一种陶瓷砖上釉前冷却装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及陶瓷砖加工技术领域，具体涉及是一种陶瓷砖上釉前冷却装置包括输送带，输送带上输送有陶瓷砖，其中还包括喷淋机构和干燥机构，喷淋机构和干燥机构均设于输送带上，且能对输送带上的陶瓷砖进行加工，沿输送带输送方向，喷淋机构位于干燥机构前方，通过在输送带上设置喷淋机构和干燥机构，使得在完成一次烧制后，能够基于喷淋机构对输送带上的陶瓷砖进行降温，在完成降温后再通过干燥机构使得陶瓷砖表面残留的水分干燥，便于后续上釉。解决了现有的上釉装置多是将釉料直接平铺在陶瓷砖上，然后进行二次烧制，由于上釉前的工艺为陶瓷砖一次烧制，完成烧制后其表面温度较高，直接进行上釉会出现鼓泡的现象，导致上釉不均匀的问题。釉不均匀的问题。釉不均匀的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种陶瓷砖上釉前冷却装置


[0001]本技术涉及陶瓷砖加工
，具体涉及是一种陶瓷砖上釉前冷却装置。

技术介绍

[0002]陶瓷产品在进行烧制后形成毛胚，表面十分粗糙需要进行上釉处理，在其表面铺设一层釉面，从而表面更加光洁和光滑。
[0003]现有的上釉装置多是将釉料直接平铺在陶瓷砖上，然后进行二次烧制，由于上釉前的工艺为陶瓷砖一次烧制，完成烧制后其表面温度较高，直接进行上釉会出现鼓泡的现象，导致上釉不均匀。

技术实现思路

[0004]本技术针对以上问题，提供一种陶瓷砖上釉前冷却装置。
[0005]采用的技术方案是，一种陶瓷砖上釉前冷却装置包括输送带，输送带上输送有陶瓷砖，其中还包括喷淋机构和干燥机构，喷淋机构和干燥机构均设于输送带上，且能对输送带上的陶瓷砖进行加工，沿输送带输送方向，喷淋机构位于干燥机构前方。
[0006]可选的，喷淋机构包括喷淋箱，喷淋箱顶部插入有喷淋管，且喷淋管能对下方的陶瓷砖进行喷淋降温，喷淋箱底部设置有废液收集箱，废液收集箱的出液口与排液管接通。
[0007]进一步的，喷淋箱顶部对称设置有两安装座，且两安装座间设置有支撑杆，支撑杆与喷淋管连接。
[0008]可选的，排液管位于输送带下方。
[0009]可选的，干燥机构包括干燥箱，干燥箱顶部设置有风机组，干燥箱侧壁上设置有排风口。
[0010]可选的，机组包括并排设置的两台风机，且两台风机沿输送带输送方向前后设置。
[0011]本技术的有益效果至少包括以下之一；r/>[0012]1、通过在输送带上设置喷淋机构和干燥机构，使得在完成一次烧制后，能够基于喷淋机构对输送带上的陶瓷砖进行降温，在完成降温后再通过干燥机构使得陶瓷砖表面残留的水分干燥，便于后续上釉。
[0013]2、解决了现有的上釉装置多是将釉料直接平铺在陶瓷砖上，然后进行二次烧制，由于上釉前的工艺为陶瓷砖一次烧制，完成烧制后其表面温度较高，直接进行上釉会出现鼓泡的现象，导致上釉不均匀的问题。
附图说明
[0014]图1为一种陶瓷砖上釉前冷却装置结构示意图；
[0015]图2为一种陶瓷砖上釉前冷却装置俯视结构示意图；
[0016]图中标记为： 20为喷淋箱、21为干燥箱、22为输送带、23为排液管、24为废液收集箱、25为安装座、26为喷淋管、27为风机组、28为排风口、29为支撑杆、30为风机、16为陶瓷
砖。
具体实施方式
[0017]为了使本技术的目的、技术方案及优点能够更加清晰明白，以下结合附图和实施例对本技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本技术，并不用于限定本技术保护内容。
[0018]在本技术的描述中，需要说明的是，术语
ꢀ“
上”、“下”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本技术和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本技术的限制；术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性，此外，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本技术中的具体含义。
[0019]如图1和图2所示，一种陶瓷砖上釉前冷却装置包括输送带22，输送带22上输送有陶瓷砖16，其中还包括喷淋机构和干燥机构，喷淋机构和干燥机构均设于输送带22上，且能对输送带22上的陶瓷砖16进行加工，沿输送带22输送方向，喷淋机构位于干燥机构前方。
[0020]这样设计的目的在于，通过在输送带上设置喷淋机构和干燥机构，使得在完成一次烧制后，能够基于喷淋机构对输送带上的陶瓷砖进行降温，在完成降温后再通过干燥机构使得陶瓷砖表面残留的水分干燥，便于后续上釉。解决了现有的上釉装置多是将釉料直接平铺在陶瓷砖上，然后进行二次烧制，由于上釉前的工艺为陶瓷砖一次烧制，完成烧制后其表面温度较高，直接进行上釉会出现鼓泡的现象，导致上釉不均匀的问题。
[0021]本实施例中，提供了一种喷淋机构的具体结构，其中喷淋机构包括喷淋箱20，喷淋箱20顶部插入有喷淋管26，且喷淋管26能对下方的陶瓷砖16进行喷淋降温，喷淋箱20底部设置有废液收集箱24，废液收集箱24的出液口与排液管23接通，喷淋箱20顶部对称设置有两个安装座25，且两个安装座25间设置有支撑杆29，支撑杆29与喷淋管26连接，排液管23位于输送带22下方。
[0022]这样设计的目的在于，在使用中，通过从顶部插入喷淋箱内的喷淋管，能够喷出降温液体对烧制后陶瓷砖进行快速降温，通常情况下降温液体为水，多余的液体在废液收集箱进行汇集，然后通过排液管进行排出，避免在干燥箱内聚集，同时由于在进行喷淋时，喷淋管受压强的影响会发生震动，导致喷淋时出现较大的偏差，因此通过设置安装座及支撑杆将喷淋管出液端进行固定，大幅度降低出现晃动的几率。
[0023]本实施例中，还提供了一种干燥机构的具体组成，干燥机构包括干燥箱21，干燥箱21顶部设置有风机组27，干燥箱21侧壁上设置有排风口28，风机组27包括并排设置的两台风机30，且两台风机30沿输送带22输送方向前后设置。
[0024]在使用中，由于喷淋装置在进行喷淋后，残留的液体主要聚集在陶瓷砖的表面，因此在干燥箱内顶部设置风机，将外部气体导入干燥箱内，使得陶瓷砖表面的残留液体快速干燥，同时气体从干燥箱侧壁上的排风口进行排出。
[0025]最后应说明的是：以上仅为本技术的优选实施例而已，并不用于限制本技术，尽管参照前述实施例对本技术进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本技术的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本技术的保护范围之内。
本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种陶瓷砖上釉前冷却装置，包括输送带（22），所述输送带（22）上输送有陶瓷砖（16），其特征在于：还包括喷淋机构和干燥机构，所述喷淋机构和干燥机构均设于输送带（22）上，且能对输送带（22）上的陶瓷砖（16）进行加工，沿输送带（22）输送方向，喷淋机构位于干燥机构前方。2.根据权利要求1所述的一种陶瓷砖上釉前冷却装置，其特征在于：所述喷淋机构包括喷淋箱（20），所述喷淋箱（20）顶部插入有喷淋管（26），且喷淋管（26）能对下方的陶瓷砖（16）进行喷淋降温，喷淋箱（20）底部设置有废液收集箱（24），所述废液收集箱（24）的出液口与排液管（23）接通。3.根据权利要求2所述的一种陶瓷砖上釉前冷却装置...

【专利技术属性】
技术研发人员：廖全伟，刘志兵，周生荣，
申请(专利权)人：眉山市凯丰陶瓷有限公司，
类型：新型
国别省市：