磁控溅射的柱靶铁芯结构制造技术

本实用新型专利技术公开了磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件，还包括冷却介质流动管道、封装组件，所述柱靶铁芯组件和封装组件上设有轴向的通孔，柱靶铁芯组件位于密封在封装组件内，所述冷却介质流动管道穿过柱靶铁芯组件和封装组件上的轴向的通孔。本实用新型专利技术能够避免冷却水对磁铁产生腐蚀。避免冷却水对磁铁产生腐蚀。避免冷却水对磁铁产生腐蚀。

【技术实现步骤摘要】
磁控溅射的柱靶铁芯结构


[0001]本技术涉及玻璃磁控溅射镀膜
，具体涉及用于镀膜的磁控溅射的柱靶铁芯结构。

技术介绍

[0002]当前磁控溅射镀膜应用越来越广泛，在磁控溅射镀膜过程中，约80％左右能量转化为热量，阴极靶材温度会快速升高，如不能及时进行冷却处理，会出现绑定靶材脱落、破损等情况，好多靶材，尤其是一些贵重靶材多数采用铟锡绑定，如ITO阴极靶材采用铟锡绑定在钛背管上，铟锡熔点约为180℃，达到铟锡熔点后，阴极靶材将会脱落。
[0003]现有的柱靶铁芯组件的结构如图1所示，柱靶铁芯组件A呈半圆形，柱靶铁芯组件A包括扼铁1、磁铁2、防水盖板3，扼铁1和防水盖板2均呈半圆形，在扼铁1的周面上设有沿着扼铁轴向延伸的凹槽，磁铁2的一端与凹槽配合，防水盖板3罩住磁铁2，为了冷却柱靶铁芯组件A，还设置有支架4，扼铁1的两端分别与支架4配合，支架4上通过螺钉5固定有安装座6，防水盖板3的两端分别与安装座6焊接固定，支架4的下部设有冷却水槽7，上述结构的柱靶铁芯组件A与支架结合后整体安装在靶管组件(图中未示出)内，使用时，水从冷却水槽7的一端输入，水从冷却水槽7的另一端输出，然后进入到柱靶铁芯组件A与靶管组件之间的空间中，最后从套管的输出口输出。
[0004]对于上述结构，防水盖板3相当于浸泡在水中，由于防水盖板3与安装座6是焊接固定的，两者之间必然存在焊接部位，对于长期浸泡在水中的焊接部位来说，容易受到腐蚀，从而导致水穿过焊接部位进入到防水盖板3内部并作用在磁铁2上。
[0005]由于磁控溅射所用的磁铁3为铁磁材料，长期接触水会产生腐蚀现象，影响磁铁3磁场强度，缩短磁铁3使用寿命，同时固定磁铁3的扼铁1为软铁，长期接触水会产生腐蚀现象，影响使用寿命。早期人们所采用的措施包括在磁铁3外面套一层热缩管，或者在扼铁1表面镀锌等，但对于无孔不入的水来说，均是治标不治本的办法。另外，在焊接过程中，还会因焊接应力引起变形，使柱靶铁芯组件的精度降低，在此情况下，可能会导致靶材管在旋转过程中出现卡死的现象。因此，对于目前的柱靶铁芯组件来说，还有待改进。

技术实现思路

[0006]本技术提供一种磁控溅射的柱靶铁芯结构，本技术能够避免冷却水对磁铁产生腐蚀。
[0007]实现上述目的的技术方案如下：
[0008]磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件，还包括冷却介质流动管道、封装组件，所述柱靶铁芯组件和封装组件上设有轴向的通孔，柱靶铁芯组件位于密封在封装组件内，所述冷却介质流动管道穿过柱靶铁芯组件和封装组件上的轴向的通孔。
[0009]本技术工作时，将冷却介质输入到管道本体内，冷却介质沿着管道本体流动后从第一径向通孔输出到第一空间中，冷却介质沿着第一空间向第二径向通孔流动，最终
从第二径向通孔输出。对于柱靶铁芯组件来说，防水罩和堵头对位于其中的柱靶铁芯组件形成了密封作用，对于柱靶铁芯组件的内部来说，冷却介质流动管道是穿过了柱靶铁芯组件和封装组件的，因此，无论是在柱靶铁芯组件的外部还是内部，冷却介质在流动过程中，冷却介质均无法作用到柱靶铁芯组件上，做到了磁水分离，从而避免了柱靶铁芯组件被腐蚀。
[0010]另外，采用上述的结构后，柱靶铁芯组件无需采用焊接方式固定，避免了柱靶铁芯组件变形，而且从装配的角度看，结构较为简单，可靠性高，易于装配和拆卸。
附图说明
[0011]图1为现有的柱靶铁芯组件的剖面结构图；
[0012]图2为本技术的磁控溅射的柱靶铁芯结构的剖视图；
[0013]图3为柱靶铁芯组件；
[0014]附图中的标记：
[0015]柱靶铁芯组件A，扼铁1，磁铁2，防水盖板3，支架4，螺钉5，安装座6，冷却水槽7，配重块8；
[0016]第一空间B，冷却介质流动管道11，管道本体11a，连接头11b，径向凸起部11c，第一径向通孔12，第二径向通孔13，靶管14，螺母14a，第一接头15，第一密封部件16，第二接头17，轴向延伸部17a，第二密封部件18，防水罩19，堵头20，密封圈21，螺钉22。
具体实施方式
[0017]下面结合说明书附图对本技术做进一步说明。
[0018]如图2和图3所示，本技术的磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件A、封装组件、冷却介质流动管道11，优选地，本技术还包括靶管组件，下面对每部分以及各部分之间的关系进行详细地说明：
[0019]柱靶铁芯组件A位于靶管组件内，本实施例中，柱靶铁芯组件A的截面呈圆型。所述柱靶铁芯组件A和封装组件上设有轴向的通孔。柱靶铁芯组件A包括扼铁1、磁铁2、配重块8，所述轴向的通孔设置在扼铁1上，扼铁1的截面呈圆形，扼铁1的周面上设有装配槽，磁铁2安装在装配槽内，在扼铁1的周面上还固定有配重块8，配重块8与磁铁2的位置相对，配重块8用于平衡磁铁2的重量。
[0020]柱靶铁芯组件A密封在封装组件内，封装组件位于靶管组件内，封装组件与靶管组件之间形成有供冷却介质流动的第一空间B，这样，即使外部有液态或气态的冷却介质，由于封装组件的密封作用，也无法使冷却介质进入到柱靶铁芯组件A内，从而避免柱靶铁芯组件A受到冷却介质的腐蚀。冷却介质优先采用水。
[0021]所述封装组件包括防水罩19、设置在防水罩19两端的堵头20，防水罩19和堵头20的材质优先采用304或316L不锈钢。柱靶铁芯组件A位于防水罩19的内部；堵头20的至少一部分插入到防水罩19内且密封，本实施例中，在堵头的周面上设有环形凹槽，在环形凹槽内安装有密封圈21，防水罩19与堵头20之间通过密封圈密封。柱靶铁芯组件A的两端分别与堵头20配合，在防水罩19的轴向端面上设有凹槽，所述扼铁1的端部与凹槽配合，在防水罩19和扼铁1的周面上均设有径向的安装孔，通过螺钉22与防水罩19和扼铁1上的径向安装孔连
接，使防水罩19和扼铁1固定。
[0022]所述冷却介质流动管道11穿过柱靶铁芯组件A和封装组件上的轴向的通孔后，冷却介质流动管道11的两端分别与靶管组件配合，冷却介质流动管道11一端的周面上设有供冷却介质流动的第一径向通孔12，靶管组件上设有供冷却介质流动的第二径向通孔13。冷却介质流动管道11为不锈钢管，优先采用304或316L不锈钢管，将磁铁2及固定磁铁2的扼铁1与水完全隔离，磁铁2和扼铁1与水不接触就不会产生锈蚀现象，同时还能满足阴极靶材冷却。
[0023]优选地，靶管组件包括靶管14、第一接头15、第二接头17，第一接头15套在靶管14上并与靶管14固定，在靶管14与第一接头15之间设有第一密封部件16，第一接头15内设有台阶孔，冷却介质流动管道11的一端与台阶孔配合；第二径向通孔13设置在第二接头17上，第二接头17套在靶管14上并与靶管14固定，在靶管14与第二接头17之间设有第二密封部件18，第二接头17上设有轴向通孔，所述冷却介质流动管道11的另一端穿过轴向通孔暴露在靶管组件的外部。
[002本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.磁控溅射的柱靶铁芯结构，包括柱靶铁芯组件(A)，其特征在于，还包括冷却介质流动管道(11)、封装组件，所述柱靶铁芯组件(A)和封装组件上设有轴向的通孔，柱靶铁芯组件(A)位于密封在封装组件内，所述冷却介质流动管道(11)穿过柱靶铁芯组件(A)和封装组件上的轴向的通孔。2.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，柱靶铁芯组件(A)的截面呈圆型。3.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，冷却介质流动管道(11)包括：管道本体(11a)；一端具有盲孔的连接头(11b)，管道本体(11a)配合在连接头(11b)的盲孔内，连接头(11b)的周面上设有径向凸起部(11c)，径向凸起部(11c)与封装组件固定。4.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，冷却介质流动管道(11)为不锈钢管。5.根据权利要求1或3或4所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，冷却介质流动管道(11)一端的周面上设有供冷却介质流动的第一径向通孔(12)。6.根据权利要求1所述的磁控溅射的柱靶铁芯结构，其特征在于，所述封装组件包括：防水罩(19)，柱靶铁芯组件(A)位于防水罩(19)内...

【专利技术属性】
技术研发人员：张波，章其初，刘建超，王智健，
申请(专利权)人：江苏长江交通科技有限公司，
类型：新型
国别省市：