通过去除所述感光层中除了所述光固化部以外的部分，在所述金属部件上形成露出部的工序；及去除所述露出部的工序。2.根据权利要求1所述的金属掩膜的制造方法，其中，在去除所述感光层中除了所述光固化部以外的部分之前，通过使水与所述阻挡层接触来去除所述阻挡层。3.根据权利要求1或2所述的金属掩膜的制造方法，其中，所述金属部件含有铁
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镍合金。4.根据权利要求1至3中任一项所述的金属掩膜的制造方法，其中，所述感光层中的相对于波长365nm的光的吸光度为0.05以下。5.根据权利要求1至4中任一项所述的金属掩膜的制造方法，其中，所述感光层含有黏合剂聚合物，所述黏合剂聚合物具有(甲基)丙烯酸及(甲基)丙烯酸烷基作为单体单元。6.根据权利要求1至5中任...

【专利技术属性】
技术研发人员：贺口阳介，粂壮和，武田明子，高野真次，
申请(专利权)人：昭和电工材料株式会社，
类型：发明
国别省市：