一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置制造方法及图纸
A spectrometer for measuring the dissociation state of plasma gas
The utility model is characterized by providing a measuring device for measuring the dissociation state of the plasma gas by using a spectrometer. The principle is mainly to detect the gas dissociation in the tube and calculate the relative value of dissociation by this device, so that when the pollution value of the main path is too high, a second path is used to release the dissociated reaction gas to eliminate the contaminants of the main path, thus making the cleaning of the main path more efficient. Exactly\u3002 The main path and the second path of the main path are combined to accommodate the reaction gas, and the main path is for the industry to make auxiliary deposition, film etching and change the material surface to achieve special functions and effects when manufacturing the product.
【技术实现步骤摘要】
一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置
本技术提供一种应用光谱仪来量测气体解离状态的量测装置。目前一般业界在应用到各种气体时，若遇到有些特殊气体解离的问题，各方均利用除光学方法以外之物理方法或化学方法来侦测及掌控气体的解离状态，进而采用包含但不限于调整气体的流量、配比或处置等解决方案。但截至目前为止，仍然无法得到确切有效的解决方案，是目前业界亟欲努力克服的棘手问题。本技术主要是跳脱上述已知技术而改以利用光谱原理来了解气体的解离状态。本案的特点在于提供一种量测气体解离状态的量测装置，利用本装置侦测管体之气体解离状态并计算出解离相对量值后，作为采用各种对应处置方式时的参考，例如可适量释出被解离的反应气体，以排除气体主路径之污染物，从而使清洁该主路径的作业更为快捷、确实。其原理主要藉由侦测管体内之气体解离状态，并藉由本装置计算出解离相对量值，俾于气体的主路径污染值过高时，由一第二路径适量释出被解离之反应气体，以排除该主路径之污染物，从而使清洁该主路径的作业更为快捷、确实。其中之主路径及结合于该主路径之第二路径供容置反应气体，而该主路径供业界进行电浆辅助沉...
【技术保护点】
一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，包含：一主路径，供半导体积体电路制造时，进行电浆辅助沉积、薄膜蚀刻及改变材料表面；结合于该主路径之第二路径，供容置反应气体；侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置，设于主路径与第二路径之间，藉由该侦测件侦测管体内之气体解离状态，并由光谱仪量测气体解离状态装置计算出解离相对量值。
【技术特征摘要】
2017.01.05 TW 1061002851.一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，包含：一主路径，供半导体积体电路制造时，进行电浆辅助沉积、薄膜蚀刻及改变材料表面；结合于该主路径之第二路径，供容置反应气体；侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置，设于主路径与第二路径之间，藉由该侦测件侦测管体内之气体解离状态，并由光谱仪量测气体解离状态装置计算出解离相对量值。2.根据权利要求1所述的一种应用光谱仪来量测电浆气体解离状态的量测装置，其特征在于，主路径与第二路径之间以管体连结，该侦测件及光谱仪量测气体解离状态装置设于...
【专利技术属性】
技术研发人员：潘瑞宝，
申请(专利权)人：富兰登科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：中国台湾,71
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