研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及分析测试装备技术领域，提供一种研磨装置，包括：箱体、升降机构及研磨机构，升降机构和研磨机构均设于箱体内，研磨机构包括研钵、研钵座及研磨杵，研钵设于研钵座上，升降机构与研磨杵连接，在升降机构的带动下，研磨杵能够相对所述研钵在第一状态和第二状态之间切换，在研磨杵处于第一状态下，研磨杵位于研钵外，研钵能够脱离于箱体；在研磨杵处于第二状态下，研磨杵位于研钵内，通过升降机构带动研磨杵升降实现研钵在研磨装置中的自由取放，便于上下料及清理操作，缩短了溴化钾粉末在空气中的暴露时间，从而减小了空气湿度对溴化钾粉末的影响，提高了红外光谱分子检测的准确性。测的准确性。测的准确性。

Grinding device

【技术实现步骤摘要】
研磨装置


[0001]本技术涉及分析测试装备
，尤其涉及一种研磨装置。

技术介绍

[0002]红外光谱是基于分子振动能级的变化，用红外光照射样品分子时，分子中的化学键或官能团可发生振动吸收，不同的化学键或官能团吸收频率不同，在红外光谱上将处于不同位置，从而可获得分子中含有何种化学键或官能团的信息。固体粉末样品在进行红外光谱测试前，需将其研磨至颗粒度两微米以下，然后进行压片，一些黑色样品甚至需要研磨得更加精细。
[0003]由于溴化钾粉末的中红外透射性能好且易于压片制样，因此红外粉末制样的基底一般使用溴化钾，将其与样品混合一同研磨制片，起到稀释样品的作用。但溴化钾粉末暴露在空气中极易吸收水分，该水分不易去除且红外吸收峰很强影响检测结果，为解决这一问题，现有技术中选择在研磨装置中设置干燥机构对正在研磨或研磨过的粉末进行烘干处理，然而，该装置在将样品从装置中拿出时，需要将研磨机构整体从箱体中取出，从结束研磨到将粉末送入压片机进行压片这一过程需要耗费较长的时间，会导致样品再次长时间暴露在空气中吸收水分，而且研磨后的热样品遇冷空气更容易吸水。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种研磨装置，用以解决现有技术中研磨装置制作的红外粉末在空气中暴露时间过长，易导致粉末吸水影响检测结果的问题。
[0005]本技术提供一种研磨装置，包括：箱体、升降机构及研磨机构；
[0006]所述升降机构和所述研磨机构均设于所述箱体内，所述研磨机构包括研钵、研钵座及研磨杵，所述研钵设于所述研钵座上，所述升降机构与所述研磨杵连接，在所述升降机构的带动下，所述研磨杵能够相对所述研钵在第一状态和第二状态之间切换；
[0007]其中，在所述研磨杵处于所述第一状态下，所述研磨杵位于所述研钵外，所述研钵能够脱离于所述箱体；在所述研磨杵处于所述第二状态下，所述研磨杵位于所述研钵内。
[0008]根据本技术提供的研磨装置，所述升降机构包括：第一支架、第二支架、凸轮以及凸轮轴；
[0009]所述第一支架设有腔体，所述腔体具有开口，所述第二支架滑动设于所述腔体中，至少部分所述第二支架突出于所述开口；
[0010]所述第二支架位于所述腔体内的部分设有通孔，所述凸轮活动设于所述通孔内，所述凸轮轴的一端与所述凸轮连接，所述凸轮轴的另一端穿设于所述箱体，在所述凸轮轴的带动下，所述凸轮能够绕其轴线转动，以带动所述第二支架相对所述第一支架移动。
[0011]根据本技术提供的研磨装置，所述研磨机构还包括相对布置的摇杆组件和第一驱动件，所述摇杆组件与所述第一驱动件分别设于所述第二支架的两侧；
[0012]所述摇杆组件的一端连接于所述研磨杵，所述摇杆组件的另一端与所述第一驱动
件动力耦合连接，在所述第一驱动件的作用下，所述摇杆组件能够带动所述研磨杵在所述研钵内摆动。
[0013]根据本技术提供的研磨装置，所述摇杆组件包括曲柄、连杆及摇杆；所述曲柄、所述连杆和所述摇杆依次连接形成连杆结构，其中，所述曲柄连接于所述第一驱动件的输出端，所述摇杆连接于所述研磨杵。
[0014]根据本技术提供的研磨装置，所述研磨机构还包括压紧组件；所述压紧组件包括：连接件、弹性件、固定件及压紧件；
[0015]所述连接件连接于所述摇杆，所述连接件设有中空容纳腔，所述弹性件设于所述容纳腔内；所述固定件设于所述连接件背离所述摇杆的一端，所述研磨杵通过所述固定件与所述连接件连接；所述压紧件螺纹连接于所述连接件远离所述研磨杵的一端，所述弹性件压紧设置于所述固定件与所述压紧件之间。
[0016]根据本技术提供的研磨装置，所述研磨机构还包括第二驱动件和齿轮组件；
[0017]所述第二驱动件的输出端与所述齿轮组件的输入端动力耦合连接；
[0018]所述齿轮组件的输出端与所述研钵座连接，在所述第二驱动件的作用下，所述齿轮组件能够带动所述研钵座转动，以使所述研钵座带动所述研钵绕其轴线转动。
[0019]根据本技术提供的研磨装置，所述齿轮组件包括第一齿轮和第二齿轮；
[0020]所述第一齿轮和所述第二齿轮啮合连接，所述第二驱动件的输出端与所述第一齿轮同轴连接，所述研钵座与所述第二齿轮的输出端同轴连接。
[0021]根据本技术提供的研磨装置，所述箱体包括基座和侧板，所述基座的一侧敞口设置，所述侧板盖设于所述敞口处，所述侧板与所述研钵座连接。
[0022]根据本技术提供的研磨装置，所述研磨装置还包括红外灯，所述红外灯设于所述箱体内，所述红外灯的光源朝向所述研钵设置。
[0023]根据本技术提供的研磨装置，所述研磨装置还包括转速调节旋钮，所述转速调节旋钮与所述第一驱动件和/或所述第二驱动件连接，用于调节所述第一驱动件和/或所述第二驱动件的转速。
[0024]本技术实施例提供的研磨装置，通过在研磨机构上连接升降机构，以带动研磨机构中的研磨杵上下移动，在需要利用研磨杵对研钵内的粉末进行研磨时，利用升降机构向下移动研磨杵，以将研磨杵放置于研钵内，在需要将研钵取出，以对其中的粉末进行转移操作以及清洗研钵时，利用升降机构向上移动研磨杵，以使研磨杵置于研钵外，方便将研钵从研磨装置中取出。通过升降机构带动研磨杵升降实现研钵在研磨装置中的自由取放，便于上下料及清理操作，缩短了溴化钾粉末在空气中的暴露时间，从而减小了空气湿度对溴化钾粉末的影响，提高了红外光谱分子检测的准确性。
附图说明
[0025]为了更清楚地说明本技术或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0026]图1是本技术提供的研磨装置的整体结构示意图；
[0027]图2是本技术提供的研磨装置的局部结构示意图之一；
[0028]图3是本技术提供的研磨装置的局部结构示意图之二；
[0029]图4是本技术提供的研磨装置的局部结构示意图之三；
[0030]图5是本技术提供的研磨装置在第二状态下的结构示意图；
[0031]图6是本技术提供的研磨装置在第一状态下的结构示意图之一；
[0032]图7是本技术提供的研磨装置在第一状态下的结构示意图之二；
[0033]附图标记：
[0034]1：箱体；11：基座；12:侧板；13：第二握持部；2：升降机构；21：第一支架；22：第二支架；23：凸轮；24：凸轮轴；25：转杆；251：连接部；252：第一握持部；3：研磨机构；31：研钵；32：研钵座；33：研磨杵；34：摇杆组件；341：曲柄；342：连杆；343：摇杆；35：第一驱动件；36：压紧组件；361：连接件；362：弹性件；363：固定件；364：压紧件；37：第二驱动件；38：本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种研磨装置，其特征在于，包括：箱体、升降机构及研磨机构；所述升降机构和所述研磨机构均设于所述箱体内，所述研磨机构包括研钵、研钵座及研磨杵，所述研钵设于所述研钵座上，所述升降机构与所述研磨杵连接，在所述升降机构的带动下，所述研磨杵能够相对所述研钵在第一状态和第二状态之间切换；其中，在所述研磨杵处于所述第一状态下，所述研磨杵位于所述研钵外，所述研钵能够脱离于所述箱体；在所述研磨杵处于所述第二状态下，所述研磨杵位于所述研钵内。2.根据权利要求1所述的研磨装置，其特征在于，所述升降机构包括：第一支架、第二支架、凸轮以及凸轮轴；所述第一支架设有腔体，所述腔体具有开口，所述第二支架滑动设于所述腔体中，至少部分所述第二支架突出于所述开口；所述第二支架位于所述腔体内的部分设有通孔，所述凸轮活动设于所述通孔内，所述凸轮轴的一端与所述凸轮连接，所述凸轮轴的另一端穿设于所述箱体，在所述凸轮轴的带动下，所述凸轮能够绕其轴线转动，以带动所述第二支架相对所述第一支架移动。3.根据权利要求2所述的研磨装置，其特征在于，所述研磨机构还包括相对布置的摇杆组件和第一驱动件，所述摇杆组件与所述第一驱动件分别设于所述第二支架的两侧；所述摇杆组件的一端连接于所述研磨杵，所述摇杆组件的另一端与所述第一驱动件动力耦合连接，在所述第一驱动件的作用下，所述摇杆组件能够带动所述研磨杵在所述研钵内摆动。4.根据权利要求3所述的研磨装置，其特征在于，所述摇杆组件包括曲柄、连杆及摇杆；所述曲柄、所述连杆和所述摇杆依次连接形成连杆结构，其中，所述曲柄连接于所述第一驱动件的输出端，所述摇杆连接于所述研磨杵。...

【专利技术属性】
技术研发人员：曾翔宇，
申请(专利权)人：中国科学院理化技术研究所，
类型：新型
国别省市：