一种离子束加工聚合物微球的方法技术

本发明专利技术公开了一种离子束加工聚合物微球的方法，S1、将待加工的聚合物微球依次装入基台的第一凹槽中，放置完成后，各聚合物微球的底面抵接在对应第一凹槽的内壁上，此时聚合物微球上半部外露的球面记为A面；S2、通过离子束依次对各聚合物微球的A面进行加工；S3、待所有聚合物微球的A面加工完成后，将背板盖设在基台上方，直到各聚合物微球的顶面抵接在对应第二凹槽的内壁上；S4、通过翻转机构将整个样品台上下翻转，然后移走基台，此时聚合物微球上半部外露的球面记为B面；S5、通过离子束依次对各聚合物微球的B面进行加工。与现有技术相比，本发明专利技术方法既能实现样品固定又能实现导电功能，且能够实现批量化加工。且能够实现批量化加工。且能够实现批量化加工。

A method of ion beam processing polymer microspheres

【技术实现步骤摘要】
一种离子束加工聚合物微球的方法


[0001]本专利技术涉及离子束加工
，具体指一种离子束加工聚合物微球的方法。

技术介绍

[0002]现代制造技术向着精密化，信息化及小型化一体化的趋势发展，对高精度制造提出了更高的要求，复杂微小构件是装备系统的核心关键构件，复杂微小构件制造构型及精度的实现性即制造能力，直接影响其使用性能，最终影响设备系统的性能，对于装备的升级起到决定性作用。
[0003]微小构件的尺寸在毫米至厘米级，待加工的微结构尺寸为微米至纳米级，制造精度要求亚微米级，表面质量达纳米级，聚焦离子束可实现微纳加工。但聚焦离子束一般应用于材料的透射样品的制备，用于微纳加工的离子束多加工金属构件，金属材料具有导电率较高，便于电子束观察分析。具体可参见专利申请号为CN202121262297.0(公布号为CN214842039U)的中国专利技术专利《一种用于金属表面处理的离子束加工单元》。
[0004]目前对于聚合物材料的聚焦离子束研究较少，一方面，因为聚合物材料本身的特性，在加工过程中由于自身不导电特性，会产生电荷累积，荷电本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种离子束加工聚合物微球的方法，其特征在于：采用样品台对聚合物微球进行定位，该样品台包括有基台(1)以及能拆卸地盖设在基台(1)上方的背板(2)，所述的基台(1)和背板(2)均采用导电材料制成，所述基台(1)的顶部开设有至少两个间隔布置的第一凹槽(11)，所述背板(2)的底部开设有至少两个间隔布置的第二凹槽(21)，在所述背板(2)盖设在所述基台(1)上的状态下，所述的第二凹槽(21)与所述的第一凹槽(11)一一对应，且第二凹槽(21)与对应的第一凹槽(11)组成有用于限位聚合物微球的腔室；所述离子束加工聚合物微球的方法包括有以下步骤：S1、将待加工的聚合物微球依次装入基台(1)的第一凹槽(11)中，放置完成后，各聚合物微球的底面抵接在对应第一凹槽(11)的内壁上，此时聚合物微球上半部外露的球面记为A面；S2、通过离子束依次对各聚合物微球的A面进行加工；S3、待所有聚合物微球的A面加工完成后，将背板(2)盖设在基台(1)上方，直到各聚合物微球的顶面抵接在对应第二凹槽(21)的内壁上；S4、通过翻转机构将整个样品台上下翻转，以使基台(1)朝上、背板(2)朝下；S5、移走基台(1)，此时聚合物微球上半部外露的球面记为B面；S6、通过离子束依次对各聚合物微球的B面进行加工，完成聚合物微球整个球面的加工。2.根据权利要求1所述的离子束加工聚合物...

【专利技术属性】
技术研发人员：李晓静，王大森，赵仕燕，张旭，夏超翔，裴宁，
申请(专利权)人：中国兵器科学研究院宁波分院，
类型：发明
国别省市：