全尺寸掩模组件及其制造方法技术

本发明专利技术公开一种全尺寸掩模组件。根据本发明专利技术的一个实施例的全尺寸掩模组件能够包括：框架，其形成有开口部且具有包围上述开口部的支撑部；结构用辅助掩模，其由上述支撑部所支撑，且具有形成格子形态的多个栅条以形成多个结构用辅助掩模开口部；以及多个单元单位掩模，其由上述结构用辅助掩模所支撑且具备使沉积物质通过的沉积图案部。物质通过的沉积图案部。物质通过的沉积图案部。

Full size mask assembly and its manufacturing method

【技术实现步骤摘要】
全尺寸掩模组件及其制造方法
[0001]本专利技术是2018年12月20日所提出的申请号为201811561908.4、专利技术名称为《全尺寸掩模组件及其制造方法》的专利技术专利申请的分案申请。


[0002]本专利技术涉及一种全尺寸掩模组件及其制造方法，更具体地讲，涉及一种用于在基板上沉积沉积物质的全尺寸掩模组件及其制造方法。

技术介绍

[0003]在各种显示器件中，有机发光显示器件(Organic Light Emitting Device，OLED)不仅视角宽、对比度(contrast)优良，而且具有响应速度快的优点。由此，趋势是有机发光显示器件(OLED)的使用领域在逐渐扩大。
[0004]这种有机发光显示器件(OLED)的各电极和包括发光层的中间层可通过各种方法形成，而其中一个方法就是沉积(deposition)法。
[0005]对于中小型有机发光显示器件(OLED)产品而言，制造高分辨率有机发光显示器件(OLED)最大难关在于有机发光显示器件(OLED)制造工艺中生成RGB(红绿蓝)像素的核心即沉积(deposition)工艺。将具有与所要在基板上形成的薄膜等图案相同的图案的精细金属掩模(Fine Metal Mask，以下称为
‘
掩模
’
)对准并沉积薄膜的原材料而形成所期望的图案的薄膜。这种沉积工艺采用如下方法：在位于腔室(chamber)下端的沉积源加热有机物，使所加热的有机物升华并通过位于上部的掩模而沉积在TFT玻璃上。
[0006]在沉积工艺中将掩模与TFT玻璃以防止出现间隔开的部分的方式粘贴而进行沉积。这是由于在产生间隔的情况下因阴影效应而产生沉积缺陷之故。为了进行正确的沉积，厚度为10μm
‑
30μm的掩模应通过绷紧地张拉掩模而成为保持了弹力的状态以与TFT玻璃保持平整度。为了保持掩模绷紧，在掩模的边缘进一步配制用于拉伸的翼片并以能够施加拉力的夹子夹住翼片部分后进行拉伸。将掩模的各孔以与所要在基板上形成的薄膜等图案一致的方式对准之后，将掩模的与边缘重叠的部分焊接到框架上而制作掩模框架。
[0007]在有源矩阵有机发光显示器件(Active Matrix OLED，AMOLED)面板的情况下，大小已到大批量生产用的第六代半，但第七代、第八代等大面积化将不可避免。这是由于只有实现这种大面积化才能通过多面取制作而同时制造大型有源矩阵有机发光显示器件面板之故。
[0008]另外，越是趋于高分辨率就越需要精细的图案化作业。为了进行精细的图案化作业，掩模内的孔的大小和孔的间距须减小。TFT玻璃与掩模之间的配置精密度也要精确。进而，掩模的厚度也要变薄。从而掩模的制作变得更加困难，成品率也急剧下降。另外，若TFT玻璃被大面积化，则用于图案形成的蚀刻误差变大，且由于自重而掩模中央部下垂的现象也变得严重。
[0009]图1a是示出了根据现有技术的拉伸的条形掩模的示意图。
[0010]迄今为止，由于不能以一张为单位制造掩模，因此将多个掩模1a制成条(stick)状
并粘贴在框架上而使用了条形掩模型掩模组件。条形掩模1由多个掩模1a和拉伸所需的翼片构成。
[0011]随着高分辨率大面积化，条形掩模1的宽度和长度也在增加，由此构成条形掩模1的掩模1a的个数和各个掩模大小也在增加。条形掩模1也要制成高分辨率大面积，但由于难以确保蚀刻均匀性，因而在制作上存在困难。另外，在为了将按照设计图制作的条形掩模1固定成绷紧的状态而施加拉力的情况下，存在条形掩模1变形或掩模表面起皱等问题。
[0012]另外，用夹子夹住拉伸的条形掩模1的翼片以将按照设计图制作的条形掩模1固定成绷紧的状态，而在该情况下拉伸时发生问题。
[0013]图1b是示出了根据现有技术的拉伸的条形掩模1的变形状态的示意图。
[0014]使条形掩模1在沿着长度方向(以下称为
‘
Y方向
’
)被拉伸而张拉成绷紧的状态下与条形掩模组件配合。如图1b中所图示，若张拉条形掩模1，则在与条形掩模1的长度垂直的方向(以下称为
‘
X方向
’
)上发生收缩，条形掩模1的长度越长，各掩模1a的收缩程度就越大。
[0015]目前，条形掩模1只能在Y方向上拉伸而在X方向上就不能拉伸。因此，需要在X方向上进行校正，对此实际情况是在设计条形掩模1时考虑对于X方向的收缩而进行设计。
[0016]然而，实际上为了制作条形掩模组件而施加于条形掩模1的拉力不同于设计时所考虑的拉力。因此，在生产条形掩模组件时在对于X方向的R、G、B位置发生错误。从而存在条形掩模1的分辨率越是提高或长度越是拉长，这种错误就越频繁发生的问题。
[0017]图2是用于说明在框架上焊接根据现有技术的条形掩模1的情况下发生的问题的示意图。
[0018]如图2中所图示，为了生产条形掩模组件，将条形掩模1拉伸并对准R、G、B位置，之后从条形掩模的上部将条形掩模1的焊接区域1b焊接到框架上。在该情况下，焊接区域1b以仅支撑条形掩模1的两头边缘的方式焊接于框架。
[0019]条形掩模组件在以一定使用次数使用之后必须进行掩模清洁。此时，条形掩模1由于仅有两端固定于框架，因而机械强度弱，从而存在在清洁和保管步骤中容易从框架上脱落的问题。
[0020](现有技术文献)
[0021](专利文献)
[0022](专利文献1)授权专利公报第10
‑
1742816号(2017年06月02日)

技术实现思路

[0023]所要解决的问题
[0024]本专利技术所要解决的一个技术问题在于提供一种克服现有条形掩模的制造极限及掩模大面积化的技术极限并提高掩模的精密度及机械强度的全尺寸掩模组件。
[0025]本专利技术所要解决的另一技术问题在于提供一种能够在X方向和Y方向上对单元单位掩模施加拉力而提高像素位置精度(PPA，Pixel Position Accuracy)的全尺寸掩模组件。
[0026]解决问题的方案
[0027]为了解决上述技术问题，本专利技术提供一种利用了单元单位掩模的全尺寸掩模组件。
[0028]根据本专利技术的一个实施例的全尺寸掩模组件能够包括：框架，其形成有框架开口部且具有包围上述框架开口部的支撑部；结构用辅助掩模，其由上述支撑部所支撑，且具有形成格子形态的多个栅条以形成多个结构用辅助掩模开口部；以及多个单元单位掩模，其由上述结构用辅助掩模所支撑且具备使沉积物质通过的沉积图案部。
[0029]根据一个实施例，各个上述单元单位掩模能够单独地与上述结构用辅助掩模配合。
[0030]根据一个实施例，第一位置对准孔位于上述沉积图案部的某一侧棱边，上述第一位置对准孔设置成在竖直方向上能够对准上述结构用辅助掩模开口部内。
[0031]根据一个实施例，第二位置对准孔是从上述沉积图案部中提供的多个基准孔，上述第二位置对准孔的中心能够对准成本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全尺寸掩模组件，其特征在于，包括：框架，其形成有框架开口部且具有包围上述框架开口部的支撑部；结构用辅助掩模，其由上述支撑部所支撑，具有形成格子形态的多个栅条以形成多个结构用辅助掩模开口部；以及，多个单元单位掩模，其由上述结构用辅助掩模所支撑，具备使沉积物质通过的沉积图案部，上述栅条包括：在第一方向上支撑上述单元单位掩模的第一单元单位支撑部；在与上述第一方向正交的第二方向上支撑上述单元单位掩模的第二单元单位支撑部；在上述第一单元单位支撑部与上述第二单元单位支撑部之间的区域彼此隔开的单元单位间隔部；以及从边缘突出延伸的突出部，上述突出部包括在被拉伸的状态下焊接接合到上述框架的框架配合部，上述沉积图案部还包括从上述沉积图案部中提供的多个基准孔制成的第二位置对准孔，上述第二位置对准孔的中心能够对准成在竖直方向上与TFT玻璃的TFT位置相互一致，以指定上述单元单位掩模的水平方向的位置，上述单元单位掩模在下表面上还包括两个以上的单元单位配合部以个别地固定到上述结构用辅助掩模的上表面上；上述单元单位配合部是并排配置的多个焊接点，上述焊接点是利用设置于所述全尺寸掩模组件的下方的焊接用激光将上述单元单位掩模固定到上述结构用辅助掩模上形成的，使得焊接时产生的毛刺不会在沉积时导致上述单元单位掩模的上表面与TFT玻璃的下表面之间出现浮动，由于上述单元单元掩模相对于TFT位置对准，所以只要上述框架和上述结构辅助掩模不干扰上述沉积图案部，上述框架和上述结构辅助掩模可以制造为允许大加工误差。2.一种全尺寸掩模组件制造方法，其使各个单元单位掩模与形成于结构用辅助掩模的结构用辅助掩模开口部...

【专利技术属性】
技术研发人员：金正镐，
申请(专利权)人：KPS株式会社，
类型：发明
国别省市：