【技术实现步骤摘要】
一种乙烯纯化系统
[0001]本技术涉及乙烯生产
,特别涉及一种乙烯纯化系统。
技术介绍
[0002]在集成电路制造中,高纯乙烯主要应用于芯片制造中铝金属表面的介质层薄膜蚀刻,第三代SiC的化学气相沉积、气相外延生长工艺阶段,或64
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128层3D NAND存储器等半导体器件制造工艺中,随着半导体行业的快速发展,高纯乙烯的应用不断增长,纯度要求不断提升。乙烯气体中含有的主要杂质有氧、氮、一氧化碳、二氧化碳、水,以及甲烷、乙烷、乙炔、丙烯、丙烷、丁烯等其他碳氢杂质。现有的一般乙烯纯化系统对乙烯气体原料的纯化程度还不够高,得到的乙烯成品不能满足高纯度的使用要求,或者高纯乙烯的生产效率较低。
技术实现思路
[0003]本技术的主要目的是提出一种乙烯纯化系统,旨在解决现有技术中生产的乙烯成品纯度不够高、生产效率较低的技术问题。
[0004]为实现上述目的,本技术提出一种乙烯纯化系统,包括:
[0005]第一吸附器,其设有第一进料口和第一出料口,所述第一吸附器内设有第一分子筛,所述第 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种乙烯纯化系统,其特征在于,包括:第一吸附器,其设有第一进料口和第一出料口,所述第一吸附器内设有第一分子筛,所述第一分子筛用于吸附水分;第二吸附器,其设有第二进料口和第二出料口,所述第二进料口与所述第一出料口连通,所述第二吸附器内设有活性氧化铝,所述活性氧化铝用于吸附乙烷;第三吸附器,其设有第三进料口和第三出料口,所述第三进料口与所述第二出料口连通,所述第三吸附器内设有第二分子筛,所述第二分子筛用于吸附重组分;第一精馏塔,其设有第四进料口和第四出料口,所述第四进料口设于所述第一精馏塔的中部,所述第四出料口设于所述第一精馏塔的顶部,所述第四进料口与所述第三出料口连通,所述第一精馏塔用于去除重组分;第二精馏塔,其设有第五进料口和第五出料口,所述第五进料口设于所述第二精馏塔的中部,所述第五出料口设于所述第二精馏塔的顶部,所述第五进料口与所述第四出料口连通,所述第二精馏塔用于去除轻组分。2.如权利要求1所述的乙烯纯化系统,其特征在于,所述第一吸附器上设有第一检测出料口,所述第一检测出料口设于所述第一出料口的旁侧,所述第一检测出料口用于检测乙烯气体的含水量。3.如权利要...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈艳珊,傅铸红,谢武中,
申请(专利权)人:广东华特气体股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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