一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法技术

本发明专利技术涉及一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜的评价方法，包括步骤：S1样品制备：选取样品，将样品制成试样，采用拉伸试验机将试样进行拉伸，直至所述试样断裂；S2形貌观测：观测所述试样断口区域氧化膜层的形貌；S3得出评价结果：基于所述氧化膜层的形貌，得出含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价结果。本发明专利技术所述的评价方法，依据脱碳退火后形成的氧化膜层厚度不同，在受到拉伸试验机的拉力作用时，产生的不同形貌为依据，来对脱碳退火后取向硅钢表面形成的氧化膜层的质量进行评价。实现了对氧化膜层质量的快速评价，缩短了氧化膜层的检测周期、提高了生产效率；可在现场根据评价结果及时地对含铜取向硅钢的脱碳退火工艺进行及时地调整。及时地调整。及时地调整。

【技术实现步骤摘要】
一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法


[0001]本专利技术涉及晶粒取向硅钢制造
，特别是涉及一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法。

技术介绍

[0002]含铜一般取向硅钢经冷轧到中间厚度后，在连续脱碳退火机组进行初次再结晶，并同时在带钢表面生成一层2
‑
5μm以二氧化硅为主要成分的氧化膜层，所述的氧化膜层在后续高温退火过程中，与涂敷于带钢表面的硅钢级特种氧化镁隔离剂发生化学反应，生成硅酸镁底层(俗称玻璃膜)，以起到绝缘和产生拉应力改善铁损的作用。因此，脱碳退火处理后形成的氧化膜层对取向硅钢成品的质量影响不可忽视。氧化膜层的厚度太薄，生成的玻璃膜也薄，表面绝缘效果差，产生的拉应力不够，对铁损的改善效果变差，甚至无法遮盖住基体，使成品的晶粒隐约可见(该缺陷成为“隐形露晶”)；氧化膜层过厚，虽然表面质量好，但是不仅对取向硅钢的磁性造成负面影响，还会降低硅钢片的叠片系数，影响用户使用。
[0003]现有技术中，含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价，大多采用场发射扫描电镜测试来判断氧化膜层厚度。使得生产现场的试样必须委托到科研院所进行检测，耗时长且效率低，不能满足现场工艺试验和调整的及时性要求，也不能作为定期检验手段。

技术实现思路

[0004]本专利技术的目的是解决上述问题，提供一种快速准确评价氧化膜层的质量，方便现场工艺试验并及时地调整生产工艺的含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术采用的技术方案，如下所述：
[0006]一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法，包括步骤：
[0007]S1样品制备：选取样品，将所述样品制成试样，采用拉伸试验机将所述试样进行拉伸，直至所述试样断裂；
[0008]S2形貌观测：观测所述试样断口区域氧化膜层的形貌；
[0009]S3得出评价结果：基于所述氧化膜层的形貌，得出含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价结果。
[0010]优选地，步骤S1中，所述样品选自脱碳退火后含铜取向硅钢卷的头样或尾样中的一种或多种。
[0011]优选地，步骤S1中，所述试样采用GB/T228.1
‑
2010规定的方法制得。
[0012]优选地，步骤S1中，所述试样通过铣床制得。
[0013]优选地，步骤S2中，所述氧化膜层的形貌包括氧化膜层呈点状疏松且无脱落、氧化膜层形貌粗糙且无脱落、氧化膜层发生宽度小于2cm的片状脱落以及氧化膜层发生宽度大于2cm的片状脱落。
[0014]优选地，步骤S3中，若氧化膜层呈点状疏松且无脱落，结果为合格；若氧化膜层形貌粗糙且无脱落，结果为不合格；若氧化膜层发生宽度小于2cm的片状脱落，结果为合格；若
氧化膜层发生宽度大于2cm的片状脱落，结果为不合格。
[0015]本专利技术产生的有益效果至少包括：
[0016]本专利技术所述的含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法，依据脱碳退火后形成的氧化膜层厚度不同，在受到拉伸试验机的拉力作用时，产生的不同形貌为依据，来对脱碳退火后取向硅钢表面形成的氧化膜层的质量进行评价。实现了对氧化膜层质量的快速评价，缩短了氧化膜层的检测周期、提高了生产效率；可进行现场试验，根据评价结果及时地对含铜取向硅钢的脱碳退火工艺进行及时地调整。
附图说明
[0017]图1为氧化膜层呈点状疏松且无脱落的状态示意图；
[0018]图2为氧化膜层形貌粗糙且无脱落的状态示意图；
[0019]图3为氧化膜层发生宽度小于2cm的片状脱落的状态示意图；
[0020]图4为氧化膜层发生宽度大于2cm的片状脱落的状态示意图；
[0021]图5为本专利技术所述含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法的流程图。
具体实施方式
[0022]为了便于理解本专利技术，下面将参照相关附图对本专利技术进行更全面的描述。附图中给出了本专利技术的较佳实施例。但是，本专利技术可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本专利技术的公开内容的理解更加透彻全面。
[0023]除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本专利技术的
的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本专利技术的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本专利技术。
[0024]实施例1
[0025]图5为本专利技术所述含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法的流程图，如图5所示，一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价方法，包括步骤：
[0026]S1样品制备：选取样品，将所述样品制成试样，采用拉伸试验机将所述试样进行拉伸，直至所述试样断裂；其中，所述样品选自脱碳退火后含铜取向硅钢卷的头样或尾样中的一种或多种；采用铣床依据GB/T228.1
‑
2010规定的方法制得试样。
[0027]本专利技术实施中制得的试样数量为100个，分别选自脱碳退火后含铜取向硅钢卷的头样或尾样。
[0028]S2形貌观测：观测所述试样断口区域氧化膜层的形貌；所述氧化膜层的形貌包括氧化膜层呈点状疏松且无脱落、氧化膜层形貌粗糙且无脱落、氧化膜层发生宽度小于2cm的片状脱落以及氧化膜层发生宽度大于2cm的片状脱落。
[0029]S3得出评价结果：基于所述氧化膜层的形貌，得出含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价结果。
[0030]图1为氧化膜层呈点状疏松且无脱落的状态示意图，如图1所示，若氧化膜层呈点状疏松且无脱落，结果为合格；图2为氧化膜层形貌粗糙且无脱落的状态示意图，如图2所示，若氧化膜层形貌粗糙且无脱落，结果为不合格；图3为氧化膜层发生宽度小于2cm的片状
脱落的状态示意图，如图3所示，若氧化膜层发生宽度小于2cm的片状脱落，结果为合格；图4为氧化膜层发生宽度大于2cm的片状脱落的状态示意图，如图4所示，若氧化膜层发生宽度大于2cm的片状脱落，结果为不合格。
[0031]本专利技术实施例中，所述试样的数量为100个，将该100个试样先采用场发射扫描电镜进行检测，测得氧化膜层的厚度；然后采用本专利技术所述的评价方法，使用拉力试验机将所述试样拉断后，观测断口区域的氧化膜层的形貌。采用本专利技术所述的评价方法得出的结果与采用电镜扫描测试的氧化膜层厚度的结果对比，如下表所示。
[0032]拉伸后氧化层形貌评价结果电镜检测厚度/μm粗糙无脱落不合格1
‑
2点状疏松无脱落合格2
‑
3小于2cm片状脱落合格3
‑
4大于2cm片状脱落不合格大于4
[0033]由表1可知，当采用本专利技术所述的评价方法，试样断口区域氧化膜层粗糙无脱落，对应的评价结果为不合格的试样，经电镜检测氧化膜层的厚度为1
‑
2μm；试样断口区域氧化膜层呈点状疏松且无脱落，评价结果为合格的试样，经电镜检测氧化膜层的厚度为2
‑
3μm；试本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜的评价方法，包括步骤：S1样品制备：选取样品，将所述样品制成试样，采用拉伸试验机将所述试样进行拉伸，直至所述试样断裂；S2形貌观测：观测所述试样断口区域氧化膜层的形貌；S3得出评价结果：基于所述氧化膜层的形貌，得出含铜取向硅钢脱碳退火后氧化膜层的评价结果。2.根据权利要求1所述的评价方法，其特征在于:步骤S1中，所述样品选自脱碳退火后含铜取向硅钢卷的头样或尾样中的一种或多种。3.根据权利要求1所述的评价方法，其特征在于:步骤S1中，所述试样采用GB/T228.1
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2010规定的方法制得...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈嘉麟，王子航，丁计超，庄强，
申请(专利权)人：西北工业大学，
类型：发明
国别省市：