一种显示面板及其制备方法、显示装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。其中，显示面板包括基板；像素层，包括开口区和非开口区，像素层还包括位于开口区和非开口区的第一电极层，第一电极层在非开口区包括第一开孔；掩膜层，包括第二开孔；光学层；其中，掩膜层位于基板和光学层之间，光学层位于掩膜层和第一电极层之间，第二开孔在基板上的正投影位于第一开孔在基板上的正投影内，光学层用于扩散自第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的刻蚀光线对第一电极层刻蚀形成第一开孔。以使第一开孔的开孔面积不小于第二开孔的开孔面积，提高第一电极层的光透过率，从而提高显示面板的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像等功能元件的工作需求。屏下摄像等功能元件的工作需求。屏下摄像等功能元件的工作需求。

【技术实现步骤摘要】
一种显示面板及其制备方法、显示装置


[0001]本专利技术涉及显示
，更具体地说，涉及一种显示面板及其制备方法、显示装置。

技术介绍

[0002]随着生活及显示技术水平的不断提升，用户对于显示屏的屏占比提出了更高的要求，追求全面屏的显示效果成为用户和厂家的共同追求。
[0003]目前的全面屏显示面板中通常需要用到屏下指纹和/或屏下摄像技术，这对于显示面板在上述区域的光学透过率提出了更高的要求。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本专利技术实施例致力于提供一种光学透过率好的显示面板及其制备方法、显示装置，以实现提高光学透过率的目的。
[0005]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板，包括：
[0006]基板；
[0007]像素层，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括第一开孔；
[0008]掩膜层，所述掩膜层包括第二开孔；
[0009]光学层；
[0010]其中，所述掩膜层位于所述基板和所述光学层之间，所述光学层位于所述掩膜层和所述第一电极层之间，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一开孔在所述基板上的正投影内，所述光学层用于扩散自所述第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的所述刻蚀光线对所述第一电极层刻蚀形成所述第一开孔。
[0011]可选地，所述显示面板还包括第一显示区和围绕所述第一显示区的第二显示区；
[0012]所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内。
[0013]可选地，所述第一显示区包括透明显示区和围绕所述透明显示区的过渡区；
[0014]所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内。
[0015]可选地，所述光学层包括多个扩散结构，所述扩散结构对应所述第二开孔，所述显示面板还包括：覆盖所述扩散结构的接触绝缘层；
[0016]所述扩散结构包括扩散表面，所述扩散表面与所述接触绝缘层接触。
[0017]可选地，所述扩散结构的折射率小于所述接触绝缘层的折射率。
[0018]可选地，所述扩散表面包括凸向所述接触绝缘层的弧形表面和/或凸向所述接触绝缘层的折线表面。
[0019]可选地，所述扩散结构包括平凸透镜和/或第一棱镜，所述平凸透镜的弧面为所述
扩散表面，所述第一棱镜包括由第一表面和第二表面形成的凸面，所述凸面为所述扩散表面。
[0020]可选地，所述扩散结构的折射率大于所述接触绝缘层的折射率。
[0021]可选地，所述扩散表面包括凹向所述接触绝缘层的弧形表面和/或凹向所述接触绝缘层的折线表面。
[0022]可选地，所述扩散结构包括平凹透镜和/或第二棱镜，所述平凹透镜的弧面为所述扩散表面，所述第二棱镜包括由第三表面和第四表面形成的凹面，所述凹面为所述扩散表面。
[0023]第二方面，本专利技术实施例还提供了一种显示面板的制备方法，包括：
[0024]提供基板；
[0025]在所述基板的第一表面形成掩膜层、光学层、像素层和第一电极层，所述掩膜层位于所述基板与所述光学层之间，所述像素层位于所述光学层背离所述基板一侧，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括待刻蚀区域，所述掩膜层包括多个与所述待刻蚀区域对应的第二开孔；
[0026]以所述掩膜层为掩膜，自所述第二开孔提供刻蚀光线，所述刻蚀光线经过所述扩散结构的扩散后，照射在所述第一电极层的待刻蚀区域，以去除所述第一电极层待刻蚀区域的部分，形成第一开孔。
[0027]可选地，所述光学层通过有机气相沉积工艺形成。
[0028]第三方面，本专利技术实施例一种显示装置，包括如上述任一项所述的显示面板。
[0029]从上述技术方案可以看出，本专利技术实施例提供了一种显示面板及其制备方法、显示装置。其中，所述显示面板包括基板；像素层，包括开口区和非开口区，像素层还包括位于开口区和非开口区的第一电极层，第一电极层在非开口区包括第一开孔；掩膜层，包括第二开孔；光学层；其中，掩膜层位于基板和光学层之间，光学层位于掩膜层和第一电极层之间，第二开孔在基板上的正投影位于第一开孔在基板上的正投影内，光学层用于扩散自第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的刻蚀光线对第一电极层刻蚀形成第一开孔。以使第一开孔的开孔面积不小于掩膜层中的第二开孔的开孔面积，提高第一电极层的光透过率，从而提高显示面板的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像等功能元件的工作需求。
附图说明
[0030]图1为现有技术中一种显示面板的剖面结构示意图；
[0031]图2为本专利技术的一个实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图；
[0032]图3为本专利技术的一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0033]图4为本专利技术的另一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0034]图5为本专利技术的又一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0035]图6为本专利技术的再一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0036]图7为本专利技术的一个可选实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0037]图8为本专利技术的一个实施例提供的一种显示面板的制备方法的流程示意图；
[0038]图9为本专利技术的一个实施例提供的基板的剖面示意图；
[0039]图10为本专利技术的一个实施例提供的一种未经刻蚀的显示面板的剖面示意图；
[0040]图11为本专利技术的一个实施例提供的一种利用刻蚀光线对第一电极层进行刻蚀的示意图；
[0041]图12为本专利技术的另一个可选实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图；
[0042]图13为本专利技术的一个实施例提供的一种显示装置的示意图。
具体实施方式
[0043]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0044]申请概述
[0045]本专利技术的专利技术人在研究中注意到，为了满足全面屏的要求，通常需要在显示面板中设置一个或多个高透过率显示区，高透过率显示区的光透过率要大于正常显示区的光透过率，以满足屏下指纹或屏下摄像头等功能元件的光学要求。
[0046]高透过率显示区通常需要做一些特殊设计，例如降低高透过率显示区中的像素密度、提高高透过率显示区的材料透明度和减少高透过率显示区的膜层数量等。
[0047]在通过减少高透过率显示区的膜层数量的技术方向中，可以采用将高透过率显示本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板，其特征在于，包括：基板；像素层，所述像素层包括开口区和非开口区，所述像素层还包括位于所述开口区和所述非开口区的第一电极层，所述第一电极层在所述非开口区包括第一开孔；掩膜层，所述掩膜层包括第二开孔；光学层；其中，所述掩膜层位于所述基板和所述光学层之间，所述光学层位于所述掩膜层和所述第一电极层之间，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一开孔在所述基板上的正投影内，所述光学层用于扩散自所述第二开孔入射的刻蚀光线，同时扩散后的所述刻蚀光线对所述第一电极层刻蚀形成所述第一开孔。2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，还包括第一显示区和围绕所述第一显示区的第二显示区；所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述第一显示区内。3.根据权利要求2所述的显示面板，其特征在于，所述第一显示区包括透明显示区和围绕所述透明显示区的过渡区；所述第一开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内，所述第二开孔在所述基板上的正投影位于所述透明显示区内。4.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述光学层包括多个扩散结构，所述扩散结构对应所述第二开孔，所述显示面板还包括：覆盖所述扩散结构的接触绝缘层；所述扩散结构包括扩散表面，所述扩散表面与所述接触绝缘层接触。5.根据权利要求4所述的显示面板，其特征在于，所述扩散结构的折射率小于所述接触绝缘层的折射率；优选地，所述扩散表面包括凸向所述接触绝缘层的弧形表面或凸向所述接触绝缘层的折线...

【专利技术属性】
技术研发人员：高思明，颜志敏，
申请(专利权)人：昆山国显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：