【技术实现步骤摘要】
反应器、包括其的工艺处理装置及反应器制造方法
[0001]本专利技术涉及等离子体发生装置用反应器、包括其的工艺处理装置及反应器制造方法。
技术介绍
[0002]利用等离子体放电的活性气体广泛地使用于多种领域，典型地，使用于半导体制造工艺，例如，用于蚀刻、蒸镀、清洗及工艺副产物处理等。这种用于半导体制造工艺的等离子体可以在反应器的内部生成，其中，该反应器可以耐受等离子体生成时所产生的热等。
[0003]图1是示出普通的反应器1的一实例的立体图。图2是图1的反应器1的正剖视图。图2中箭头2示出气体及等离子体所移动的路径。
[0004]参照图1及图2，现有的反应器1由具有耐热性的石英材质制成，反应器1可以提供为具有环形体(Toroid)形状的主体5的结构，其上表面设有气体流入的流入口3，其下表面设有排出气体及/或等离子体的排出口4。这种反应器1通常是由多个部件通过相互焊接来组装而成。各个部件是切削加工石英材质的板材而制成，并且，为了切削加工的方便性，在上述形状的反应器1中，包括主体5的部分是由以组装线6为基准来划分...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种反应器，其特征在于，包括：主体，其由多个部件组装，内部设有等离子体形成空间，所述部件之间的组装线形成于，自与所述主体的所述等离子体形成空间内等离子体所集中地区域最接近的区域脱离特定范围的区域。2.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述主体为环形体形状，所述组装线形成于，自与所述主体的环形体的中心部最接近的内侧线脱离特定范围的区域。3.根据权利要求2所述的反应器，其特征在于，所述部件包括：内侧环部件，其包括所述内侧线；及外侧环部件，其包裹所述内侧环部件的外侧。4.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述内侧环部件对应自所述主体的所述内侧线沿外周方向向两侧延长的区域，以垂直于所述主体包裹所述环形体的中心部的方向切断的剖面为基准，所述主体中除了形成有所述流入口及所述排出口的区域，所述内侧环部件占据所述主体的20％至95％以内的范围。5.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述外侧环部件由多个外侧部件构成。6.根据权利要求3所述的反应器，其特征在于，所述主体形成有气体流入所述等离子体形成空间的流入口，及流体自所述等离子体形成空间向外部流出的排出口，所述反应器还包括：流入管，其组装在围绕所述流入口的区域；及排出管，其组装在围绕所述排出口的区域。7.根据权利要求6所述的反应器，其特征在于，还包括：分配部件，其分配通过所述流入管流入的气体，所述分配部件与所述流入管提供为一体。8.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述流入口及所述排出口中的至少一个设置为多个。9.根据权利要求1所述的反应器，其特征在于，所述主体包括多个小主体，各个所述小主体设置为环形体形状，环形体的中心部沿虚拟的直线排列，且包裹各个所述小主体的环形体的中心部的方向与所述直线垂直，所述组装线形成于，自与所述小主体的所述环形体的中心部最接近的内侧线脱离特定范围的区域。10.一种工艺处理装置，其特征在于，包括：工艺室，其对基板进行处理；及等离子体发生装置，其向所述工艺室供应等离子体，所述等离子体发生装置包括由多个部件组装而成的反应器，
所述...
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