【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】用于激光源的气体吹扫系统
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2019年12月20日提交的名称为“用于激光源的低压气体吹扫系统(LOW PRESSURE GAS PURGE SYSTEM FOR ALASER SOURCE)”的美国申请案第62/951,840号;以及于2020年5月8日提交的名称为“用于激光源的气体吹扫系统(GAS PURGE SYSTEMS FOR A LASER SOURCE)”的美国申请案第63/022,023号的优先权,该等申请案均通过引用的方式整体并入本文中。
[0003]本公开涉及用于在例如光刻装置和系统中使用的激光源中提供气体吹扫系统的系统和方法。
技术介绍
[0004]光刻装置是一种将所需图案施加到衬底上,通常施加到衬底的目标部分上的机器。光刻装置可以用于例如集成电路(IC)的制造中。在这种情况下,图案化设备(其备选地称为掩模或掩模版)可用于产生要形成于所形成的IC的个体层上的电路图案。该图案可以被转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括部分、一个或若干管芯)上。图案的转印通常通过成像到设置于衬底上的辐射敏感材料(光致抗蚀剂,或简称为“抗蚀剂”)层上。通常,单个衬底将包含连续图案化的相邻目标部分的网络。已知的光刻装置包括所谓的步进器,其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分,以及所谓的扫描器,其中通过辐射射束在给定方向(“扫描”方向)上扫描图案,同时与扫描方向平行或相反地同步扫描目标部分来照射每个目标部分。还可以通过将图案压印 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】1.一种激光源,包括:激光腔室,被配置为产生第一激光射束;光学系统,被耦合到所述激光腔室,并且被配置为接收所述第一激光射束并输出输出激光射束;以及气体吹扫系统,被配置为以低于大气压的压力将气体供应到所述光学系统中。2.根据权利要求1所述的激光源,其中所述气体吹扫系统包括:供气泵,被配置为以低于大气压的所述压力将所述气体供应到所述光学系统中。3.根据权利要求2所述的激光源,其中所述气体吹扫系统还包括:第二泵,被配置为从所述光学系统中基本上去除第二气体。4.根据权利要求3所述的激光源,其中所述气体包括氮,并且所述第二气体包括氧。5.根据权利要求1所述的激光源,其中所述气体包括氮,并且所述压力在约50托与约700托之间。6.根据权利要求1所述的激光源,其中:所述光学系统包括第一光学模块和第二光学模块;以及所述气体吹扫系统包括:第一供气泵,被耦合到所述第一光学模块,以低于大气压的所述压力将所述气体供应到所述第一光学模块中;以及第二供气泵,被耦合到所述第二光学模块,以低于大气压的所述压力将所述气体供应到所述第二光学模块中。7.一种激光源,包括:激光腔室,被配置为产生第一激光射束;以及光学系统,被耦合到所述激光腔室,并且被配置为接收所述第一激光射束并输出输出激光射束,其中所述光学系统包括处于低于大气压的压力下的气体。8.根据权利要求7所述的激光源,还包括:气体吹扫系统,被配置为以低于大气压的所述压力将所述气体供应到所述光学系统中。9.根据权利要求8所述的激光源,其中所述气体吹扫系统包括:供气泵,被配置为以低于大气压的所述压力将所述气体供应到所述光学系统中;以及第二泵,被配置为从所述光学系统中基本上去除第二气体。10.根据权利要求9所述的激光源,其中所述气体包括氮,并且所述第二气体包括氧。11.根据权利要求7所述的激光源,其中所述气体包括氮,并且所述压力在约50托与约700托之间。12.根据权利要求7所述的激光源,还包括:第二激光腔室,被配置为至少间接接收所述第一激光射束,并放大所述第一激光射束以产生第二激光射束,其中所述光学系统被配置为接收所述第二激光射束,并输出所述输出激光射束。13.根据权利要求7所述的激光源,还包括:光学模块,被耦合到所述激光腔室,其中所述光学模块包括处于约为大气压的压力下
的第二气体。14.一种激光源,包括:第一激光腔室,被配置为产生第一激光射束;第二激光腔室,被配置为至少间接接收所述第一激光射束,并放大所述第一激光射束以产生第二激光射束;第一光学系统,被配置为将所述第一激光射束引向所述第二激光腔室;第二光学系统,被配置为接收所述第二激光射束,并且引导所述第二激光射束作为所述激光源的输出激光射束;以及气体吹扫系统,被配置为以低于大气压的压力将气体泵送到所述第一光学系统和所述第二光学系统中。15.根据权利要求14所述的激光源,其中所述气体吹扫系统包括:供气泵,被配置为以低于大气压的所述压力将所述气体供应到所述第一光学系统和所述第二光学系统中;以及第二泵,被配置为从所述第一光学系统和所述第二光学系统中基本上去除第二气体。16.根据权利要求14所述的激光源,其中所述气体包括氮,并且所述压力在约50托与约700托之间。17.根据权利要求14所述的激光源,还包括:光学模块,被耦合到所述第一激光腔室,其中所述光学模块包括处于约为大气压的压力下的第二气体。18.根据权利要求14所述的激光源,还包括:光学模块,被耦合到所述第二激光腔室,其中所述气体吹扫系统被配置为以低于大气压的所述压力将所述气体泵送到所述光学模块中。19.一种光刻装置,包括:照射系统,被配置为调节辐射射束;投影系统,被配置为将赋予给所述辐射射束的图案投影到衬底上,其中所述照射系统包括激光源,所述激光源包括:激光腔室,被配置为产生第一激光射束;以及光学系统,被耦合到所述激光腔室,并且被配置为接收所述第一激光射束并输出输出激光射束,其中...
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