以光谱量测物质的物理状态的装置及其方法制造方法及图纸

本发明专利技术是以光谱量测物质的物理状态的装置及其方法，该装置包括：容置一待测物质的第一作用路径、侦测光谱的侦测单元、以及基于该光谱得到关于该待测物质的沉积状态的处理单元。本发明专利技术能在形成沉积物时即提供先期监测，从而可实时观察和/或控制沉积过程，以大大提高良率及自动化程度。高良率及自动化程度。高良率及自动化程度。

【技术实现步骤摘要】
以光谱量测物质的物理状态的装置及其方法


[0001]本专利技术是关于电浆相关制程监控的领域，更特定而言是关于以光谱监控使用电浆进行沉积制程的装置及其方法。

技术介绍

[0002]在先前技术的相关电浆制程的实行中，尤其是例如使用电浆的沉积制程，往往在制程结束后才能对工件的沉积结果进行检查。因此在制程中发生的例如但非限定的沉积不足、沉积过度、杂质等问题无法实时发现，甚至未经发现即流入后段而产生良率风险。
[0003]申请人有鉴于此，经不断研究、实验，遂萌生设计一种以光谱量测物质的物理状态的装置及方法，从而可实时观察和/或控制沉积过程，并大大提高良率及自动化程度。

技术实现思路

[0004]本专利技术的主要目的，即在于提供一种以光谱量测物质的物理状态的装置及其方法。本专利技术可以侦测单元侦测第一作用路径、第二作用路径和/或管体中的物质光谱，且以处理单元基于该光谱得到至少关于待测物质的沉积状态。本专利技术并进而能以处理单元基于关于该待测物质的光谱的变化而控制作用条件。
[0005]专利技术效果
>[0006]因此，本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种以光谱量测物质的物理状态的装置，包括：第一作用路径，其中容置一待测物质；侦测单元，侦测光谱；以及处理单元，基于该光谱得到关于该待测物质的沉积状态。2.如权利要求1所述的以光谱量测物质的物理状态的装置，其中，该侦测单元侦测该第一作用路径中的光谱。3.如权利要求1所述的以光谱量测物质的物理状态的装置，其中，该第一作用路径连通第二作用路径，该待测物质的至少一部分来自该第二作用路径，且该侦测单元侦测该第二作用路径中的光谱。4.如权利要求1所述的以光谱量测物质的物理状态的装置，其中，该第一作用路径以管体连通第二作用路径，该待测物质的至少一部分经该管体而来自该第二作用路径，且该侦测单元侦测该管体中的光谱。5.如权利要求1所述的以光谱量测物质的物理状态的装置，其中，...

【专利技术属性】
技术研发人员：庄宽福，潘瑞宝，
申请(专利权)人：富兰登科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：