本申请公开了一种环境光遮蔽处理方法、装置及设备，涉及游戏光影处理技术领域，可解决目前在进行环境光遮蔽处理时，导致服务器的计算压力加大，容易影响用户游戏体验的技术问题。包括：获取目标虚拟对象的目标模型单元，目标模型单元为待进行环境光遮蔽处理的模型单元，目标模型单元设置有最小包围盒；获取目标模型单元对应的目标三维纹理，目标三维纹理为目标模型单元的预烘焙三维纹理，目标三维纹理大小与目标模型单元的最小包围盒大小相关；获取目标模型单元的目标立方体模型，目标立方体模型用于渲染目标三维纹理，目标立方体模型大小与目标三维纹理大小相同；根据目标立方体模型和目标三维纹理，渲染目标模型单元的环境光遮蔽效果。遮蔽效果。遮蔽效果。
【技术实现步骤摘要】
环境光遮蔽处理方法、装置及设备
[0001]本申请涉及游戏光影处理
，尤其涉及到一种环境光遮蔽处理方法、装置及设备。
技术介绍
[0002]环境光遮蔽(Ambient Occlusion，AO)是实现全局光照中部分物体局部光照和阴影真实化的一种技术方式，可以产生重要的视觉明暗效果，通过描绘物体之间由于遮挡而产生的阴影，能够更好地捕捉到场景中的细节，可以解决漏光，阴影漂浮等问题，改善场景中角落、齿轮、裂缝等细小物体阴影不清晰等问题，增强场景的深度和立体感。随着计算机图形技术的发展，玩家对游戏画面图形的逼真度要求越来越高，为提升游戏品质，在将场景做静态光照烘培Ambient Occlusion之外，针对游戏场景中动态虚拟对象，同样需要进行Ambient Occlusion处理。
[0003]目前在进行环境光遮蔽处理时，可以基于屏幕空间后处理方案来实现对动态虚拟对象的Ambient Occlusion处理，然而屏幕空间后处理方案需要多次采样以及实时进行计算，会增大服务器的计算压力，使游戏运行速度变慢，进而影响用户的游戏体验。
技术实现思路
[0004]有鉴于此，本申请公开了一种环境光遮蔽处理方法、装置及设备，可解决目前在进行环境光遮蔽处理时，导致服务器的计算压力加大，使游戏运行速度变慢，容易影响用户游戏体验的技术问题。
[0005]根据本申请的一个方面，提供了一种环境光遮蔽处理方法，该方法包括：
[0006]获取目标虚拟对象的目标模型单元，所述目标模型单元为待进行环境光遮蔽处理的模型单元，所述目标模型单元设置有最小包围盒；
[0007]获取所述目标模型单元对应的目标三维纹理，所述目标三维纹理为所述目标模型单元的预烘焙三维纹理，所述目标三维纹理大小与所述目标模型单元的最小包围盒大小相关；
[0008]获取所述目标模型单元的目标立方体模型，所述目标立方体模型用于渲染所述目标三维纹理，所述目标立方体模型大小与所述目标三维纹理大小相同；
[0009]根据所述目标立方体模型和所述目标三维纹理，渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果。
[0010]优选地，所述在获取所述目标模型单元对应的目标三维纹理之前，还包括：
[0011]将所述目标模型单元设置的所述最小包围盒按照X，Y，Z轴分别向上外拓预设距离，得到目标包围盒；
[0012]根据所述目标包围盒预烘焙生成所述目标模型单元的初始三维纹理；
[0013]对所述初始三维纹理进行卷积模糊处理，产生在所述目标模型单元的外拓区域有模糊外拓效果的目标三维纹理。
[0014]优选地，所述根据所述目标立方体模型和所述目标三维纹理，渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果，包括：
[0015]确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的相交点的世界坐标，其中，所述目标立方体模型与所述目标三维纹理具有坐标对应关系；
[0016]基于所述世界坐标和所述坐标对应关系计算所述相交点的三维纹理采样UV值，根据所述三维纹理采样UV值渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果，其中，所述环境光遮蔽效果与所述目标模型单元的几何形态匹配。
[0017]优选地，所述确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的相交点的世界坐标，包括：
[0018]根据视线方向深度图，确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的至少一个相交点；
[0019]利用屏幕射线差值算法计算所述相交点的世界坐标。
[0020]优选地，所述基于所述世界坐标和所述坐标对应关系计算所述相交点的三维纹理采样UV值，包括：
[0021]利用所述目标立方体模型的模型矩阵将所述世界坐标转换为所述目标立方体模型的本地坐标；
[0022]根据所述坐标对应关系，确定所述本地坐标对应的三维纹理采样UV值。
[0023]优选地，所述根据所述三维纹理采样UV值渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果，包括：
[0024]获取所述目标三维纹理在所述三维纹理采样UV值下的第一像素值，以及所述至少一虚拟对象在所述世界坐标下的第二像素值；
[0025]对所述第一像素值和所述第二像素值进行正片叠底处理，计算所述至少一虚拟对象在所述世界坐标下的像素遮蔽值；
[0026]根据所述像素遮蔽值渲染所述至少一虚拟对象，以在所述至少一虚拟对象上形成所述目标模型单元的环境光遮蔽效果。
[0027]优选地，所述获取所述目标模型单元对应的目标三维纹理，包括：
[0028]确定所述目标模型单元对应骨骼部位的主骨骼位置坐标；
[0029]根据所述主骨骼位置坐标将预烘焙得到的目标三维纹理映射至所述目标模型单元，以使所述目标三维纹理的移动与所述目标模型单元的移动一致。
[0030]根据本申请的另一个方面，提供了一种环境光遮蔽处理装置，该装置包括：
[0031]第一获取模块，用于获取目标虚拟对象的目标模型单元，所述目标模型单元为待进行环境光遮蔽处理的模型单元，所述目标模型单元设置有最小包围盒；
[0032]第二获取模块，用于获取所述目标模型单元对应的目标三维纹理，所述目标三维纹理为所述目标模型单元的预烘焙三维纹理，所述目标三维纹理大小与所述目标模型单元的最小包围盒大小相关；
[0033]第三获取模块，用于获取所述目标模型单元的目标立方体模型，所述目标立方体模型用于渲染所述目标三维纹理，所述目标立方体模型大小与所述目标三维纹理大小相同；
[0034]渲染模块，用于根据所述目标立方体模型和所述目标三维纹理，渲染所述目标模
型单元的环境光遮蔽效果。
[0035]优选地，该装置还包括：预烘焙模块；
[0036]所述预烘焙模块，用于将所述目标模型单元设置的所述最小包围盒按照X，Y，Z轴分别向上外拓预设距离，得到目标包围盒；根据所述目标包围盒预烘焙生成所述目标模型单元的初始三维纹理；对所述初始三维纹理进行卷积模糊处理，产生在所述目标模型单元的外拓区域有模糊外拓效果的目标三维纹理。
[0037]优选地，所述渲染模块，包括：确定单元、渲染单元；
[0038]所述确定单元，用于确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的相交点的世界坐标，其中，所述目标立方体模型与所述目标三维纹理具有坐标对应关系；
[0039]所述渲染单元，用于基于所述世界坐标和所述坐标对应关系计算所述相交点的三维纹理采样UV值，根据所述三维纹理采样UV值渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果，其中，所述环境光遮蔽效果与所述目标模型单元的几何形态匹配。
[0040]优选地，所述确定单元，具体用于：
[0041]根据视线方向深度图，确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的至少一个相交点；
[0042]利用屏幕射线差值算法计算所述相交点的世界坐标。
[0043]优选地，在基于所述世界坐标和所述坐标对应关系计算所述相交点的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种环境光遮蔽处理方法，其特征在于，包括：获取目标虚拟对象的目标模型单元，所述目标模型单元为待进行环境光遮蔽处理的模型单元，所述目标模型单元设置有最小包围盒；获取所述目标模型单元对应的目标三维纹理，所述目标三维纹理为所述目标模型单元的预烘焙三维纹理，所述目标三维纹理大小与所述目标模型单元的最小包围盒大小相关；获取所述目标模型单元的目标立方体模型，所述目标立方体模型用于渲染所述目标三维纹理，所述目标立方体模型大小与所述目标三维纹理大小相同；根据所述目标立方体模型和所述目标三维纹理，渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果。2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在获取所述目标模型单元对应的目标三维纹理之前，还包括：将所述目标模型单元设置的所述最小包围盒按照X，Y，Z轴分别向上外拓预设距离，得到目标包围盒；根据所述目标包围盒预烘焙生成所述目标模型单元的初始三维纹理；对所述初始三维纹理进行卷积模糊处理，产生在所述目标模型单元的外拓区域有模糊外拓效果的目标三维纹理。3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述目标立方体模型和所述目标三维纹理，渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果，包括：确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的相交点的世界坐标，其中，所述目标立方体模型与所述目标三维纹理具有坐标对应关系；基于所述世界坐标和所述坐标对应关系计算所述相交点的三维纹理采样UV值，根据所述三维纹理采样UV值渲染所述目标模型单元的环境光遮蔽效果，其中，所述环境光遮蔽效果与所述目标模型单元的几何形态匹配。4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的相交点的世界坐标，包括：根据视线方向深度图，确定所述目标立方体模型与虚拟三维场景中至少一虚拟对象的至少一个相交点；利用屏幕射线差值算法计算所述相交点的世界坐标。5.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述基于所述世界坐标和所述坐标对应关系计算所述相交点的三维纹理采样UV值，包括：利用所述目标立方...
【专利技术属性】
技术研发人员：程庆宝，
申请(专利权)人：上海完美时空软件有限公司，
类型：发明
国别省市：
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