一种可精确调节温度的化学反应釜制造技术

本实用新型专利技术公开了一种可精确调节温度的化学反应釜，旨在解决反应釜内出现沉淀分层的状况导致反应釜工作时间加长，使得反应釜产出的化工原料反应不充分的问题。其技术方案要点是：一种可精确调节温度的化学反应釜，包括反应釜本体以及设置在反应釜本体内部的搅拌装置，搅拌装置包括搅拌电机、与搅拌电机的输出轴固定连接的转动轴以及设置在转动轴外壁的若干搅拌杆，若干搅拌杆均呈L型设置，若干搅拌杆从上自下的长度依次减小，搅拌装置的正下方设置有第一扩散装置。本实用新型专利技术的一种可精确调节温度的化学反应釜，能够对沉淀在反应釜本体底部的原料进行再次搅动处理，使得原料能够被搅拌充分而不出现分层的状况。被搅拌充分而不出现分层的状况。被搅拌充分而不出现分层的状况。

【技术实现步骤摘要】
一种可精确调节温度的化学反应釜


[0001]本技术涉及化工生产
，更具体地说，它涉及一种可精确调节温度的化学反应釜。

技术介绍

[0002]化工设备是化工机械的一部分，化工机械包括两部分，其一是化工机器，主要是指诸如流体输送的风机、压缩机、各种泵等设备，其主要部件是运动的机械，一般称为化工机器，其二是化工设备主要是指部件是静止的机械，诸如塔器等分离设备，容器、反应器设备等，有时也称为非标准设备，化工机械与其他机械的划分不是很严格的，例如一些用于化工过程的机泵，也是其他工业部门采用的通用设备，同样在化工过程中化工机器和化工设备间也没有严格的区分，例如一些反应器也常常装有运动的机器，化工反应釜是化工设备的一种。然而现有的化工反应釜在使用时存在搅拌混合程度差、搅拌效果差和反应时间长的缺点。
[0003]针对上述问题，公开号为CN208494230U的中国专利公开的一种可充分搅拌物料的化工反应釜，包括底座、缓冲板、釜体和驱动电机，底座设有内腔，底座内腔侧壁设有第一滑轨，第一滑轨与第一滑块相配合，第一滑块设置在缓冲板底部的两端，缓冲板底部两端对称设有第一楔形块，第一楔形块底部与第二楔形块抵接配合，第二楔形块之间设有减震弹簧，第二楔形块底部设有第二滑块，第二滑块与第二滑轨相配合，第二滑轨对称设置在底座内腔底部。
[0004]上述方案的化工反应釜通过横向叶片与螺旋叶片之间的相互配合，提高了反应原料的搅拌混合程度和搅拌效果，进而提高了原料的反应进程，节省了反应时间，提高了化工反应釜的实用性。
[0005]但是在化工反应釜工作的过程中对化工原料进行搅拌和反应，在搅拌的过程中呈颗粒状的原料在自身重力的作用下逐渐地沉降以及堆积在反应釜的底部，使得反应釜内出现沉淀分层的状况，进而会导致反应釜需要工作的时间加长，使得反应釜产出的化工原料反应不充分。

技术实现思路

[0006]针对现有技术存在的不足，本技术的目的在于提供一种可精确调节温度的化学反应釜，对沉淀在反应釜本体底部的原料进行再次搅动处理，使得原料能够被搅拌充分而不出现分层的状况。
[0007]本技术的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种可精确调节温度的化学反应釜，包括反应釜本体以及设置在反应釜本体内部的搅拌装置，所述搅拌装置包括搅拌电机、与搅拌电机的输出轴固定连接的转动轴以及设置在转动轴外壁的若干搅拌杆，若干所述搅拌杆均呈L型设置，若干所述搅拌杆从上自下的长度依次减小，所述搅拌装置的正下方设置有第一扩散装置，所述第一扩散装置包括第一扩散电机、与第一扩散电机
的输出轴固定连接的第一齿轮、与第一齿轮相啮合的若干第二齿轮以及设置在第二齿轮上的扩散叶，若干所述第二齿轮呈环形阵列分布在第一齿轮外壁，所述扩散叶呈倾斜设置在第二齿轮上。
[0008]通过采用上述技术方案，在化学反应釜正常工作时，将需要进行反应的化工原料加入到反应釜本体内，同时打开搅拌电机，使得搅拌电机打开驱动转动轴在反应釜本体内转动，进而转动轴带动外壁上的若干搅拌杆进行转动，且若干搅拌杆从上自下的长度依次减小，在搅拌杆转动时能够使得化工原料在反应时根据搅拌杆形成的锥形形状结构快速运动混合，且混合速度快，而在搅拌装置对化工原料搅拌的时候，化工原料会在自身重力的作用下逐渐地进行沉淀，使得原料会出现分层的状态，此时再打开第一扩散装置，使得第一扩散电机启动而带动第一齿轮开始转动，在第一齿轮转动时能够带动第一齿轮外壁的若干第二齿轮进行转动，而第二齿轮转动之后带动呈倾斜设置的扩散叶在反应釜本体底部进行转动，进而对沉淀在反应釜本体底部的原料进行进一步的扩散和搅拌，且呈倾斜设置的扩散叶能够与原料充分接触，能够防止原料出现沉淀和分层的状况，保证原料反应充分。
[0009]本技术进一步设置为：所述第一齿轮外设置有直径大于第一齿轮的内齿轮，若干所述第二齿轮均与内齿轮相啮合。
[0010]通过采用上述技术方案，当第一齿轮带动第二齿轮进行转动时能够实现第二齿轮沿着内齿轮的内壁进行转动，此时第二齿轮上的扩散叶能够在自转的同时进行公转，使得扩散叶扩散原料的效果更好。
[0011]本技术进一步设置为：所述第一齿轮上设置有呈菱形的搅拌轴。
[0012]通过采用上述技术方案，呈菱形设置的搅拌轴能够实现原料快速地在反应釜本体底部开始扩散，且能够进一步防止原料出现沉淀分层的状况。
[0013]本技术进一步设置为：所述反应釜本体的两端均设置有第二扩散装置，所述反应釜本体的两端开设有供第二扩散装置活动的内槽，所述第二扩散装置包括第二扩散电机、与第二扩散电机的输出轴固定连接的第三齿轮、倾斜固定连接在第三齿轮上的驱动杆以及固定连接在驱动杆上的扩散板。
[0014]通过采用上述技术方案，在第一扩散装置启动的同时打开第二扩散电机，使得第三齿轮开始转动，而第三齿轮的转动能够带动驱动杆的转动，驱动杆呈倾斜设置在第三齿轮上，使得驱动杆带动扩散板在反应釜本体内转动时的范围增大，同时能够增加扩散板扩散原料的效果，使得沉淀和堆积的原料能够再一次地被扩散和搅拌，能够防止原料的堆积沉淀而导致原料没有被反应充分就出料的问题出现。
[0015]本技术进一步设置为：所述扩散板呈弧形设置。
[0016]通过采用上述技术方案，呈弧形设置的扩散板能够充分地与沉淀在反应釜本体内的化工原料充分接触，使得沉淀的化工原料能够被快速扩散然后进行搅拌，进而使得产出的化工原料都是反应充分的。
[0017]本技术进一步设置为：所述反应釜本体上设置有固定块，所述驱动杆的两端均固定连接有连接块，所述连接块与固定块转动连接。
[0018]通过采用上述技术方案，当驱动杆随着第三齿轮的转动进行驱动时，驱动杆会以连接块与固定块的连接点为支撑点进行转动，使得驱动杆能够带动扩散板进行大幅度翻转，同时扩散板的转动范围进一步增大，进而增加扩散板扩散原料的效果。
[0019]本技术进一步设置为：所述反应釜本体的内部设置有温度传感器，所述温度传感器通过电性连接有控制面板。
[0020]通过采用上述技术方案，温度传感器检测反应釜本体内的温度，同时能够控制反应釜本体内的温度在一定范围内，避免温度过高或者过低影像化学反应，且能够将反应釜本体内的温度显示到控制面板上供工作人员查看，使得工作人员能够对反应釜本体内的温度及时处理。
[0021]综上所述，本技术具有以下有益效果：通过第一扩散装置和第二扩散装置对沉淀在反应釜本体底部的化工原料进行再次搅动处理，使得原料能够被搅拌充分而不出现分层的状况，进而保证原料在被搅拌以及反应充分之后再进行出料。
附图说明
[0022]图1为本技术的反应釜本体、第一扩散装置和第二扩散装置的结构示意图；
[0023]图2为本技术的第一齿轮和第二齿轮的结构示意图。
[0024]图中：1、反应釜本体；2、转动轴；3、搅拌杆；4、温度传感器；5、控制面板；6、内齿轮；7、搅拌轴；8、扩散叶；9、第三齿轮；1本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种可精确调节温度的化学反应釜，包括反应釜本体(1)以及设置在反应釜本体(1)内部的搅拌装置，其特征在于：所述搅拌装置包括搅拌电机、与搅拌电机的输出轴固定连接的转动轴(2)以及设置在转动轴(2)外壁的若干搅拌杆(3)，若干所述搅拌杆(3)均呈L型设置，若干所述搅拌杆(3)从上自下的长度依次减小，所述搅拌装置的正下方设置有第一扩散装置，所述第一扩散装置包括第一扩散电机、与第一扩散电机的输出轴固定连接的第一齿轮(14)、与第一齿轮(14)相啮合的若干第二齿轮(15)以及设置在第二齿轮(15)上的扩散叶(8)，若干所述第二齿轮(15)呈环形阵列分布在第一齿轮(14)外壁，所述扩散叶(8)呈倾斜设置在第二齿轮(15)上。2.根据权利要求1所述的一种可精确调节温度的化学反应釜，其特征在于：所述第一齿轮(14)外设置有直径大于第一齿轮(14)的内齿轮(6)，若干所述第二齿轮(15)均与内齿轮(6)相啮合。3.根据权利要求1所述的一种可精确调节温度的化学反应釜，其特征在于：所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：卜正兵，杜少帅，罗宁，邱美玲，
申请(专利权)人：浙江荣凯科技发展股份有限公司，
类型：新型
国别省市：